Устройство для установки кристаллов,преимущественно на подложки гибридных интегральных схем

 

, УСТРОЙСТВО ДЛЯ УСТАНОВКИ КРИСТАЛЛОВ, ПРЕИМУЩЕСТВЕННО НА ПОДЛОЖКИ ГИБРИДНЫХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ, сЬдержащее установленные на подвижном основании координатные столики для подложек и для кристаллов, механизм подачи и установки кристаллов и механизм нанесения клея на кристаллы , включающий установленную с возможностью вращения ванночку для клея и скребок для формирования слоя клея на дне ванночки, о л т и ч а ю - щ е е с я тем, что, с целью повышения производительности, механизм нанесения клея на кристаллы снабжен выталкивателем кристаллов, опорная поверхность которого расположена в кольцевой канавке, выполненной в дне ванночки, установленным с возможностью возвратно-поступательного перемещения . (Л со Од СП 1C 00

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3265560/18-21 (22) 18.03.81 (46) 30.01. 87. Бюл. Ф 4 (72) Л.И. Губич,, В. Н.Лифлянд и В.М.Мазаник (53) 621.396.69(0.088) (56) Патент США У 4.047.498, кл. В 05 С 1/02, 1977. (54)(57), УСТРОЙСТВО ДЛЯ УСТАНОВКИ

КРИСТАЛЛОВ, ПРЕИМУЩЕСТВЕННО НА ПОДЛОЖКИ ГИБРИДНЫХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ, сЬдержащее установленные на подвижном основании координатные столики для подложек и для кристаллов, ме„„SU„„965248 (51)4 Н 01 1. 21/70 В 05 С 1/02 ханиэм подачи и установки кристаллов и механизм нанесения клея на кристаллы, включающий установленную с воэможностью вращения ванночку для клея и скребок для формирования слоя клея на дне ванночки, о л т и ч а ю— щ е е с я тем, что, с целью повышения производительности, механизм нанесения клея на кристаллы снабжен выталкивателем кристаллов, опорная поверхность которого расположена в кольцевой канавке, выполненной в дне ванночки, установленным с возможностью возвратно-поступательного перемещения.

15

1 96

Изобретение относится к производству полупроводниковых приборов и может быть использовано для установки кристаллов, преимущественно на подложки гибридных. интегральных схем.

Известно устройство для установки кристаллов на подложки, содержащее, установленные на подвижном основании координатные столики для подложек и для кристаллов, механизм подачи, н установки кристаллов и механизм нанесения клея на кристаллы, включающий установленную с возможностью вращения ванночку для клея, скребок для формирования слоя клея на дне ванночки и установленный с возможностью перемещения сменный пуансон для переноса клея из ванночки на подложку.

Недостатком этого устройства является низкая производительность, так.как установке кристаллов предшествует нанесение клея на подложку, выполняемое отдельным рабочим органом в виде подвижного сменного пуансойа.

Кроме того, установка кристаллов раз-. личного типоразмера сопровождается сменой пуансона.

Цель изобретения — повышение про изводительности установки кристаллов — достигается тем, что в устройстве для установки кристаллов преимущественно на подложки гибридных интегральных схем, содержащем установленные на подвижном основании координатные столики для подложек и для кристаллов, механизм нанесения клея на кристаллы, включающий установленную с воэможностью вращения ванночку для клея и скребок для формирования слоя клея на дне ванночки, механизм нанесения клея на кристаллы снабжен выталкивателем кристаллов, опорная поверхность которого расположена в кольцевой канавке, выполненной в дне ванночки, установленным с возможностью возвратно-поступательного пере мещения.

На фиг.1 изображено предлагаемое устройство; на фиг.2 — узел I на фиг.1; на фиг.3 -то же, нанесение клея; на фиг.4 — вид А на фиг.2.

