Способ изготовления узкополосного абсорбционного фильтра пропускания

 

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ УЗКОПОЛОСНОГО АБСОРБЦИОННОГО ФИЛЬТРА ПРОПУСКАНИЯ, включанлций формирование полосы пропускания спектрально селективным высвечиванием фотохромного вещества узкополосным лазерным облучением в охлажденном до температуры жидкого гелия растворе, отличающийся тем, что, с целью обеспечения возможности изготовления фильтров с. заданным сложным профилем пропускания, фотохромное вещество растворяют в растворителе , образующем стекло при охлажде:НИИ раствора до ;рабочей температуры фильтра.

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСРУБЛИН (! 9) (r I) (sr)4 С 02 В

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

Il0 ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТ

К ABTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ ъ (21) 2912801/18-10 (22) 06.05.80 (46) 15.09.85. Бюл. Р 34 . (72) Л.А.Ребане, А.А.Гороховский и Я.В.Кикас (71) Институт физики АН ЭССР (53) 535.6 (088.8) (56) 1.Гороховский А.А. и др. Письма в ЖЭТФ, т.20, вып. 7, с. 474-479, 1974. (54)(57) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ УЗКОПОЛОСНОГО АБСОРБЦИОННОГО ФИЛЬТРА

ПРОПУСКАНИЯ, включающий формирование полосы пропускания спектрально селективным высвечиванием фотохромного вещества узкополосным лазерным облучением в охлажденном до температуры жидкого гелия растворе, о т1 личающийся тем, что, с целью обеспечения. возможности изготовления фильтров с заданным сложным профилем пропускания, фотохромное вещество растворяют в растворителе, образующем стекло при охлажде;:нии .раствора до:рабочей температуры фильтра.

Составитель M.Çåìëÿíèöûí

Техред М. Гергель

Корректор А.Зимокосов

Редактор П.Горькова

Заказ 6397/2 . Тираж 526

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по Делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб.; д.4/5

Подписное филиал ППП "Патент", r.Óæãoðoä, ул.Проектная,4

1 11353

Изобретение относится к оптическому приборостроению, конкретно к технологии изготовления фильтров пропускания. которые могут быть применены в системах лазерной связи 5 и локации.

Известен способ формирования узких провалов в спектрах поглощения путем облучения монохроматическим светом твердого поликристаллического раствора фотохромного вещества, охлажденного frо температуры жидкого гелия. Провал в спектре поглощения возникает благодаря селективному высвечиванию из всей неоднородно 15 уширенной спектральной полосы примесных молекул, частота чисто электронного перехода которых попадает в резонанс с лазерным излучением и в которых индуцируется фотохромная 20 трансформация (1) .

У.;азанный способ однако не может быть применен для изготовления узкополосных абсорбционных фильтров пропускания со сложным заданным профи- 25 лем пропускания, так как спектры поглощения таких систем состоят из небольшого числа узких (менее О, 1 нм) линий.

Целью изобретения является обес- 3п печение возможности изготовления фильтров с заданным сложным профилем пропускания.

Поставленная цель достигается тем, что в способе изготовления узко- полосного абсорбционного фильтра пропускания, включающем формирование полосы пропускания спектрально селективным высвечиванием фотохромного вещества узкополосным лазерным 4б облучением в охлажденном до темпера-. турЫ жидкого гелия растворе, растворяют фотохромное вещество в растворителе, образующем стекло при охлаждении раствора до рабочей температуры фильтра.

Для изготовления фильтра подбирают фотохромное вещество и растворитель, образующий стекло при охлажде- нии, так, чтобы полоса чистоэлектронного поглощения примеси перекрывала заданную полосу пропускания фильтра °

Приготовленный раствор помещают в плоскую кювету толщиной 1-10 мм, охлаждают до рабочей температуры фильтра 2-5 К и облучают лазером, плавно сканируя длину волны лазера, или на дискретном множестве частот до формирования необходимого профиля пропускания.

Пример изготовления узкополосного абсорбционного фильтра пропускания. Насыщенный раство Н -тетра4-трет-бутилфталоцианина в смеси изобутиловый спирт с эфиром в соотношении 2:5 по объему (концентрация примеси 10 моль/л) помещают в плоскую кювету толщиной 1-10 мм и охлаждают до 2-5 К. Облучение кюветы оксазиновым лазером на длинах волн

694,2 нм, 696,2 нм и 699 нм (плотность дозы 10 "Дж.см ) приводит к просветлению кюветы с раствором на этих частотах, т.е. образованию трехполосного абсорбционного фильтра пропускания. Спектральная ширина отдельных полос пропускания 5l10 Э нм.

Предлагаемый способ позволяет изготовлять фильтры пропускания со сложным заданным профилем пропускания, которые по спектральному разрешению превышают лучшие интерференционные фильтры и в отличие от последних позволяют работать в неколлимированных световых пучках.

Способ изготовления узкополосного абсорбционного фильтра пропускания Способ изготовления узкополосного абсорбционного фильтра пропускания 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области оптического приборостроения, к технологии изготовления оптических элементов, а именно к способам изготовления элементов оптико-электронных систем, которые могут быть использованы для равномерного ослабления падающего излучения при низком отражении в широкой области спектра

Изобретение относится к области оптического приборостроения, а именно к элементам оптико-электронных систем, которые могут быть использованы для равномерного ослабления падающего излучения при низком отражении в широкой области спектра

Изобретение относится к области медицины, использующей для лечения онкологических заболеваний фотодинамическую терапию (ФДТ), и, в частности, служит для защиты зрения лечащего персонала от воздействия отраженного и рассеянного излучения терапевтических лазеров [на парах золота с длиной волны 633 нм или диодных с длиной волны 670 нм и мощностью 0,5-2,5 Вт]

Изобретение относится к оптическим покрытиям, характеризующимся высоким уровнем поглощения электромагнитного излучения УФ, видимого или ближнего ИК-диапазона и низким коэффициентом отражения в области поглощения, а также высокой спектральной селективностью, и может быть использовано в лазерно-оптических системах для мониторинга и диагностики, в приборостроении и в электронной технике, при изготовлении приемников излучения, преобразователей солнечной энергии, устройств оптической обработки информации и т.д

Изобретение относится к области оптического приборостроения, а именно к элементам оптико-электронных систем, которые могут быть использованы для равномерного ослабления падающего излучения при высокой разнице спектрального отражения со стороны подложки и со стороны покрытия

Изобретение относится к пленке, устойчивой к неблагоприятным погодным условиям, для окрашивания в желтый цвет световозвращающих формованных изделий, например дорожных знаков
Наверх