Дозатор пара

 

Изобретение может быть использовано в технологии полупроводниковых элементов и позволяет получить пар высокой чистоты и заданное naipциальное давление, а также экономию электроэнергии. Устройство содержит систему 1 регулирования подачи газа и кварцевую трубу 2, на торце 6 которой установлен увлажнитель 3, выполненный в виде газовой горелки из кварцевого стекла. К входам газовой горелки по кислородной трубке 5 и размещенной в ней водородной трубке 4 подаются водород, кислород и инертные газы через систему 1 регулирования , в атмосфере которых происходит окисление полупроводниковых пластин в кварцевой трубе 2. Для стабилизации окислов можно вводить добавки других газов. (1 ил). $ (Л Ъд u Од

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (ю 4 G 01 F 13/00

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМ У СВИДЕТЕЛЬСТВУ ут> ап с

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ll0ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И OTHPblTVM (21) 3592656/24-10 (22) 11. 03. 83

:: (46) 30.07.86. Бюл . У 28 (72) Ю.С. Четверов (53) 532. 14 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

У 286269, кл. G 01 F 11/00,1967 г.

Кремниевые планерные транзисто ры. /Под ред. проф. Федотова Я.А., М., 1973, с. 22. (54) ДОЗ АТОР ПАРА (57) Изобретение может быть исполь-. зовано в технологии полупроводниковых элементов и позволяет получить пар высокой чистоты и заданное нар„„SU„„A1 циальное давление, а также экономию электроэнергии. Устройство содержит систему 1 регулирования подачи газа и кварцевую трубу 2, на торце 6 которой установчен увлажнитель 3, выполненный в виде газовой горелки из кварцевого стекла. К входам газовой горелки по кислородной трубке 5 и размещенной в ней водородной трубке

4 подаются водород, кислород и инертные газы через систему 1 регулирования, в атмосфере которых происходит окисление полупроводниковых пластин в кварцевой, трубе 2 ° Для стабилизации окислов можно вводить добавки других газов. (1 ил).

Изобретение относится к дозиро ванию паров воды и может быть ис: пользовано в технологии полупроводниковых элементов.

Целью изобретения является полу. чение пара высокой, чистоты, заданного парционального давлейия и экономия электроэнергии.

Hq,.чертеже.: робрйжен дозатор пара °

:, Устройство содержит систему 1 рй улирования,подачи rasa, кварцевую трубу 2 и увлажнитель 3, который

°,b .4 выполнен - в вйде,газовой горелки из кварцевого стекла, в котором водородная трубка 4 размещена внутри кислородной 5, а газовая горелка установлена на торце 6 кварцевой трубы 2. ,Дозатор пара работает следующим образом.

Перед началом проведения процес" са доэирова щя контролируется температура в рабочей зоне и температура в области выходного отверстия газовой горелки. Затем открывают краны рабочего и инертного газа горелки для продувки системы в течение 10-20 мин, открывают водородный кран и по ротаметру устанавливают расход.

На выходе газовой горелки водород самовозгорается и в кварцевую трубу 2 поступает водяной пар. Скорость газа, выходящего через выходное отверстие газовой горелки 5 должна удовлетворять следующему не.равенству: — )

S где W — - объем вытекающего газа, S - -сечение выходного отверстия газовой горелки, Ч.- скорость. отрыва факела.

- Иэ экспериментальных данных ско. рость .отрыва факела должна быть 9.м/с и регулироваться объемом выходящего газа или выходным сечени ем газовой горелки. . При меньших скоростях потока водородное пламя приводит к деформаци газовой горелки в связи с размягче.нием кварца. . Время окисления в парах воды

15 мин или более. Затем перекрывается водородный кран и окисление продолжается в сухом кислороде.

ВНИИПИ .Заказ 4111/38

1247660

Дозатор пара, содержащий систему регулирования подачи газа, кварцевую трубу и увлажнитель, о т л ич а ю .шийся тем, что, с целью получения паров высокой чистоты, и О заданного парциального давления и экономии электроэнергии, увлажнитель выполнен в виде газовой горелки из. кварцевого стекла, в который водородная трубка размещена внутри кисло-, М родной, а газовая горелка .установлена на торце кварцевой трубы.

Тираж 705 ° ." Подписное г. Ужгород, ул. Проектная, 4. Произв.-полигр. пр-тие, Кварцевая кассета с полупроводни. ковыми пластинами находятся в рабочей зоне с заданной температурой.

Процесс окисления полупроводни" ковыЫ пластин,.находящихся на кас" сете, в кварцевой трубе 2 проводится при температуре в рабочей зоне в пределах от 800 до f250 С.

Система подачи газов позволяет

10 вводить добавки других газов, например НС1,для стабилизации окислов.

Пример. Газовая горелка и кварцевая труба изготавливаются из труб плавленного кварца (фиг. 1) пу1S тем получения спая кварцевого стекла — кварцевое стекло с применением пропановой горелки.

Диаметр трубы 100 мм и длина

2000 мм, диаметр трубки подачи во"

20 дорода и азота 7-10 мм и длина

300 мм с выходным отверстием диаметром 2 мм, диаметр трубки для подачи кислорода 8-25 мм и длина 100 мм, выходное отверстие диаметром 3 мм, ?5 а входное отверстие выполнено из трубки аналогичной трубке для подачи водорода.

Водород, кислород и инертные газы подаются через систему ротамет-, ров и кранов к входам газовой горелки.

Входы газовой горелки соединяются фторопластовыми трубками через пе° реходные устройства герметичным уплотнением с системой регулирования подачи газа.

За счет снижения трудоемкости обслуживания и сокращения подготовительных операций экономия времени, составит 25 мин на каждом процессе

-окисления.

Формула из обретения

Дозатор пара Дозатор пара 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к приборостроению и может найти применение в технологических аппаратах для автоматической подачи заданных доз жидкости

Изобретение относится к устройствам для дозирования сыпучих мелкодисперсных материалов с последующей их транспортировкой газовым потоком

Изобретение относится к объемным дозаторам и позволяет повысить надежность и точность дозирования

Изобретение относится к управлению скорости подачи топлива в двигатель внутреннего сгорания, предпочтительно непосредственным впрыскиванием

Изобретение относится к области дозирования и переноса мелкодисперсных порошков с регулируемым массовым расходом, в частности для подачи оксидов высокообогащенного урана в пламенный реактор фторирования

Изобретение относится к области машиностроения и может быть использовано во многих отраслях производства и сферы услуг для автоматического преобразования непрерывного потока жидкости с относительно небольшим расходом в дискретную подачу заданного ее объема со значительно большим расходом

Изобретение относится к дозирующим устройствам жидкостей и может быть использовано в литейном производстве, пищевой и химической промышленности для дозировки обычных жидкостей и жидкостей, после дозировки которых требуется промывка дозатора, причем дозатор может работать в автоматическом или ручном режиме

Изобретение относится к технике транспортирования природного газа и может быть использовано на газораспределительных станциях (ГРС)

Сифон // 2127833
Изобретение относится к гидроавтоматическим устройствам и может быть использовано во многих отраслях народного хозяйства для автоматического преобразования непрерывного потока жидкости с относительно небольшим расходом в дискретную ее подачу с большим расходом

Изобретение относится к области электротехники

Изобретение относится к оборудованию для дозированной подачи порошкового материала в установках для нанесения покрытий
Наверх