Композиция,чувствительная к облучению

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К flAYEHT3f

Союз Советских

Социалистических

Республик (ll); 61 8064 (С1) Дополнительный к патенту(22) Заявлеио01.09.72 (23) 1826337/04

2 (5l) М. Кл, Ст ОЗ С 1/68 (23) Приоритет — (32) 03.09.71

Гасударственный квинтет

Севета Министров СССР ае делам изаеретений н еткрытий (31) 1778 51 (ЗЗ) США (43) Опублиновано30.07.78.Бюллетень № 28 (45) Дата опубликования описания 24.07.78 (53) УДК 771 534 (088.8) Иностранцы

Йжеймс А. Бонхэм и Панайотис С. Питрелис (США) (72) Авторы изобретения

Иностранная фирма

Миннесота Майнинг энд Маныофэкчуринг Компани" (США) (71) Заявитель (54) КОМПОЗИЦИЯ, ЧУВСТВИТЕЛЬНАЯ К ОБЛУЧЕНИЮ 1

М сц,-с =c-(embow ф М

Изобретение относится к области йолучения светочувствительных композиций, используемых в процессах печатания, светокопировальных процессах.

Известна композиция, светочувствительная к облучению, состоящая иэ подложки с нанесенным на нее слоем, содержащим по крайней мере одно ненасыщенное этиленовое соединение, например диэтиленгликольдиакрилат, в качестве связующего — поливинилоеый спирт, ингибитор и фотоинициатор полимериэации, например триароилфосфин.

Для увеличения пределов спектральной чувствительности светочувствительной композиции в качестве фотоинициатора полимериэации предложены б -триазиновые соединения, замешенные по крайней мере одной галоидметильной группой„ преимущественно тригалоидметильной: .группой, и хромоформной группой, связанной с триазиновым кольцом посредством ненасыщенной этиленовой связи, причем указанное соединение при возбуждении их излучением от актиничного иэлуча

2 теля при длине волны примерно от 330 до 700 ммк способны образовывать csoбодные радикалы.

s Йаиболее характерны хромофорзамещенные винилгалоидметил -, «р -триаэиновые соединения нижеследующей формулы 1

15 где Q — атом хлора или брома, Р— CQ -NH2>-ЙН7,— Д2 - или СЯ,, Я вЂ” фенил илй низший алкил (под низшим алкилом подразумевается алкильная группа, включающая не ослее шести

20 атомов углерода);

tl - целое число равное 1-3;

W — замешенное (или неэамещенное) ароматическим ядром или замешенным индолилом-З, или соединением общей фор2-" мулы II

618064 — СН =С

С1,С-С С-СЕ

2,97. СС15

2 С1 С С-СН СН С1 147-149 /

I

Y _#_

СС4

3 С " СЦ=Щ С1, 99-201

СС4

4 ф С- -(Я=СЯ . ОСНОВ 190-192 с

СС13

> азе-С -Ы Щ оа

3,68

378

3,03

2,72

377

ОСН 186-187 394

2,98 СС13

CIþÑ- — CHLCK

ОСН 1 57-1 58 401

2,98

М

l, Й

R — 5 где, - представляет собой кислород или серу;

7 - атом водорода, группа низшего алкила или группа фенила; Я(, может быть замещен хлором, бромом, фенилом, 10 низшим алкилом (алкилом, содержащим не более шести атомов углерода), нитрогруппой, феноксильной группой, алкоксилом, апетоксилом, апетилом, аминовой группой, алкиламиновой группой и др. б -Триазиновые соединения образ юг свободные радикалы нри облучении от актиничного излучателя, при длине вол-: ны лучей в пределах примерно 330700 ммк. Эти соединения используются в качестве фотоинипиаторов в чувствитель ных к облучению составах и элементах.

Таким образом, они могут быть введены в полимеризуемые, структурируемые и печатные составы, используемые для получения рельефных печатных пластин, фотосопротивлений и фотографических элементов

Предлагаемая композиция является продуктом реакции конденсации некоторых меяшгалоидметил- 5 -триазинов и неко1 торых альдегидов или альдегидных производных, Наиболее Гценными являются фотоинициаторы, имеющие структурную формулу, представленную в таблице 1. Т б 1

