Щелевая маска цветного кинескопа

 

ЩЕЛЕВАЯ МАСКА ЦВЕТНОГО КИНЕСКОПА , содержащая вертикальные ряды отверстий и перемычек с прозрачностью , уменьшающейся пропорционально расстоянию для данного ряда от центра в направлении к периферии маски, отличающаяся тем, что, с целью повышения муароустойчивости кинескопа, отверстия и перемычки в горизонтальном и вертикальном направлениях расположены апериодически по группам вертикальных рядов отверстий и перемычек.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

Н9) (П1

3(58 Н 01 7

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЬ)Й КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИИ (21) 3505690/18-21 (22) 25.10.82 (46) 15 01,84. Бюл. М 2 (72) 3.Ю.Готра и С.И,Рыхлинская (71) Львовский ордена Пекина политехнический институт им. Ленинского комсомола (53) 621.385.832(088.8) (56) 1. Патент Cl(IA I(- 4186326, кл. Н 01 J 29/07, опублик, 1.980.

2. Патент Японии Р 55-13371, кл. H 01 3 29/07, опублик, 1980 (прототип). (54) (57) ЦЕЛЕВАЯ NACKA ЦВЕтНОГO КИНЕСКОПА, содержащая вертикальные ряды отверстий и перемычек с прозрачностью, уменьшающейся пропорционально расстоянию для данного ряда от центра в направлении к r.åðè4åðèè маски, отличающаяся тем, что, с целью повышения муароустойчивости кинескопа, отверстия и перемычки в гориэонтальном и вертикальном направлениях расположены апериодически по группам вертикальных рядов отверстий и перемычек, 106У547

Составитель В.Гарюшин

Техред О.Неце

Корректор Ю.Макаренко

Редактор A.Õèì÷óê

Заказ 11218/54 Тираж 687 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП Патент, г.Ужгород, ул.Проектная, 4

Изобретение относится к телевидению, в частности к области конструирования цветных кинескопов.

Известны конструкции щелевых масок, предназначенные для обеспечения требуемой яркости изображения, каче- 5 ствениого цветоотделения и позволяющие уменьшить вероятность возникноэения муара, Уменьшение амплитуды муара достигается правильным выбором шага отверстий щелевой маски по )Q вертикали и сведения до минимума высоты перемычек (1j .

Однако в этих конструкциях с уменьшением высоты перемычек снижается прочность маски и ее помехоустойчивость, Это условие ограничивает использование такого технического решения для получения высокой муароустойчивости.

Наиболее близкой к изобретению по технической сущности является tqeлевая маска, содержащая вертикальные ряды отверстий и перемычек с прозрачностью, уменьшающейся пропорционально расстоянию для данного ряда от центра в направлении к периферии маски, В этой конструкции маски для уменьшения вероятности возникновения муарового эффекта на экране кинескопа предлагается нарушить обычный шахматный порядок расположе- ЗО ния перемычек маски, разбив маску на несколько зон так, чтобы перемычки в пределах каждой зоны были смещены относительно перемычек соседней зоны (2 ). 35

Недостатком этой конструкции щелевой маски является ее относительно

:невысокая муароустойчивость в кинескопе при малых размерах апертуры электронного пучка, так как в преде- 4р лах каждой зоны перемычки имеют шахматное расположение, которое является регулярным. При этом перемычки расположены вдоль наклонных линий, периодически повторяющихся 45 по всей поверхности маски в пределах. каждой зоны, взаимодействи" которых со структурой телевизионного растра приводит к возникновению муара на изображении, Причем вероятность возникновения муара увеличивается с уменьшением количества вертикальных рядов в группе и, следовательно, увеличением количества повторяющихся зон) муар возникает между отдельными периодически повторяющимися зонами и структурой растра.

Цель изобретения — повышение муароустойчивости кинескопа при увеличении его разрешающей способности.

Указанная цель достигается тем, что в щелевой маске, содержащей вертикальные ряды отверстий и перемычек с прозрачностью, уменьшающейся пропорционально расстоянию данного ряда от центра в направлении к периферии маски, отверстия и перемычки в горизонтальном и в вертикальном направлениях расположены апериодически по группам вертикаЛьных рядов отверстий и перемычек.

На чертеже схематически показано расположение отверстий в щелевой маске.

Щелевая маска 1 содержит прямоугольные отверстия 2 и перемычки 3 между ними, которые образуют вертикальные ряды 4,расположенные по группам 5, Отверстия 2 имеют в направлении ряда длину d и шаг аЬ, ширину b ..

Перемычки имеют высоту и . Шаг вертикальных рядов отверстий равен а

Величина смещения соседних горизонтальных рядов отверстий равна nv .

Ширина отверстий в каждом вертикальном ряду, начиная от центра маски, уменьшается пропорционально удалению данного ряда от указанного центра.

Количество вертикальных рядов 4 в группе 5 определяется размером апертуры электронного пучка, формирующего растровое изображение на экране кинескопа. Расчет ширины эоны, содержа,щей группы и вертикальных рядов отверстий, может быть приведен из геометрических рассуждений °

Для снижения вероятности возникновения муара в пределах каждой зоны и между зонами, отверстия расположены в шахматном апериодическом порядке с переменной величиной nv таким образом, что перемычки между отверстиями не расположены на одной прямой линии ни в пределах каждой эоны, ни по всей поверхности маски.

Таким образом, предлагаемая щелевая маска обеспечивает высокую муароустойчивость кинескопа при сохране нии разрешающей способности. При этом сохраняется механическая прочность маски и не нарушается технологический процесс ее изготовления.