Устройство для съема деталей

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОВЕИтЮНИЯ

- К АВТОРСКОМУ, СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советскик

Социалистические

Респубики (6l ) Дополнительное к авт. свнд-ву— (22) Заявлено 13,05.81 (2! ) 3285853/18 21 с присоединением заявки,%— (23) Приоритет—

Опубликовано 23.12.82. Бюллетень № 47

Дата опубликования описания 23. 12.82 (5 I j M. Кл.

Н 01 L 21/68

3Ъеударетееннмй комитет

СССР (53) УДК621 382 (088.8) ео делам нзооретенкй н открытий

Л. В. Кузнецов, Г. М. Григорьев, С. С. Стаховский и А. Я. Сорокин (72) Авторы .изобретения (7 I ) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ СЪЕМА ДЕТАЛЕЙ

Изобретение относится к технологическому оборудованию для съема и укладки полупроводниковых кристаллов и предназначено для производства полупроводниковых приборов.

Известно устройство для подачи мелких деталей, в частности полупроводниковых кристаллов с эластичной липкой пленки, содержащее инструмент присоску, выталкиватель и прижимной элемент, выполненный в виде соединенной с приводом возвратно-поступательного движения рамки с отверстием по форме кристалла, ° снабженной фланцем, высота которого превышает толщину кристалла на 0,3

0,5 мм (13.

Недостатком устройства является его

r сложность за счет введения дополнительной рамки с приводом возвратно-поступательного движения, а также возможность о повреждения соседних периферийных кристаллов при захвате основного кристалла.

Наиболее близким по технической сущности к предлагаемому усявляется уст2 ройство для съема деталей, преимуц ественно полупроводниковых кристаллов с эластичной липкой пленки, содержащее присоску, опорный столик для эластичной липкой пленки, вакуумную камеру, соединенную с каналами, выполненным в опорном столике, и выталкиватель.

В известном устройстве механизм перемещения вытапкивателя механический(2).

Недостатком этого устройства являет ся то, что устройство ненадежно в работе, а именно, в отсутствии зависимости меж-. ду подъемом выталкивателя и прижимом эластичной диафрагмы к поверхности опорного столика. Отсутствие такой зависимости приводит к тому, что подъем выталкивателя может производиться, когда эластичная диафрагма не прижата вакуумом к опорному столику. А это, в свою очередь, приводит к смешению и отрыву от эластичного носителя соседних кристаллов и следовательно, к увеличению брака, 983837

Бель изобретения — повышение надежности работы.

Поставленная цель достигается тем, что в устройстве для съема деталей, преимущественно полупроводниковых кристал- з лов с эластичной липкой пленки, содержащем присоску, опорный столик для размещения эластичной липкой пленки, вакуумную камеру, соединенную с каналами, выполненными в опорном столике, и выталкиватель, выталкиватель закреплен на дне вакуумной камеры.

Причем вакуумная камера выполнена в виде сильфона.

На фиг. 1 изображено предлагаемое 15 устройство, общий вид; на фиг, 2 — то же, в рабочем положении.

Устройство для объема мелких деталей содержит присоску 1, опорный столик

2 для размещения эластичной липкой плен-20 ки 3, на которой расположены кристаллы

4 и общую вакуумную камеру 5. Опорный столик 2 снабжен каналами 6, от которого отходят сквозные отверстия 7. Каналы

6 сообщаются с общей вакуумной камерой 25

5, через полость которой проходит выталкиватель 8. Он закреплен одним концом на днище вакуумной камеры 5 и снабжен пружиной 9. Вакуумная камера 5 служит одновременно для присасывания диафрагмы ц и перемещения выталкивателя 8.

Устройство работает следующим образом.

