Ловушки для удаления или отклонения нежелательных частиц, например отрицательных ионов, краевых электронов и избирательные устройства по скорости или массе (H01J3/40)

H01J     Электрические газоразрядные и вакуумные электронные приборы и газоразрядные осветительные лампы (искровые разрядники H01T; дуговые лампы с расходуемыми электродами H05B; ускорители элементарных частиц H05H) (10498)
H01J3/40                     Ловушки для удаления или отклонения нежелательных частиц, например отрицательных ионов, краевых электронов; избирательные устройства по скорости или массе(10)

Способ фильтрации капельной фазы при осаждении из плазмы вакуумно-дугового разряда // 2657273
Изобретение относится к области нанесения покрытий из плазмы вакуумно-дугового разряда и может быть использовано для получения фильтрованной плазмы. Способ фильтрации капельной фазы из плазмы вакуумно-дугового разряда при осаждении многослойного покрытия системы Ti-Al на поверхность детали характеризуется тем, что перед деталью на расстоянии 7 мм от нее устанавливают технологическую сетку с квадратными ячейками с оптической прозрачностью 65% из прутка нержавеющей стали, электрически соединяют с упомянутой деталью и подают на упомянутую сетку отрицательный потенциал.

Устройство для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции // 2585243
Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий и может быть использовано в электронной, инструментальной, оптической, машиностроительной и других отраслях промышленности.

Вакуумно-дуговой генератор с жалюзийной системой фильтрации плазмы от микрочастиц // 2516502
Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий и предназначено для очистки плазменного потока дуговых ускорителей от микрокапельной фракции. Вакуумно-дуговой генератор с жалюзийной системой фильтрации плазмы от микрочастиц содержит охлаждаемый катод 1 в виде усеченного конуса, поджигающий электрод 3, установленный на конической поверхности катода 1, цилиндрический охлаждаемый анод 4, установленный коаксиально с катодом 1, источник питания 5 вакуумной дуги, включенный между катодом 1 и анодом 4, источник питания 6 поджигающего электрода 3, подключенный отрицательным выходом к катоду 1, осесимметричную жалюзийную систему вставленных друг в друга конических электродов 7, электрически соединенных между собой последовательно и встречно и подключенных к источнику тока 9 и к положительному выводу источника напряжения 8, вторым выводом подключенного к аноду дугового испарителя, над анодом, до жалюзийной системы и после нее установлена, по меньшей мере, одна электромагнитная катушка 10, 11, 12 и перед жалюзийной системой электродов, соосно с ней, установлен дополнительный охлаждаемый анод 13.

Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц // 2364003
Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий и предназначено для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции. .

Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц // 2108636
Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий и предназначено для очистки плазменного потока дуговых ускорителей от микрокапельной фракции. .

Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц (его варианты) // 2107968
Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий и предназначено для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции. .

Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц (его варианты) // 2097868
Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий и предназначено для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции. .

 // 286090
 
.
Наверх