Устройство для жидкостной обработки полимерной пленки

 

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИН

„„SU„„1255453 А1 (51) 4 В 29 С 71 00

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

H А ВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

У 1g

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

IlO ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3870843/23-05 (22) 21.03.85 (46) 07.09.86. Бюл. № 33 (72) Ю. Я. Бекесевич, 3. И. Сулыма, О. Я. Солома и Е. P. Кушпета (53) 678.057.5 (088.8) (56) Шенкель Г. Шнековые прессы для пластмасс.-Л.: Госхимиздат, 1962, с. 378.

Авторское свидетельство СССР № 596466, кл. В 29 D 7/20, 1976. (54) (57) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЖИДКОСТНОЙ ОБРАБОТКИ ПОЛИМЕРНОЙ ПЛЕНКИ, содержащее ванну с входным и выходным отверстиями для пленки, размещенные в ванне с возможностью вращения на осях полые валки, форсунки и коллекторы, соединенные с насосом, отличающееся тем, что с целью повышения качества обработки пленки за счет обеспечения равномерного натяжения при ее перемещении через ванну, в нем каждая ось выполнена с каналом подачи жидкости в полость валка и связана с коллектором, форсунки смонтированы в стенках каждого валка, равномерно по окружности по касательной к его поверхности в направлении, противоположном направлению вращения, причем устройство снабжено отражательными гильзами, расположенными с зазором концентрично относительно каждого валка напротив форсунок и выполненными каждая в виде полого конуса, основание которого направлено к центру валка.

1255453

Изобретение относится к устройствам для обработки пленок, преимущественно полимерных, в жидкой среде и может быть использовано при производстве тонких малопрочных пленок, обладающих усадочной способностью при их взаимодействии с обрабатывающей средой.

Целью изобретения является повышение качества обработки пленки за счет обеспечения равномерного натяжения при ее перемещении через ванну.

На фиг. 1 показано предлагаемое устройство, общий вид в разрезе; на фиг. 2— разрез А — А на фиг. 1; на фиг. 3 — разрезы Б — Б на фиг. 2.

Устройство содержит ванну 1 с входным

2 и выходным 3 отверстиями. В ванне 1 размещены в два ряда валки 4 с полостью

5, смонтированные с возможностью вращения на осях 6, неподвижно закрепленных

»а стенках 7 ванны 1. Оси 6 сообщены посредством фланцев 8 с коллекторами 9, свя за н ны м и с на сосо м 10.

Каждая ось 6 выполнена с каналом 11 подачи жидкости в полость 5 валка 4 и отверстиями 12. В стенках каждого валка 4 смонтированы равномерно по окружности форсунки 13 по касательной к поверхности валка 4 в направлении, противоположном направлению вращения валка 4.

Напротив форсунок 13 в ванне 1 установлены отражательные гильзы 14, выполненные в виде полого конуса и смонтированные концентрично валку 4 и форсункам

13. При этом между внутренней поверхностью конуса гильзы 14 и валком 4 выполнен зазор 15. Основание конуса гильз 14 направлено к центру валка 4. На трубопроводах, соединяющих насос 10 с коллекторами 9, смонтированы вентили 16 — 18 для регулирования подачи жидкости в коллекторы 9 и в полости 5 валков 4.

Устройство работает следующим образом.

Обрабатываемую пленку 19 заправляют в устройство через входное отверстие 2, размещают на валках 4 в ванне 1 и выводят из устройства через выходное отверстие 3 ванны !. Затем включают насос 10, который забирает жидкость из ванны 1 и подает ее по трубопроводам с вентилями 16 в 18, в коллекторы 9, откуда жидкость tIo каналам

11 и через отверстия 12 в осях 6 поступает в полости 5 валков 4.

