Способ изготовления фотополимерных печатных форм

 

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТбПОЗШМЕРНЫХ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ путем экспонирования фотополимерной пластины, последовательного проведения стадий проявлений раствором щелочи, промыв Fr:v ,-. h . .3 ки j дбэкспбШ1рова1т« допопнителъкой обработки раствсфом сети миогрва ентного металла и сушгв о t л мч а ю ц я и с X -ten что, с ценные повывения уетойчя1юс1П1 форм при матрицирования , яослв щюведеяня. стздшс сушки на рабочую а бокошм .щ верхноети печатапццх эле юят6в нацос слой тсиздиной 10-20 мкм жидкого полясилоксана общей формулы СНз т г ЧзС-gi-l-O-Si 4o-$i- СНз I L I Jh I CHi СН, R где водород, метял, этил, феиил шш хлорфеяил} jRj- метил, этил, фенил, НИЛ или -O-Si-CgH Cl СН, и-1-9. «

СОО3 СОВЕТСКИХ с ИОВАМ

РЕСПУБЛИК, а 03 г 1/Оо

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДРЬМ ИЗОВЕТЕНИй И ОТНР1.ВЮ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ н ьвтьььневю сььььььвъьь»

ti 1-9. (21) 3506712/28 -12 (22) 25..10.82 (46) 23.05.84. Вил М19 (72) 0 А. Белицкий, В.И. Ковалииии, С.И. Велицкая, А.В. Вайнер и Т.В. Емелвяйова (71) украинский научно-исследовательс, кий институт полиграфической нромыиленностн (53) 655.2(088.8) (5ф). 1.. Изготовление фотополимерных печатных форм "Целлофот"- (тип В) для .печатания книйно-курналъной продукции на плоскопечатных и ротационных иваннах высокой печати. Технологичес»

«ая инструкция, Госкомиздат СССР, 1980.

2 . Патент СЮА Ю 3252800, опублик. 24.05.66, кл.96-1 15.

3, Патент США 93262180, опублнк.

26.07.66, кл. 96-48 (прототип) ° (54)(57) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПО

ЛИМЕРНЫХ ПЕЧАТНЫХ ФОРИ путем экспони» рования фотополимерной пластины, последовательного проведения стадий проявлениЯ раствором щелочи, промывSU, 1094017 А ки дозкснонированиа, дапоинителвиой обработхи раствором с щи миогова" .лентного металла и суюки., о т л ич а в щ и и с к тем, что, с це .ивю. повьюения устойчивости форм нри матрицнроваинн, после проведения. стадии суихи на рабоче и блоковые.иирверхности печатаищых злемвнтов иаиосйт слой толщиной 10-20 мкм ющкого полисияоксана общей формулы! ск, в . ca

0-И 0-М

3. 2 3 ® где Ф - водород, метил, зтил, фени» илй хлорфеиип1

Я2- метил, этил, фенил,,клорфеСЯ5

l нил или —. 0 - gj — QP@Ci ! снз

1094017

Изобретение относится к способам изготовления фотополимерных печатных форм, используемых в полиграфической промышленности в качестве первичных форм для изготовления матриц.

Известен способ изготовления фотополимерных печатных форм "Целлофот", состоящий в последовательном проведении стадий экспонирования, проявления, промывки, доэкспонирова1О ния и сушки 1 Д.

Однако с использованием формы, . из-. готовленной по этому способу, получить качественную матрицу не удается.

Известен способ изготовления фотб!

5 полимерных печатных форм, состоящий в последовательном проведении стадий экспонирования, проявления, промыв" ки, доэкспонирования, дополнительной обработки раствором ацетата НВТрНН и сушки 2 ).

Однако по этому способу получают фотополимерные печатнь1е формы с незначительной повышенной устойчивостью .при матрицировании.

Известен так:ке способ изготовления фотополимерных печатных форм после" довательным проведением стадий эксп чирования, проявления раствором щелочи, промывки, доэкспонирования, дополнительной обработки раствором соли многовалентного металла и сушки 1.3 ).

Однако полученные по известному способу фотополимерные печатные формы 3$ не обладают необходимой устойчивостью.