Устройство содержит подвижное основание 1, на котором установлены координатный столик 2 для подложек 3 и координатный столик 4 для кристаллов 5, и механизм 6 для нанесения

5248 2 клея, включающий установленную с возможностью вращения при помощи привода

7 ванночку 8 для клея. Над ванночкой

8 для клея неподвижно установлена крышка 9, на которой закреплен скребок 10 для формирования слоя клея на дне ванночки, установленный с зазором относительно дна ванночки, величину которого можно регулировать.

В дне ванночки выполнена кольцевая канавка 11 ° Механизм нанесения клея 6 снабжен также выталкивателем 12 кристаллов, установленным с возможностью возвратно-поступательного перемещения на скребке 10. Опорная поверхность 13 выталкивателя 12 расположена в кольцевой канавке 11, выталкиватель подпружинен пружиной 14.

Механизм подачи и установки кристаллов выполнен в виде установленного с возможностью вращения вокруг оси 15 и с возможностью возвратно-поступательного перемещения вместе с осью 15 ротора 16, по окружности которого радиально установлены вакуумные захваты 17 для кристаллов разных размеров, и упоры 18. В крышке 9 ванночки

8 выполнено отверстие для входа в ванночку захватов 17 с кристаллами, над которым на крышке 9 установлена с возможностью перемещения подпружиненная пружиной 19 заслонка 20 с механизмом привода в виде рычага 21, установленного с возможностью взаимо35 действия с упорами 18 механизма подачи и установки кристаллов.

Устройство работает следующим образом.

Подвижное основание 1 в исходном положении находится в крайнем правом положении, т.е. координатный столик

4 с уложенным на нем кристаллами 5 разных типов расположен под механизмом подачи и установки кристаллов, который заполняется кристалламй с координатного столика 4 при помощи вакуумных захватов 17, а ванночка 8 с клеем непрерывно вращается. После полного заполнения механизма подачи и установки кристаллов кристаллами подвижное основание 1 перемещается в среднее положение на позицию нанесения клея на кристаллы. Здесь при опускании вакуумного захвата 17 с кристаллом в ванночку 8 упор 18, взаимодействуя с рычагом 21, открывает заслонку 20, предохраняющую от испарения летучих компонентов клея.

965248

При дальнейшем опускании кристалл 5, коснувшись опорной поверхности 13 выталкивателя 12, продолжает движение совместно с выталкивателем до касания кристаллом 5 поверхности слоя клея на дне ванночки 8; На время нанесения клея на кристалл привод 7 отключается и ванночка 8 с клеем останавливается. После нанесения клея на кристалл механизм подачи и уста- 10 новки кристаллов поднимается вместе с кристаллом 5, при этом выталкиватель 12 при помощи пружины 14 способствует отрыву кристалла от поверхности клея. Аналогичным образом происходит нанесение клея на остальные кристаллы, после чего подвижное ос-, нование 1 перемещается в крайнее левое положение в позицию установки кристаллов на подложку Э, закрепленную на координатном столике 2. В дальнейшем весь цикл повторяется.

Применение устройства позволит повысить производительность установки кристаллов на клей при сборке много- кристальных интегральных схем за счет исключения промежуточной операции нанесения клея на подложку.

965248

Фиг Ф

Составитель В.Дрель

Редактор С.Титова Техред И.Попович Корректор M.Ìàêñèìèmèíåö

Заказ 7742/1

Тираж 698 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб;, д.4/5

Пройзводственно-полиграфическое предприятие, г.ужгород, ул.Проектная, 4

Устройство для установки кристаллов,преимущественно на подложки гибридных интегральных схем Устройство для установки кристаллов,преимущественно на подложки гибридных интегральных схем Устройство для установки кристаллов,преимущественно на подложки гибридных интегральных схем Устройство для установки кристаллов,преимущественно на подложки гибридных интегральных схем 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к оптическому приборостроению, в частности к технике нанесения бликозащитных покрытий на нерабочие поверхности оптических деталей

Изобретение относится к устройствам для нанесения клейкого материала на поверхность

Изобретение относится к устройству для сухой иммерсии
Наверх