Способ очистки пробелов фотополимерных печатных форм на основе полиакрилатов

 

1. СПОСОБ ОЧИСТКИ ПРОБЕЛОВ ФОТОПОЛИМЕРНЫХ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ НА ОСНО-, BE ПОЛИАКРИПАТОВ, включающий обработку их водным раствором натриевой соли угольной или ортофосфорной кислоты , отличающийся тем, что, с целью повышения репррдукщюнных и печатных свойств формы, обработку проводят раствором, приготовленным на воде, подвергнутой электролизу до потенциала в зоне отрицательного электрода от 900 до 300 мВ при 20-25°С. 2. Способ по п. 1,отличающ и и с я тем, что натриевая соль содержится в количестве 0,3-1,5%. ko

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

COUHIIM

РЕСПУБЛИН

ОВ (11) SU

acso G 03 F 7 0

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ HOMHTET СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И OTHPbIYIO

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

%3F

,, ;.,)3 д ИКА (21) 3553628/18-10 (22) 09.02.83 (46) 23.09.84,Бюл. В 35 (72) В.М.Афанасов, Е.Н.Болотский, В.А.Внльчинский, М.А.Заугольников, А.Ф.Козлов, С.И.Тевелева, Б.С.Фридман, П.У.Гамер, П.А.Кирпичников, А.Г.Лиакумович и И.М.Магдеев (71) Курский завод "Счетмаш" и Казанский химико-технологический институт им. С.М.Кирова (53) 777(088.8) (56) 1. Авторское свидетельство СССР

В 452800, кл. С 03 F 7/10, 1971.

2. Авторское свидетельство СССР

9 467313, кл. G 03 F 7/10, 1973 (прототип). (54) (57) 1. СПОСОБ ОЧИСТКИ ПРОБЕЛОВ

ФОТОПОЛИМЕРНЫХ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ НА ОСНОBE ПОЛИАКРИПАТОВ, включающий обработку их водным раствором натриевой соли угольной или ортофосфорной кислоты, отличающийся тем, что, с целью повышения репродукционных и печатных свойств формы, обработку проводят раствором, приготовленным на воде, подвергнутой электролизу до потенциала в зоне отрицатель" ного электрода от 900 до 300 мВ при

20-25 С.

2. Способ по и. 1, отличающийся тем, что натриевая соль содержится в количестве 0,3-1,5Х. ф

011

1 1115

Изобретение относится к технологии изготовления фотополимерных печатных форм (ФПФ) и может быть использовано в полиграфической и приборостроительной промышленности. 5

Известен способ очистки пробелов фотополимерных печатных форм смесью воды и ацетона (1).

Однако этот растворитель при очист. ке пробелов на ФПФ из полиакрилатов 10 вызывает повышенное набухание печатающих элементов.

Наиболее близким по технической сущности к предложенному является способ очистки пробелов фотополимер- 1 ных печатных форм на основе полиакрилатов, заключающийся в том, что пробелы обрабатывают 0,5-2,5%-ный водным раствором натрневой соли уголь ной или фосфорной кислоты при 50 — 2O

70 С (2).

Однако известный способ .очистки характеризуется получением печатных форм с низкими репродукционными и печатными свойствами в связи с тем, 25 что использование высокой температуры при очистке пробелов приводит к появлению внутренних напряжений и трещин в заполимеризовавшейся композиции и графическому искажению узких пробелов, а также к пилообразному профилю печатающих элементов.

Целью изобретения является повыше-, ние репродукционных и печатных свойств формы. 35

Поставленная цель достигается тем, что согласно способу очистки пробелов фотопопимерных печатных форм на основе полиакрилатов, включающему обработку их водным раствором натриевой О соли угольной или ортофосфорной кислоты, обработку проводят раствором, приготовленным на воде, подвергнутой электролизу до потенциала в зоне отрицательного электрода от 900 до 4>

300 мВ при 20-25 С, Натриевую соль используют в концентрации 0,3-1,5%.

Снижение температуры в предложенном способе очистки пробелов фотопо- 50 лимерного слоя до 20-25 С происходит благодаря использованию водного раствора натриевой соли угольной или фосфорной кислоты, приготовлейного на воде, предварительно подвергнутой 55 электрообработке. Присутствие элект.роактивированной воды в растворе улучшает его физико-химические свойства, в частности смачиваемость состава.

Пример 1. Сухой пленочный фоторезист наносят на заготовки печатных плат при помощи валковой машины ламинатора, далее экспонируют со стороны негатива в вакуумной копировальной раме люмнносцентными лампами

ЛУФ-80 в течение 1-2 мин. Для приготовления водного раствора для очистки пробелов фотополимерного слоя используют воду из зоны отрицательного электрода диафрагменного электролизера с потенциалом — 900 мВ.