1 при матрицировании.

Целью изобретения является повышение устойчивости фотополимерных печатных форм при матрицированни. . 40

Поставленная цель достигается тем, что согласно способу изготовления фотополимерных печатных форм путем экспонирования фотополимерной пластины, последовательного проведения 4S а)гадий проявления раствором щелочи, промывки, доэкспонирования, дополнительной обработки раствором соли .многовалентного металла и сушки, после проведения стадии сушки на рабо- О чую и боковые поверхности печатающих элементов наносят слой толщиной 1020 мкм жидкого полисилоксана общей

Формулы, д

К С-8i 0-81 О- 01- сК3

3 1

СН3 Вг " СНЗ где Р— водород, метил, этил, фенил или хлорфенил 2- метил, этил, .фенил, хлорфеснз

1 нил илн —.0-31- С EgC1

НЗ .ь 1-9, При матрицировании с использованием фотополимерной печатной формы, изготовленной, например, из пластины "Целлофот", с нанесенным слоем жидкого полосилоксана удается получить 3-5 матриц хорошего качества, в то время как печатающие элементы форм, не обработанных им, разрушаются при вторичном матрицировании.

Пример 1. Из фотополимеризующейся пластины "Целлофот" вырезают

1 образец формата 40х50 мм. Накладывают негатив, содержащий точки диаметром 0,5 мм и экспонируют ультрафиолетовым светом при помощи ламп

ЛУФТ-60, расположенных на расстоянии 6 см от поверхности пластины, в. течение 15 мин. Полученные фотополимерные копии вымывают 0 15Х-ным водным раствором гндроокиси натрия в течение 15 мин. Получают фотополимерные печатные формы, рельеф которых соответствует изображению негатива. Образцы доэкспонируют в течение 5 мин под лампами ЛУФТ-60, проводят дополнительную обработку путем погружения на 3 мин в 5Х-ный раствор хлористого .кальция и сушат в течение 3 мин при 120 С. Высушенную форму. покрывают слоем жидкого полиоксана, имеющего укаэанную формулу, где й„ вЂ” метил, сн3

I - Π— Я вЂ” CgH@C1 ! 3

Толщина слоя, определенная весо вым методом, составляет 10 мкм.

Устойчивость полученной фотополимерной печатной формы при матрицировании определяют следующим образом.

Прн помощи оптической системы полумикротвердомера ПМТ-3 (ГОСТ 10717-81) производят замер диаметра точек на образце. Затем образец помещают в матричный пресс и производят матрнс

109401 7 цирование с использованием матричного картона, имеющего влажность 20Х, при удельном давлении 16 МПа (160 атм) .

После выдержки под давлением в течение 1 мин образец вынимают иэ прес- Э .са, снимают матрицу, повторяют замер диаметра точек на образце и рассчитывают искажение точки (печатающего элемента) в соответствии с методикой, изложенной в Г13 по формуле

N -Ш

dl = 100X

1 где bi - относительное искажение печатающих элементов,7;

Ш вЂ” диаметр точки (печатающего

1 элемента) до матрицирования, мм;

Ul2- диаметр точки (печатающего элемента) после матрици- 20 рования.

Матрицирование повторяют до тех пор, пока относительное искаженйе печатающего элемента не превысит

3,5Х, после чего форму считают . вышедшей иэ строя. С данного образца снято 5.матриц.

Параллельно готовят образец не производя нанесения на готовую форму жидкого полисилоксана. Количество матриц, снятых с данного образца, составляет 1 шт.

Пример 2. Образец готовят аналогично примеру 1, применяя для нанесения на рабочую и боковые по- 35 верхности печатающих элементов фотополимерной печатной формы жидкий полисилоксан указанной формулы, где р 1 и R2- метил, и =8.

Толщина слоя 10 мкм. 40

В результате испытаний, проведен" ных аналогично примеру 1, с подготовленного образца удалось снять четыре . матрицы. фЯ

Пример 3. Образец готовят аналогично примеру 1, применяя для нанесения на рабочую и боковые поверхности печатающих элементов фотополимерной печатной формы жидкий 50 полисилоксан укаэанной. формулы, где

Я1- метил, R — этил, n=3.