Разделенная на кристаллы 4 полупроводниковая пластина закрепляется на элас35 тичной липкой пленке 3. При объеме кристаллов пленки 3 перемещается относительно опорного столика 2, снабженного вакуумными отверстиями 7. После совмещения оси кристалла 4 с осью выталкивате«40 ля 8 на кристалл опускается инструментприсоска 1. При этом торец инструментаприсоски не доходит до поверхности кристалла. В этот момент в полость камеры 5 и в отверстия 7 опорного столика 2 по- 45 дается вакуум. При наличии надежного прижима диафрагмы с кристаллами к not верхности опорного столика 2 камера 5 сжимается и поднимает выталкиватель 8.

Если же пленка 3 не прижата к опорному столику, то при подаче вакуума воздух будет через отверстия 7 отсасываться из атмосферы, а камера 5 сжиматься не будет и не будет подниматься выталкиватель

8, т. е. выталкиватель 8 и сжатие камеры 5 возможно только при хорошо прижатой пленке к опорному столику.

Кристалл, находящийся над выталкивателем поднимается и захватывается присоской. Затем вакуум отключается, камера 5 и выталкиватель 8 возвращается в первоначальное положение под действием пружины 9. После этого производится ориентация следующего кристалла. Бикл пов торяе тся.

Использование предлагаемого устройс1 ва повышает надежность работы и исключает брак. Выход годных кристаллов на. операции съема увеличился с 99,5% до

99, 9%. формула изобретения

1. Устройство для съема деталей, пре имущественно полупроводниковых кристаллов с эластичной липкой пленки, содержащее присоску, опорный столик для размещения эластичной липкой пленки, вакуумную камеру, соединенную с каналами,выполненными в опорном столике, и выталкиватель, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения надежности работы, выталкиватель закреплен на дне вакуумной камеры.

2. Устройство по и. 1, о т л и ч a— ю ш е е с я тем, что вакуумная камера выполнена в виде сильфона.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство СССР № 562884, кл. Н 01 «21/68, 20.04.75.

2, Патент Швейцарии № 548112, кл. Н 01 l. 7/66, опублик. 11.04.74.

983837

Составитель 3. Яшина

Редактор А, Шандор Техред М.Надь Корректор H. Король

Заказ 9939/65 Тираж 761 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Устройство для съема деталей Устройство для съема деталей Устройство для съема деталей Устройство для съема деталей 

 

Похожие патенты:

Кассета // 978401

Кассета // 943925

Изобретение относится к устройствам, предназначенным для удержания кремниевых пластин во время термообработки при изготовлении полупроводниковый приборов

Изобретение относится к электростатическому держателю, используемому для обработки подложек, таких как полупроводниковые пластины

Изобретение относится к технологии нанесения покрытий и может быть использовано в качестве приспособления для закрепления пластинчатых деталей в технологическом оборудовании при нанесении на пластинах различных покрытий и тонких пленок, например на подложках полупроводниковых элементов

Изобретение относится к способу формирования штабелей легируемых с одной стороны полупроводниковых пластин, в частности солнечных полупроводниковых пластин, для загрузки технологической лодочки партиями полупроводниковых пластин, в которой предопределенное четное число полупроводниковых пластин рядами устанавливают в установочные шлицы подлежащего расположению точно в горизонтальной плоскости транспортировочного держателя с обращенным кверху отверстием для штабелирования

Изобретение относится к способу формирования штабелей легируемых с одной стороны полупроводниковых пластин, в частности солнечных полупроводниковых пластин, для загрузки технологической лодочки партиями полупроводниковых пластин, в которой предопределенное четное число полупроводниковых пластин рядами устанавливают в установочные шлицы подлежащего расположению точно в горизонтальной плоскости транспортировочного держателя с обращенным кверху отверстием для штабелирования

Изобретение относится к устройству и способу управления температурой поверхности, по меньшей мере, одной подложки, лежащей в технологической камере реактора CVD

Изобретение относится к области электронной техники, а более конкретно к устройствам для закрепления подложек, работающим в экологически чистых средах и вакууме
Наверх