Устройство для нанесения покрытия

 

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЬ1ТИЯ в вакууме, содержащее соосно расположенные мишень, источник заряженных частиц, кольцевой анод и подложкодержатель, отл ичаю.щеес я тем, что, с целью повышения качества покрытия, оно снабжено электромагнитной катушкой, охватывающей кольцевой анод.

союз советских

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ .РЕСПУБЛИК (Я)5 С 23 С 14/34

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

:gn

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

1 (21) 2384821/21 (22) 12.07.76 (46) 30.10.91. Бюл. М 40 (72) Ю.П.Маишев, Г.Ф.Ивановский, А.И.Микулин и А.Ф.Васильев (53) 621.793.12 (088.8) (56} Обзор по электронной технике "Серия- микроэлектроника", вып. 7 (268), 1974, с. 6567.

Патент Англии

М 1294697, кл. С 7 Р, 1972.

Изобретение относится к электронноионной технике, может быть использовано в электротехнической и радиоэлектронной промышленности, а также для получения защитных покрытий, пленок, полупроводниковых материалов.

Известно устройство для напыления,. содержащее источник заряженных частиц и установленный на расстоянии от выходногб среза блок распыляемого материала.

Это устройство не позволяет получать покрытия из диэлектрических или неэлектропроводных материалов, так как при взаимодействии заряженных частиц пучка источника с поверхностью распыляемой мишени на ней возникает электрический заряд, резко ослабляющий процесс распыления. При этом из-за необходимости использования в качестве ионов частиц газа не достигается необходимая чистота напыляемого материала, Наиболее близко к предлагаемому устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее соосно расположенные ми. вень, источник заряженных частиц, кольцевой анод и подложкодержатель.

„„. >Ц„„702726 А1 (54)(57) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ

ПОКРЫТИЯ в вакууме, содержащее соосно расположенные мишень, источник заряженных частиц, кольцевой анод и подложкодержатель, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения качества покрытия, оно снабжено электромагнитной катушкой, охватывающей кольцевой анод.

Недостаток устройства — низкое качество покрытия, Цель изобретения — повышение качества .покрытия достигается благодаря тому, что устройство для нанесения покрытий в. вакууме, содержащее соосно расположенные мишень, источник заряженных частиц, кольцевой анод и подложкодержатель, снабжено электромагнитной катушкой, охватывающей кольцевой анод.

На чертеже представлена схема устройства для напыления.

Источник заряженных частиц 1 расположен у выходного среза электрода 2, на поверхности которого размещена мишень 3 распыляемого материала, За выходным срезом источника 1 установлена магнитная катушка 4, охватывающая кольцевой анод 5.

Между анодом и источником заряженных частиц 1 внутри катушки размещен металлический экран 6.

Работа устройства зависит от типа вы9ранных источников заряженных частиц. Если это источник ионов, между его корпусом 1 и мишенью 3, выполненной для данного источника из металлов, прикладывается такая разность потенциалов, что электрод 2 явля702726 ется катодом, а корпус источника 1 — ано- торежиме, который обеспечивает чистоту дом, Й йроцессе бомбардировки мишени 3 материала, протекающего за выходной срез йойами йучка с поверхности мишени выби- катушки 4. Экран 6 обеспечивает экраниваются нейтроны-и эмиттируютСя электро- ровку кольцевого анода 5 от потока нейтраны. Между электродом 2 и анодом 5 дается 5 лов и частично формирует геометрию положительная разность йотейциалов, поэ- электрического поля. Возникающие в проI тому электроны ускоряются вдоль магнит- цессе ионизации электроны обеспечивают ных-силовых линий катушки 4 к аноду 5 и нагрев и ионизацию нейтралов.

" =формируют удерживаемое-магнитным по- В случае"использования в качестве ислем облако высокоэнергетическйх элект- 10 тачйиков электронных пушек или эмиттеров ронов. Выбитые нейтраль " астйчно"-;- -электронов разность потенциалов приклаионизируются в области между кольцевым дывается только между корпусом эмиттера анодом 5 и источником заряженных частиц.".=- электронов (электронных пушек) и анодом.

1, остальная часть проходит через внутрен- Процесс формирования потока нейтральйее отверстйе катушки 4 к выходному торцу. 15 ных частиц айалогичен вышеупомянутому, Ионизированные нейтралы образуют поток В данном исйолнении устройство обеспечиэнергетических ионов на мишень 3 и обеспе- "вает распыление мишеней 3 из любых по чиваютдальнейшую эмиссию как нейтралов, электрофизическим свойствам твердых матак и электронов, Режим формирования "î- териалов дйэлектриков или проводников, " тока ионов на мишень обеспечивается маг- 20 так как частицы выбиваются при плазменнитным полем катушки 4 и разностью номслоеу поверхности мишени. потенциалов между электродом 2 и кольце.вым анодом 5.,:...;. Устройство обеспечивает чиСтоту рабоГеометрия эквипотенциалей р< злект- чего тела, наносимого на поверхность подрического поля, форМирующих поток йонов 25 ложки, и использование любых твердых к мишени 3, приведена I на чертеже,"при материалов в качестве мишеней, распыляе этом направление и граница движения ука- мых в авторежиме ионами самой мишени. заны стрелками и пунктирной линией, Во Это повышает качество иэделий и повышает многих режимах ионный источйик 1 может . выход изделий, удовлетворяющих техничебыть отключен, и устройство работает в ав- 30 ским условиям.

702726!

Редактор Е. Гиринская Техред М.Моргентал Корректор И. Муска

Закай 4632 Тираж . Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

Р ш каянаб, 45.113035. Москва, Ж 35, ау с, /

- " .—, .. * - . = »юмжк. - Ф!.-.!»т»!»»»

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101 ! э