Обработка после удаления изображения, например термообработка (G03F7/40)
G Физика(403185)
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография (воспроизведение изображений или образов путем развертки и преобразования в электрический сигнал H04N)
(10965)
G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей (фотонаборные устройства B41B; светочувствительные материалы или процессы для фотографических целей G03C; электрография, чувствительные слои или процессы G03G)
(960)
G03F7 Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей (использующие фоторезистные структуры для специальных процессов см. соответствующие подклассы, например B44C,H01L, а также рубрики, например H01L21,H05K)
(566)
G03F7/40 Обработка после удаления изображения, например термообработка(2)
Изобретение относится к способу обжига покрытия подложки печатной формы. Способ обжига покрытия подложки печатной формы, выполненной из алюминия или алюминиевого сплава, включает нагрев до температуры отжига подложки, выдержку при этой температуре в течение заданного времени и охлаждение, при этом по меньшей мере, в диапазоне температур от 150°C до температуры обжига разница температур металла печатной формы, измеренная вдоль линии в продольном направлении печатной формы во время нагрева и во время охлаждения, составляет максимум 40°C на длине 40 см, а разница температур металла печатной формы, измеренная вдоль линии перпендикулярной продольному направлению, составляет менее 10°C во время нагрева и во время охлаждения.
Способ упрочнения фоторезистивной маски // 1804223
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано в производстве интегральных микросхем (ИМС). .