Приготовление растворов необходимо вести в течение времени стадии медленной электрохимической релаксации электроактивированной воды до редокс-потенциала от -900 мВ до

-300 мВ, которое составляет около

8 ч. Обработку ведут при 20-25 С в течение 1-2 мин. Затем заготовки промывают в дистиллированной воде и сушат теплым воздухом при 40-50 С в тео чение 1 мин.

П р и и е р 2. Выполняют аналогично примеру 1, но используют 0,31,5 -ный водный раствор натриевой соли фосфорной кислоты Na P04.

Составы образцов водных растворов я очистки пробелов приведены в табл. 1.

Определение репродукционных и печатно-технических свойств ФПФ проводят по следующим показателям: проявляемость фоторезиста; графическая точность передачи. изображения.

Проявляемость фоторезиста оцени- вают временем, при котором произошло полное растворение неэкспонированного слоя при неповрежденном экспонированном слое. Для этого используют следующие характеристики: допустимый интервал проявления л

С маК драят i устойчивость фаторезиста к раство рам (проявителям) л э сп и

"опт и где „- время проявления первых следов разрушения экспог нированного слоя; ащт — время полного разрушения неэкспонированных. участков слоя

" ксп — время полного разрушения экспонированных участков слоя.

3 1115011 - 4

Графическую точность передачи Изменение размеров (50 мкм и изображения оценивают по следующим 200 мкм) штрихов определяется при характеристикам: изменение размеров, - одинаковой толщине (30 мкм) светоштрихов в процессе проявления; неров- чувствительного слоя. Ширину штриха ность края. определяют как расстояние между

Каждым составом обрабатывают по средними линиями границ элементов. семь тест-объектов и вычисляют харак- Неровность края оценивают как потеристики как среднеарифметическое ловину разности между самой большой значение. и самой маленькой шириной штриха в

Изменение размеров штрихов оцени- 10 мкм и в Х относительно ширины штриха вают с помощью абсолютного искажения на негативе (Ы, Ж).. штриха (ЬЬ в мкм) и относительного Результаты испытаний приведены искажения, рассчитываемого по форму- в табл. 2. ле Такйм образом, предложенный спо ффс.

15 соб очистки пробелов по сравнению с ьЪ„,,,известным обеспечивает увеличение

b проявляемости фоторезиста в 1,82,0 раза, повышение графической точгде Ь вЂ” ширина штриха на негативе; ности передачи изображения в два pahb — разность ширины штриха на 20 за с уменьшением неравномерности негативе и копии. края с 6 — 10 до 3 — 5X.

Таблица 1

Натриевая соль угольной кислоты, вес.X

Натриевая соль фосфорной кислоты, вес. Ж

Растворитель

По предга- По иэвестемому спо- ному способу собу.

По предла- По иэвестемому спо- ному способу собу

Электроактивированная вода с потенциалом от -300 до

-900 мВ

0,3-1,5

0,3-1,5

0,5-2,5

0,5-2,3

Вода

Таблица 2

Натриевая соль угольной кислоты, вес.Х триевая соль фосфорной слоты, весЛ, Технологические характеристики способа очистки пробелов печатных форм

По предлагаемому способу (при 20-25 С) По извест ному способу. (при 5070 С) По предла-, По известногаемому . му способу способу (при 50-. 70 С) (п1зи 2025 С) Устойчивость фотореэистора P й

45-50

80-90

45-50

80-90

Неровность края элементов копии (Ь1 „,Ж) 8-10

6-10 3,5-4

3-5

Изменение размеров элементов копии. (ото ") 1 3-20 6-10

t2-22

5-10

Способ очистки пробелов фотополимерных печатных форм на основе полиакрилатов Способ очистки пробелов фотополимерных печатных форм на основе полиакрилатов Способ очистки пробелов фотополимерных печатных форм на основе полиакрилатов 

 

Похожие патенты:
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий

Изобретение относится к области микролитографии (в частности, к рентгенолитографии) и может быть использовано при изготовлении, например, печатных форм (клише) для высокой печати с субмикронным разрешением структур рисунка, используемых, преимущественно, при изготовлении денежных знаков и иных ценных бумаг, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением его структур в функциональных слоях изделий

Изобретение относится к ракетным двигателям космических аппаратов и, более конкретно, к ионным двигателям малой тяги
Изобретение относится к области микролитографии, в частности к фотолитографии
Изобретение относится к области микролитографии, в частности к фотолитографии

Изобретение относится к устройствам экспонирования, а именно к системам для переноса преобразованных в цифровую форму изображений на чувствительную основу

Изобретение относится к микротехнологии

Изобретение относится к способу формирования рисунка в полимерных пленках, которые могут использоваться в качестве электродов с рисунком или пикселей в оптоэлектронных дисплеях
Наверх