Контактный растр
ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕИ ИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Союз Советских
Социалистических
Республик
Зависимое от авт. свидетельства №
Заявлено 04.1.1970 (№ 1391669/28-12) с присоединением заявки №
Приоритет
Опубликовано 05.V.1972. Бюллетень № 15
Дата опубликования описанич 7Х1.1972
М. Кл. G 03f 7/02
Комитет по делам изобретений и открмтий при Совете Министров
СССР
УДК 912:77.02,776 (088.8) Автор изобретения
Н. С. Пивоваров
Киевская фабрика цветной печати
Заявитель
F
, щц31,тт. - .
ВИ&11 - - -"
КОНТАКТНЫЙ РАСТР колько большей плотностью растровых элементов в центральной части растра по сравнению с плотностью растровых элеМСНТОВ В,ПЕРИФЕРИЙНЫХ У 1аСТКВХ ЭТОГО Жт
5 контактно",о растра.
Контактный растр при использовании его эффекта устанаВЛВВа!От В,Г10ложе?1пе, це?1тр11рованное относитсльно главной оптической оси объектива фотоа|ппарата, относительно
1р которой и происходит падение освещенности по полю изображения на матовом стекле фотоаппарата или экрана репродукционного фотоувеличителя.
1. Контактный растр, состоящий из растровых элементов с одной и той же формой профиля плотностей в каждом из элементов, от2р личаюи1ийся тем, что, с целью обеспечения ,при растрировании равномерной освещенности поля изображения, интегральный уровень плотности растровых элементов в его центральной части больше, чем уровень плотно25 сти их на периферийных участках и соответстьует кривой падения освещенности поля изображения.
2. Контактн ый растр по п. 1, отлича1ощийся тем, что закономерность измерения в нем инИзобретение относится к контактным растрам, применяемым в офсетной и высокой печати.
Известен контактный растр, состоящий из рядом раоположенных однотипных растровых элементов, оптическая плотность в ка?кдом из,которых уменьшается от центра (ядра элемента) к краям элемента в соответствии с задаваемым профилем плотностей элемента контактного растра. ,Предложенный растр обеспечивает при растрировании равномерную освещенность поля изображения.
Это достигается тем, что контактный растр по центру и периферийным участкам имеет растровые элементы разли шой плотности при,постоянстве остальных характеристик контактного растра: величины интервала плотностей между ядром и,просветом элемента, формы профиля, плотностей растрового элемента по всей площади для одного и того же контактяого растра.
Характер изменения интегрального уровня плотности растровых элементов в зависимости от их расположения на контактном растре выбирают в соответствии с падением освещенности на матовом стекле,по полю изображения, так что относительный избыток освещенности в центре поля компенсируется несПредмет изобретения
337755
Составйтель Г. Васин
Техред Л. Богданова
Редактор Т. Рыбалова
Корректор Т. Гревцова
Заказ 1531/2 Изд. № 574 Тираж 44В Подписное
ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР
Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Типография, пр. Сапунова, 2 тегрального уровня плотности растровых элементов соответствует закономерности распределения освещенности, обеспечиваемой в поле изобрааения фоторепродукционным аппаратом, для работы с которым предназначается контактный растр.
