Макромолекулами, подвергнутыми облучению или окислению (C08F291/18)

C Химия; металлургия(326262)

C08 Органические высокомолекулярные соединения; их получение или химическая обработка; композиции на основе этих соединений (получение или обработка синтетических и искусственных нитей, волокон, щетины или лент D01) (31132)

C08F Высокомолекулярные соединения, получаемые реакциями с участием только ненасыщенных углерод-углеродных связей (получение жидких углеводородных смесей из углеводородов с более низким углеродным числом, например олигомерацией, C10G50)(7574)

C08F291 Высокомолекулярные соединения, полученные полимеризацией мономеров с высокомолекулярными соединениями, отнесенными к нескольким группам C08F251-C08F289(45)

C08F291/18 Макромолекулами, подвергнутыми облучению или окислению (содержащими эпоксигруппы C08F291/10)(1)

Фотополимеризующаяся композиция для покрытий защитного назначения // 2592597

Изобретение относится к химии полимеров, в частности к составам на основе эпоксидных смол, применяемых для получения покрытий защитного назначения методом ускоренного их формирования. Фотополимеризующаяся композиция включает полисульфон на основе 2,2-бис(4-оксифенил)пропана и 4,4′-дихлордифенилсульфона, полимеризационноспособный растворитель, добавку полимеризационноспособного соединения и фотоинициатор, при этом используют полисульфон с молекулярной массой 25000-40000, в качестве полимеризационноспособного растворителя используют глицидиловый эфир крезола, в качестве полимеризационноспособного соединения - эпоксидную диановую смолу на основе дифенилолпропана и эпихлоргидрина, а в качестве фотоинициатора - гексафторфосфат дифенилйодония.