Оптическая система

 

о 56527

ОП ИСАНИЕ

И ЗОБ РЕТЕ Н И Я

Союз Соввтсиих

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 13.01.75 (21) 2097067/10 с pðèñoåäèèåíèåì заявки Л вЂ” (51) М. Кл. G 02В 27/18

Государственный комитет

Совета Министров СССР па делам изобретений и открытий (23) Приоритет— (43) Опубликовано 15.07.?7. Бюллетень № 26 (53) УДК 535.88 (088.8) (45) Дата опубликования описания 07.10.77 (72) Авторы изобри ения

Л. П, Грамматин и Л, А. Багдасаров (71) 3 а явнтель (54) ОПТИЧЕСКАЯ СИСТЕМА

Изобретение относится к проекционным системам, в частности, для проекции изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину при производстве микроэлектронных схем.

Известны проекционные системы, в которых осуществляется одновременный перенос изображений всех элементов фотошаблона на полупроводниковую пластину с высоким разрешением по всему полю зрения системы (1).

Однако вследствие недостаточной глубины резкости таких систем возможность использования их для проекции изображений обьектов на поверхность со значительными отступлениями от плоскости, например поверхность полупроводниковой пла стины, ограничена.

Для уменьшения влияния неплоскостности фоточувствительной поверхности полупроводниковой пластины используют системы с автоматической фокусировкой (2), В этих системах при одновременном перемещении фотошаблона и полупроводниковой пластины соблюдение постоянства масштаба в процессе экспонирования обеспечивается за счет выполнения системы из двух одинаковых объективов, что, в свою очередь, приаодит к уве-. личению расстояния между предметом и изображением, для уменьшения которого требуется излом оптической оси.

Системой, в которой учтены указанные

2 выше требования, является проекционная система (3, 4, 5) с увеличением «+1», содержащая два одинаковых объектива с вогнутым зеркалом в каждом из них, размещенную в между ними полевую диафрагму и установленные соответственно перед первым п за вторым объективами плоские отражатели, наклоненные к их оптическим осям на 45" .

Однако эта система имеет лоле зрения малых

1п размеров пз-за чего снижается производительность процесса изготовления микросхем, В предлагаемой системс для увслпчс гия ноля изображения каждый пз объективов выполнен не менее, чем из двух компонентов, !

5 крайние из которых жсстко скреплены соответственно с вогнутым зеркалом и с плоским отражателем, а расстоянпс между оптическими осями объективов равно удвоенному расстоянию от центра диафрагмы до оптической

20 осп одного из ннх.

Описываемая система, показанная на чертеже, служит для проекции изображения части фотошаблона 1 .па параллельную ему полупроводниковую пластину 2 в однократном

25 масштабе без оборачивания. Система содержит два одинаковых объектива, каждый из которых составлсн из двух компонентов 3 и 4 (первый объектив) и 5 и 6 (второй объектив), при этом с компонентами 3 и 5 соответ30 ственно жестко связаны отражатели 7 н 8, 565272

Составитель Г. Литвин

Техред В, Рыбакова

Корректор Л. Денискина

Редактор С, Хейфиц

Подписное

Заказ 5803

Изд. ¹ 581 Тираж 633

НПО Государственного комитета Совета Министров СССР

IIo делач изобретений и открытий

1! 3035. Москва, )K-35, Раушская наб., д. 4/б

МОТ, Загорск|ш филиал наклоненные на 45 к оптическим осям объективов, а с компонентами 4 и 6 — вогнутые зеркала 9 и 10.

Изображение части фотошаблона 1 отражателем 7, первым объективом из элементов

3, 4, 9 формируется в плоскости полевой диафрагмы 11, совпадающей с плоскостью п рсдмета второго объектива из элементов 5, 6, 10, оптическая ось 12 которого смещена от центра диафрагмы 11 на половину расстояния

3ToH ocn $o опти11сской осп 13 ncpBof о объектива.

Благодаря компенсации аберраций объективов за счет параллельного смещения пх оптических осей в описанной схеме увеличено поле изобра>кения.

Формула изобретеlIпя

Оптическая система с увеличением «плюс единица», например, для проекции пзобра>кснця фотошаблона на параллельную ему полупроводниковую пластину, содержащая два одинаковых обьектива с вогнутым зспкалом в каждо vl из цпх, размещенную между ними

4 полевую диафрагму и установленные соответственно перед первым и за вторым объективами плоские отражатели, наклоненные к их оптическим осям на 45, о т л и ч à 1о щ а я с я том, что, с целью увеличения поля изображения, каждый из объективов выполнен не менее, чем из двух компонентов, крайнис из которых жестко скреплены соответственно с вогнутым зеркалом и с плоским отра>катслсм, 10 а расстояние между оптическими осями объективов равно удвоенному расстоянию от центра диафрагмы до оптической осп одного

ПЗ 11ИХ.

Источники информации, 18 принятые во внимание прп экспертизе

1. Авторское свидетельство № 310585, 6 02В 17/08, 1970.

2. Авторское свидетельство № 254815, G 02В 11/34, 1969.

3. Авторское свидетельство № 354389, G 02В 21/02, 1972.

4. Авторское свидетельство ¹ 439778, G 02В 17/08, 1974.

5. «Solid Яа!е Technology»,,!û÷å 1974, 28 р. 50 — 53 (прототип) .