Панкратический объектив

 

О САНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик 775707

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (б! ) Дополнительное к авт. свил-ву (22) Заявлено 03.01.79(2! ) 2705553/18-10

Ъ (:з ) М. Кл.

Я 02 В 15/16 с присоединением заявки р!е

Государственный камнтет (23) Приоритет ло делам нзобретеннй н открытнй

Опубликовано 30.10.80.Бюллетень ¹40

Дата опубликования описания 02.11.80 (53 ) УД К 7 71. 35 1. .76 (088.8) (72) Авторы изобретения

А. A. Токарев, В. Г. Филобок и Ю. Ф. Юрченко (7! ) Заявитель (54) ПАНКРАТИЧЕСКИЙ ОБЪЕКТИВ

Изобретение относится к оптическим приборам, в частности к панкратическим кицообъектив ам.

Известны панкратические кинообьективы, состоящие из нескольких групп линз, плавное изменение фокусного расстояния в которых достигается перемещением второй и третьей групп линз первая и чет вертая группы — неподвижны $1).

Такие кинообъективы не обеспечивают

1О сьемку на кадр с диагональю 2 = 7,1 при достаточно высоком относительном отверстии (1:1,2) и высоком качестве иэображения по полю.

Наиболее близким к изобретению по

15 технической сущности является панкратический объектив, содержшпий четыре компонента, иэ которых второй и третий установлены с воэможностью перемещения вдоль оси, при этом первый компонент выполнен из отрипательного и положительного менисков, вогнутостью обращенных к иэображению, и расположенной между ними 1толожительной линзы, второй отридательный компонент выполнен из одиночного отрицательного мениска, вогнутостью обращенного к изображению, и двухсклеенной из отрицательной линзы и положительного мениска линзы, третий компонент - одиночный отридательный мениск, вогнутостью обращенный к объекту, чет вертый компонент включает одиночную положительную линзу, призму и расположенные за диафрагмой отрииательный ме писк, одиночную и двухсклеенную линзы (2$

Этот объектив не обеспечивает съемку на ка)тр 2ф = 7,1 мм при относительном отверстии выше 1:1,9.

Е(ель изобретения — увеличение отностьтельного отверстия объектива и диапазона изменения фокусного расстояния.

Укаэанная пель достигается тем, что в панкратическом объективе, содержащем четыре компонента, из которьtx второй и третий установлены с возможностью перемещения вдоль оси, при этом первый компонент выполнен иэ отрипательного и по» ложительного менисков, вогнутостью об3 77 ращенных к изображению, и расположенной между ними положительной линзы, второй отрицательный компонент выполнен из одиночного отрицательного мениска, вогнутостью обращенного к изображению, и двухсклеенной из отрицательной линзы и положительного мениска линзы, третий компонент — одиночный отрицательный мениск, вогнутостью обращенный к объективу, четвертъ и компонент включает одиночную положительную линзу и призму и расположенные за диафрагмой отрицательный мениск, одиночная и двухсклеенная линзы, отрицательный мениск и положительная линза первого компонента образуют двухсклеенную линзу, а четвертый компонент дополнен одиночной положитель ной линзой, установленной перед отрицательным мениском, который выполнен при этом обращенным вогнутостью к иэображению, и установленным за двухсклеекной линзой положительным мениск, вогнутостью обращенным к изображению, а одиночная линза четвертого компонента выполнена отрицательной.

Первый компонент выполнен в виде двухсклеенной из положительной линзы и отрицательного мениска и положительного мениска, обращенного вогнутостью к изображению.

На фиг. l представлена принципиальная схема объектива, на фиг. 2 — схема объектива с измененной конструкцией компонента.

Панкратический объектив (фиг. 1) состоит из четырех компонентов 1 - 4, из которых компонент 1 выполнен иэ склеенных отрицательного мениска 5, обращенного вогнутостью к изображению, положительной линзы 6 и положительного мениска 7, обращенного вогнутостью к изображению (по второму варианту фиг. 2 компонент 1 состоит из склеенных положительной линзы 8 и отрицательного мениска 9, обращенного вогнутостью к предмету и положительного мениска 10, обращенного вогнутостью к изображению).