Толщина слоя 2О мкм.

В результате испытаний, с подго товленного образца удалось снять 4 матрицы.

Пример. 4. Образец готовят аналогично примеру 1, применяя для нанесения на рабочую и боковые по- верхности печатающих элементов фотополимерной печатной форйы жидкий полисилоксан указанной формулы, где К1- фенил, А2- метил, л =9.

Толщина слоя 20 мкм.

В результате испытания, с подготовленного образца удалось снять четыре матрицы.

Пример 5. Образец готовят аналогично примеру 1, применяя для . нанесения на рабочую и боковые поверхности печатающйх элементов фотополимерной печатной формы жидкий полисилоксан указанной формулы, где P— водород, А2- фенил, л =4.

Толщина слоя 15 мкм.

В результате испытаний, с подготовленного образца удалось снять три матрицы.

Пример 6. Образец готовят аналогично примеру 1, применяя для нанесения на рабочую и боковые поверхности печатающих элементов фотополимерной печатной формы жидкий полисилоксан указанной формулы, где

R í Я - этил, п =7.

Толщина слоя 10 мкм.

В результате испытания . с подготовленного образца удалось снять 3 матрицы.

Пример 7.Образец готовят аналогично примеру 1, применяя для нанесения на рабочую и боковые поверхности печатающих элементов фотополимерной печатной формы жидкий полисилоксан указанной формулы, где R — метил, R -хлорфенил, и =6.

Толщина слоя 15 мкм.

В результате испытаний, с подготовленного образца удалось снять пять матриц.

Пример 8. Образец готовят аналогично примеру 1, применяя для дополнительной обработки фотополимерной печатной формы 10Х-ный раствор сернокислого цинка. Нанесение жидкого йолисилоксана проводят как в примере 1.

С подготовленного образца удалось снять четыре матрицы.

Пример 9. Образец готовят аналогично примеру 1, применяя для дополнительной обработки фотополимерной печатной формы 5Х-ный раствор азотнокислого алюминия. Нанесение жидкого полисилоксана проводят в примере 1. В результате испытаний с подготовленного образца удалось снять пять матриц.

1094017

Жидкий полисилоксаи

Пример

3 !

A = - o - Si- c

СН3 к„-метка, п-1

20

1 1 фенилi к2 1 водород 2 фе-нил!

И.1 «метил и -6

R -хлорфениа

В ° 1З

R --0-$1- CgH@C1 3 сн

В. -метил, 10 и-1

9 «т »

10

Hsаестный Вез нанесения мидкого полисилоксана °

1 ческои процессе печатания газет на пунктах.децентрализованной печау) ти, применяицих негативы газетных полос, переданных по каналаи связие

ВНИИПИ Завива 3423/38 . шираз 464 Подписное . фишищ ШШ Ъатеат" ° г» Уагерод,уа.Проектная, 4

ППВ .Патент Зак. Утз

П р н м е р 10. Образец готовят. аналогично примеру 1, применяя для дополнительной обработки фотополимерной печатной формы SX-ный раствор сер-. нокнслого келеза. Нанесение кндкого полисилоксана, проводят как в прииере 1. В результате испытаний.. с аодготовленного образца удалось снять .4 матрицы.

П р и и е р 11. Образец готовят аналогично примеру 1, используя в

2 . R u R -метил, и -8

3 К„ -метил, R2-ýòíà, и -3 б R> и К2 -зтил, и -7

Применение предлагаемого способа позволит повысить устойчивость фотополимерных печатньк форм при матрицировании, что дает возмоиность использовать их в технологикачестве исходного матерйала фотополимеризующуюся пластину на основе ацетофталата целлюлозы. Нанесение кндкого полисилоксана проводят как описано в примере 1. В результате испытаний с подготовленного Образца удааось снять 5 матриц.

В таблице приведены результаты испытаний нредлагаемыи и иэвестныи способавы.

Толщина слоя, мки Количество матриц ют

Способ изготовления фотополимерных печатных форм Способ изготовления фотополимерных печатных форм Способ изготовления фотополимерных печатных форм Способ изготовления фотополимерных печатных форм 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Наверх