618064

: Продолжение таблицы

У . Н3

7 C13C -CE= CH X К; 230

1,59

468

®С13

rCN3 су-у «c-(cK=GHI x у, иго ф — СН, СС13

1,98

491

С В

9 И С вЂ” f -(Щси) I X у 180-182

СС1

10 C13IC-С C-Щ:О(t X -О-С К 128-129

kl 4

СС13

495

0,71

3,54

380

4,00

488

С13С-С С- М=СН. 4. р

СС>3

447

2,12

175

С

СК3

ЕС13

У

К В- С С- СК= СК i ОСН3 248-249

И I

С 13

3,32

340

З а

11 С13С- -Ж=CK- СК=С

/, 1 55 -1 57

Г г К

l

СС13 - . Сд4

618064

Фотоинициаторы, соответствующие изобретению, имеют важное значение для фоточувствительных составов, используемых в различных образующих изображение системах, в которых желательна повьпценная чувствительность к свету.

Так, например, фотополимеризующиеся составы, содержащие фотоинициаторы, находят ценное применение для излучения элементов, используемых в типограф ском печатании, s особенности для при- 10 готовления элементов, применяемых для. получения обратного изображения. Они применяются также для элементов, используемых для получения фотополимерных литографских пластин. Фотоини- 15 циаторы могут присутствовать также в не содержащих серебро фоточувствительных составах, применяемых в фотьрепродуцированных системах, основанных на отсутствии кислоты, например в сис- 20 темах,: в которых образуются, окрашенные или отбеленные иэображения. Фотополимеризующиеся составы, в которых могут успешно использоваться описываемые фотоинициаторы обычно состоят иэ инициированного свободным радикалом донолнительно вводимого полимера с разветвленной цепью с ненасьнценными эти еновыми связями, фотоинициатора и одного или нескольких из следующих компонен-зО тов: наполнитель, связующие красители, ингибиторы полимеризации, исходный продукт красителя, кислородные очисти- .. тели и так далее. 5 -Триазиновые соединения по изобретению присутствуют в щ5 количестве, достаточном для осуществления процесса полимериэации полимеризуемого соединения.

Соответствующие отношения ингредиен. тов представляют собой следующие значе- 4о ния: на каждые 100 частей полимеризуе» мого соединения может присутствовать

0,0005-10 частей фотоинициатора, 0-200 частей наполнителя, 0-200 частей связующего и 0-10 частей или более кра-45 сителя, ингибитора полимеризации, -исходных продуктов красителя, кислородных очистителей и так далее, которые могут быть необходимы для использования определенного фотополимеризуемого состава. 5О

Преимущественно на 100 частей полимериэующихся соединений используется

l-7,5 частей фотоинициатора.

С оответствующие инициированные esoбодные радикалы, дополнительно вводи- 55 мые полимеризуемые соединения с разветвленной цепью, с этиленовыми ненасыщенными связями включают алкилен— или полиалкиленгликолевые диакрилаты, например этиленгликольдиакрилат, диэтиленгликольдиакрилат, глицериндиакрилат, глицеринтриакрилат, этиленглик ольдиметакрилат, 1,3-пропандиэтилметакрилат, 1,3-пропандиэтилметилкрилат, 1,2, 4бутантриолтриметакрилат, 1,4-циклогександиощ иакрилат, пентаэритриттетраметакрилат, пентаэритоиттриакрилат, сорбитогексакрилат, бис- 1-(3-акрилокси-2гидроксилы -n-пропоксифенилдиметилметан, бис- (1,2-(2-акрилокси)) -n-этоксифенилдиметилметан, трисгидроксиэтилизоцианураттриметакрилат, бис акрилаты и бисметакрилаты полиэтиленглик олей с молекулярным весом 200-500 и так далее; ненасыщенные амиды, например метилен бисакриламид, метиленбисметакриламид, 1,6-гексаметиленбисакриламид, диэтилентриаминтрисакриламид, -метакриламиноэтилметакрилат, виниловые эфиры, такие как дивинилсукцинат, дивиниладипат, дивинилфталат, причем наиболее предпочтительные соединения с ненасыщенными этиленовыми связями включают пентаэритритолте тракрилат, бис- и-(3-акрилокси-2-гидроксипропокси)-фенил -диметилметан и бис-(n-(2-акрилоксиэтокси)-фенил (-диме тил метан.

Могут использоваться также смеси этих эфиров с алкиловыми эфирами акриловой кислоты и метакриловой кислоты, включая такие эфиры, как метилакрилат, метилметакрилат, этнлакрилат, иэопропилметакрилат, н-гексилакрилат, стеарилакрилат, аллилакрилат, стирол, диаллилфталат и так далее.