15 го

Поступающая под давлением жидкость через форсунки 13 истекает из полости 5 валка 4 наружу интенсивной струей, создающей реактивную силу, действующую на форсунку 13 и валок 4 и направленную по продольной оси форсунки 13. Так как каждая форсунка 13 направлена по касательной к поверхности валка 4 в направлени и, противоположном направлению валка

4, то реактивная сила истекающей из форсунок 13 струи создает момент, направленный в сторону вращения валка 4. Так как валки 4 установлены на осях 6 с возможностью свободного вращения и все форсунки

13 расположены относительно осей вращения валков 4 равномерно, а давление и производительность истекающей из форсунок 13 жидкости для всех валков 4 равнозначны, то вращающий момент, действующий на каждый из валков 4, одинаковый. При необходимости изменения величины момента на определенных валках 4 регулируют подачу жидкости к этим валкам 4 посредством вентилей 16 и 17. В результате взаимодействия вращающегося валка 4 с пленкой 19 последняя перемещается через ванну 1, заполненную жидкостью, которая обрабатывает пленку в процессе ее перемещения. Натяжение пленки 19 при этом определяется величиной вращающегося момента валка 4. Жидкость из форсунок 13 истекает равномерно на протяжении всего времени обработки пленки. Момент, вращающий валок 4, и создаваемое им натяжение перемещаемой пленки 19 постоянны в течение всего периода обработки пленки 19. В случае усадки пленки 19 в процессе ее обработки валок 4 может, в зависимости от степени и скорости усадки пленки 19, замедлить, временно прекратить или даже изменить направление своего вращения. Но момент, действующий на валок 4, а следовательно, и натяжение пленки 19, взаимодействующей с этим валком 4, при этом не изменяются, что предотвращает черезмерное растяжение и обрыв пленки 19. Струи жидкости, истекая из форсунок 13, перемещаются в сторону отражательных гильз 14 и, взаимодействуя с ними, отклоняются внутрь ванны 1 в сторону пленки 19. В результате взаимодействия струи с жидкостью ванны 1 образуются вихри жидкости, интенсивно омывающие поверхность пленки.

1255453

Д 15

Составитель М. Фетисова

Редактор О. Юрковецкая Текред И. Верес Корректор Т. Колб

Заказ 4767/20 Тираж 640 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4!5

Филиал ППП «Патент», г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Устройство для жидкостной обработки полимерной пленки Устройство для жидкостной обработки полимерной пленки Устройство для жидкостной обработки полимерной пленки 

 

Похожие патенты:
Изобретение относится к технологии маркировки изделий или их части, выполненных из полимерного материала, с целью создания трехмерных или плоских подповерхностных меток, и может быть использовано для создания износостойкой маркировки

Изобретение относится к ускорительной технике и радиационной технологии, а более конкретно к технологическому оборудованию, предназначенному для радиационной модификации органических материалов, и может использоваться при создании технологических линий по производству радиационно модифицируемых полимерных пленок

Изобретение относится к радиационной технологии, а более конкретно к технологии радиационной модификации органических материалов, и может использоваться при создании технологических линий по производству радиационно модифицируемых полимерных пленок

Изобретение относится к химической технологии, преимущественно к технологии изготовления и обработки пластмасс и полимерных материалов, в частности к методам модификации механических свойств

Изобретение относится к химической технологии, преимущественно к технологии изготовления и обработки пластмасс и полимерных материалов, в частности к методам модификации механических свойств

Изобретение относится к области обработки пластических материалов, например, с помощью пучка облучения и более конкретно к аппарату и способу для скручивания пряди пластического материала для повышения равномерности дозы облучения, направленной на прядь

Изобретение относится к химической промышленности, в частности к устройствам и способам модификации поверхности резины, и может быть использовано в судостроении, машиностроении и других отраслях, где требуется предварительная обработка резины перед нанесением ее на изделия в качестве покрытий путем склеивания

Изобретение относится к органическому и неорганическому полимерному листовому материалу, в частности к пленке, тканому или нетканому волокну, способу улучшения характеристик поверхности такого материала, способу генерирования плазмы тлеющего разряда для модифицирования поверхностных свойств органических и неорганических полимерных материалов и к устройству для инициирования плазмы тлеющего разряда

Изобретение относится к технике для облучения материалов тяжелыми ионами и может быть использовано для облучения полимерных пленок на ускорителях тяжелых ионов
Наверх