Источник многозарядных ионов

Авторы патента:

H01J27/02 - ионные источники; ионные пушки (устройства для манипулирования частицами, например фокусирование, G21K 1/00; генерирование ионов, поступающих в незамкнутое газовое пространство, H01T 23/00; генерирование плазмы H05H 1/24)

Источник многозарядных ионов, содержащий высокочастотный генератор, катушки постоянного тока и систему извлечения ионов, отличающийся тем, что, с целью повышения плотности тока и снижения удельных энергозатрат, источник снабжен цилиндрическим резонатором, расположенным соосно и симметрично с катушками постоянного тока.

Похожие патенты:

Источник ионов // 581741

Изобретение относится к устройствам для получения интенсивных пучков ионов большой площади поперечного сечения произвольной формы с равномерным распределением плотности тока по сечению пучка, которые могут быть использованы для различных технологических операций в высоком вакууме (например, травление, нанесение тонких пленок, легирование), а также в ускорительной технике

Устройство для нейтрализации ионного пучка // 544303

Патент 153982 // 153982

Источник ионов с периферийным магнитным полем // 2114482

Устройство для создания низкотемпературной газоразрядной плазмы // 2116707

Изобретение относится к газоразрядной плазменной технике и технологии, в частности к устройствам генерации низкотемпературной газоразрядной плазмы в больших объемах

Рамочный электрод // 2118868

Изобретение относится к ионно-оптическим ускорителям ионов и может быть использовано в ионных двигателях

Устройство для получения пучка ионов // 2119208

Изобретение относится к области ускорительной техники и может быть использовано для получения мощных, высокооднородных пучков ленточной геометрии

Источник многокомпонентных атомарных потоков // 2119730

Изобретение относится к электрофизике, в частности к системам, служащим для получения потоков частиц, используемых, например, для вакуумного нанесения тонких пленок

Ионный микропроектор и способ его настройки // 2126188

Изобретение относится к области электронной техники и может найти применение при изготовлении интегральных схем с большой информационной емкостью методом литографии, а также в других процессах прецизионной обработки поверхности материалов ионным лучом, например нанесение на субстрат рисунков с изменением в нем поверхностных свойств материалов, в частности изменение типа проводимости в полупроводниковых материалах путем внедрения легирующих ионов, изменение других физических свойств материала за счет внедрения одноименных и инородных ионов, создание на поверхности новых слоев в результате осаждения атомов вещества из окружающих паров облака под влиянием падающих ионов, удаление вещества с поверхности субстрата в результате его распыления

Ионная пушка // 2128381

Изобретение относится к технике получения импульсных мощных ионных пучков

Плазменный ионный источник // 2147387

Изобретение относится к ионным источникам и может быть использовано в масс-спектрометрии для элементного анализа жидкостей и газов, в ионной технологии и т.д

Ионный источник с закрытым дрейфом электронов // 2172536

Изобретение относится к ионным источникам с закрытым дрейфом электронов, которые могут быть использованы в качестве двигателей, в частности, для космических кораблей, либо в качестве ионных источников для промышленных операций, например нанесение покрытий напыления в вакууме

Ионный источник // 2176133

Изобретение относится к ионным источникам для циклотронов (внутренним, закрытого типа) и может использоваться в циклотронной технике