При изготовлении фоточувствительных составов компоненты смешиваются в произвольном порядке и перемешиваются или размалываются, образуя раствор однородной степени дисперсности. фоточувствительные элементы приготавливают путем нанесения сухого покрытия соответствующего фоточувствительнorо состава толщиной примерно от 0,00005 до 0,075 дюйма на соответствующую основу или подложку, и путем сушки этого покрытия. В качестве подходящей для данной цели основы или подложки для нанесения фоточувствительного состава используются металлы, например стальные и алюминиевые пластины, листы и фольга, а также пленки или пластины, состоящие из различных пленкообразующих синтетических или высокомолекулярных полимеров, содержащих дополнительно вводимые полимеры, например полимеры и сополимеры винилиденхлорида, винилхлорида, винилацетата, 618064 10 фический ступенчатый клин. Пленки далее удаляют и наносят покрытие тсь . нирующего порошка 3М3 ддД системы

А-90 (торговое название), который склеивают с липкими неэкспонированными участками, но не с фотополимеризованными участками. Получают стойкое несмываемое позитивное изображение, соответствуюшее четырем открытым ступеням на клин.

l0 Материал с аналогичной структурой с и получают, используя те же количества (0,2 частей) фотоинициатора, перечисленных в таблице 2, и их спектральные характеристики в. каждом случае изме15 ряют, используя лабораторный спектрограф.

Таолица2

Фотоиницйатор-со

380-440

390-450

480-560

377

5с ло

2,00

C} стирола, изобутилена; линейные полимеры конденсации, например полиэтилентерефталат, полигексаметиленадипат, полигексаметиленадипадаципат.

Пример 1. На полиэтиленовую пленку с помощью ножа наносят влажное покрытие (толщиной 2 мила/0,05 мм) раствора, содержащего 5,0 частей Яо ч

В-72А (торговое название поливинилбутираловой смолы, поставляемой фирмой

"МойбаН О Cheeieak Со ), 3,0 части триметилолпропантриметакрилата и 0,2 ча

2,4-бис-(трихлорметил) -6-и-метоксисти рил- 5 -триазина в 100 частях дихлори да этилена, После выпаривания раствори теля липкое покрытие наслаивалось на другую полиэфирную пленку, и затем материал, имеющий слоистую структуру (типа сендвича) подвергают экспонированию в те;ение 10 сек посредством вольфрамоиодидной лампы, причем экспо20 нирование осушествляют через фотограПример 2, Приготовление печатных пластин, иллюстрирующих более высокую эффективность в присутствии кислорода хромофорсодержащих фэтоинициаторов, соответствующих настояшему изобретению, по сравнению . с обычными инициаторами, содержащими свободные радикалы.

Приведен ряд покрытий на аиодированных алюминиевых пластинах (промышленно доступных):7/Qet81 ll Qt с ? i t8

gygi И, поставляемый фирмои "MI8548t

М1НО Иа1е ай ЬО р СОМ Ону с использованием гомогенных растворов этилендихлорида-фермвар 1 5/95

Торговое название смолы поливинилформаля, поставляемой фирмой "Ч0пбак10 0Ь2и1 GQl СО 7,38

g МСН виниловая смола торговое название ) с Ополимера винилацетат (винилхлорид) малеиновый ангидрид, поставляеМого фирмой "UttiC0rf Car bidoCd 2,46

Триметил олпропантриметакрилат 6,00

Триметакрилат трисгидроксиэтилизоцианурата

Наблюдаемые данные соотносят в пределах экспериментальной ошибки с максимумом поглощения и спектром этих материал Ов, Циан ХЙ -553758 (торговое название фталоцианинового пигмента, поставляемого фирмой "eneVl Can C art0lmld ")

Инициатор 0,40

Зти пластины экспонируют в .течение

70 сек через фотографический ступенчатый клин в вакуумной копировальной раме с использованием 135 а источника создания освешения — угольного стержня для создания дуги высокой фоточувствительности 118 (торговое название угольного стержни, поставляемого фирмой "3 0д Cavgidp ), расположенного на расстоянии 1,29 м от пластины. Лля проявления эти пластины покрывают раствором, содержащим 35% н-пропилового спирта, 60% дистиллированной воды, 1,5% сульфата аммония и 1,5% первичного кислого фосфорнокислого аммония.