5707 У„,. отрицательную линзу 19, двухсклеенную

Компонент 2 содержит отрицательный мениск ll и склеенную линзу 12, состоящую иэ отрицательной линзы 13 и положительного мениска 14, обращенного вогнутостью к изображению.

Компонент 3 выполнен в виде отрицательного мениска, обращенного вогнутостью к объекту.

Компонент 4 содержит положительную линзу 15, призму 16, положительную линзу 17, отрицательный мениск 19, обращенный вогнутостью к иэображению, линзу 20„состоящую иэ отрицательной линзы 21 и положительной линзы 22, положительный мениск 23,, обращенный вогнутостью к изображению.

Объектив работает следующим образом.

Изменение фокусного расстояния достигается путем взаимосвязанного перемещения компонента 2 по линейному закону и компонента 3 по нелинейному закону о

Регулирование светового потока, поступающего на кадр, осуществляется через действующую диафрагму 24, установленную после призмы 16 на расстоянии

2,3 мм от нее.

Фокусировка объектива на дистанцию осуществляется перемещением компонента 1 в сторону объекта. Максимальная величина перемещения компонента 1 составляет Ь = 5,73 мм для дистанции 1 м.

Выполнение объектива по указанной схеме позволяет повысить относительное отверстие панкратического объектива при высоком качестве иэображения по полю.

Формула изобретения

1. Панкратический объектив, содержащий четыре компонента, иэ которых второй и третий установлены с возможностью перемещения вдоль оптической оси, при этом первый компонент выполнен из отрицательного и положительного менисков, вогнутостью обращенных к изображению, и расположенной между ними положительной линзы„второй отрицательный компонент выполнен из одиночного отрицатель ного мениска, вогнутостью обращенного к изображению, и двухсклеенной иэ отрицательной линзы и положительного мениска линзы, третий компонент — одиночный отрицательный мениск, вогнутостью обращенный к объекту, е-тертый компонент включает одиночную положительную линзу, призму и распол<;женные эа диафраг» мой отрицательный ..ениск, одиночную и двухсклеенную линзы, о т л и ч а ю— шийся тем, гю, с целью увеличения относительного отверстия и диапазона изменения фокусного расстояния, отрица» тельный мениск и положительная линза первого компонента образуют двухсклеенную линзу, а четвертый компонент дополнен одиночной положительной линзой, установленной перед отрицательным маячком, который выполнен, при этом обращенным вогнутостью к изображению, и

5 775707 d установленным за двухсклеенной линзой ка и положительного мениска, обращенноположительным мениском, вогнутостью ro вогнутостью к изображению. обращенным к иэображению, а одиночная Источники информации, линза четвертого компонента выполнена принятые во внимание при экспертизе отрицательной. 1. Патент США ¹ 3366437, 2. Объектив по и. 1, о т л и ч а ю - кл. 350-186, опублик. 1968. шийся тем, что первый компонент 2. Патент ФРГ И 1277581, выполнен в виде двухсклеейной иэ положи- кл. 425 6/02, опублик. 1968 (прототельной линзы и отрицательного менис тип).

Фиа1

ВНИИПИ Заказ 7761/81 Тираж 569 Подписное

Филиал ППП Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Панкратический объектив Панкратический объектив Панкратический объектив 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к оптическому приборостроению, а именно к объективам с переменным фокусным расстоянием

Изобретение относится к оптическому приборостроению, в частности к телеобъективам, предназначенным для телескопических систем, работающих с различными расстояниями до наблюдаемого объекта

Изобретение относится к оптическому приборостроению, а именно к объективам с переменным фокусным расстоянием, и может использоваться как объектив видеокамеры с формированием изображения на ПЗС-матрице

Изобретение относится к объективам с переменным фокусным расстоянием и может использоваться как объектив видеокамеры с формированием изображения на ПЗС-матрице

Изобретение относится к оптическому приборостроению, а именно к объективам с переменным фокусным расстоянием, и может быть использовано в системах оптической локации, оптической связи, управления и наблюдательных приборах

Изобретение относится к ИК оптическим системам и может быть использовано в тепловизорах

Изобретение относится к ИК оптическим системам и может быть использовано в тепловизорах

Изобретение относится к области оптико-электронного приборостроения и может быть использовано в качестве объектива тепловизионных приборов для наблюдения и опознавания объектов по тепловому излучению
Наверх