Неэкспонированные участки удаляют, используя проявляюшее средство ЗМИЕВ Ои<) (торговое название), при равномерном стирании (От слабого до умеренного воздействия). Ниже представлены значения

Отн Ос и тельной эффективности различных фотоинициаторов, используемых в ряде проявляюш,.хся ступеней. Одиннадцать

618064

12 лейкокристалл фиолетовый, также дают копи пируемые изображения, основанные на прот- цессах получении фотолитической кислоты и фотоокисления в случае использования и-динах метилбис-(2-метилиндол) -метана.

1. Композиция, чувствительная к облучению, состоящая по крайней мере из одного ненасышенного этиленового соединения и фотоинициатора полимеризации, отличающаяся тем, что,.c целью расширения предела спектральной чувствительности, в качестве фотоинициатора полимеризации введено соединение обшей формулы Т с

cq- (-(ea-+™

3 .,Р где Q — атом хлора или брома;

Р— представляет собой СОЭ, ЯН, -QHg, -NQ, или 0 к

Я вЂ” фенил илй алкил (С < 6);

И= 1-3;

W — замешенное или незамещен30 ное ароматическое ядро или замешенный индолил-3 или радикал формулы 1I

1. 0,4 метилэфир бензоина 0-1

2. 0,4 антрахинон 0-1

3. 0,4 фенатрахинон 0-1

4. 0,4 2-этил-9,10-диметоксиантрацен 0-1

5. 0,4 этил-9,10-диметоксиантрацена; 0,4 2,4,6-трис-(трибромометил)- б—

-триазин 7

7. 0,4- 2-этил-9,10-диметоксиантрацен, 0,4-2,4-бис20

-(трихлорметил) -6-метил-три азин 3

8. 0,4 1-(лметоксифенил)-3-(n-дифениламинофенил)—

-2-пропен-1-он;

0,4 2,4-бис-(трихлорметил)-6-метил- б -триазин 4

9. 0,4 хромофорсодержащий фотоиннциатор (соединение 4) 11

10, 0,4 хромофорсодержащий фотоинициатор (соединение 5) 11

Пример 3. На полиэфирную пленку наносят влажное покрытие толшиной

0,075 мм фоточувствительного состава, содержашего, части:

3U4YQ Б-72 (торговое название) 2,5 и-Диме тип амин офенил бис- (2-ме тис линдолил) -метан 1,0

Соединение 4 0,5

Метанол-этиленхлорид 3,0

При экспонировании получают глубокое окрашивание, которое служит характеристикой окисленной формы лейко-красителя, Аналогичным образом (лейкооснование)

2-и-диметилстирилхинолин и лейкокраситель, r

-cg-с I

R I„ проявляемых ступеней на пластинах приготавливали с использованием хромофорсодержаших фотоинициаторов, соответс вуюших изобретению, в то время как не более семи проявляемых ступеней на пласти приготавливали с использованием фото инициаторов, описанных ранее.

Фотоинициатор — соединение, Проявляечасти мые ступени

Формула изобретения где 2; — кислород или сера;

Н, фенил, алкил.

2. Композиция, чувствительная к облучению по.п. 1, о т я и ч а ю щ а я с я тем, что соединение формулы I введено в количестве 1-7,5 вес.ч. на 100 в. ч. этиленового с оединения, Составитель Л. Иванова

Редактор Л. Герасимова ТехредА. Алатырев Корректор Н. Тупица

Заказ 4140 Тираж 564 Подписное

Е(НИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР п. делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб„д. 4/5

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Композиция,чувствительная к облучению Композиция,чувствительная к облучению Композиция,чувствительная к облучению Композиция,чувствительная к облучению Композиция,чувствительная к облучению Композиция,чувствительная к облучению 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к высокоразрешающему галогенсеребряному фотографическому материалу, который используется для контратипирования и микрофильмирования мелкомасштабных черно-белых аэрофильмов

Изобретение относится к области фотографической химии, а именно к способу изготовления галогенсеребряной фотографической эмульсии и изопанхроматического галогенсеребряного фотографического материала, который может быть использован для аэрофотосъемки и съемки из космоса
Изобретение относится к области обрабатывающих композиций, используемых для фиксирования изображения при автоматической химико-фотографической обработке медицинских и промышленных рентгеновских пленок

Изобретение относится к композиции, меняющей цвет в зависимости от дозы поглощенного излучения, и ее применению в качестве индикатора дозы УФ-излучения

Изобретение относится к фотоприемникам и предназначено для селективной регистрации оптических сигналов в оптоэлектронных устройствах
Наверх