Источник многозарядных ионов

 

Источник многозарядных ионов, содержащий диэлектрическую вакуумную камеру с системой подачи газа, установленную внутри высокочастотного резонатора с системой ВЧ-питания, узлы ввода мощности которого расположены радиально в одной плоскости с осью системы извлечения ионов, образованной высоковольтным электродом, расположенным по одну сторону от оси устройства и подключенным к системе питания, и извлекающими электродами, расположенными по отношению к высоковольтному электроду радиально по другую сторону от оси устройства, проходящей перпендикулярно указанной плоскости, а также магнитную систему, полюса которой расположены симметрично относительно данной плоскости, отличающийся тем, что, с целью увеличения интенсивности пучка многоразрядных ионов, повышения их средней зарядности и снижения энергопотребления, резонатор и вакуумная камера выполнены в виде эллипсоидов вращения вокруг оси устройства, полюсные наконечники выполнены с возможностью перемещения вдоль этой оси, система подачи газа снабжена T-образной кварцевой трубкой, конец которой параллелен оси устройства, а первый извлекающий электрод выполнен из магнитомягкого материала.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к ускорительной технике

Циклотрон // 1114317

Изобретение относится к лазерной технике

Изобретение относится к лазерам гамма-излучения и технике формирования мощных когерентных электронных пучков

Микротрон // 2157600
Изобретение относится к ускорительной технике и может быть использовано при создании сильноточных циклических СВЧ ускорителей электронов-микротронов

Изобретение относится к ускорительной технике, в частности к протонным синхротронам

Изобретение относится к ускорительной технике

Изобретение относится к ускорительной технике

Изобретение относится к ионным источникам для циклотронов (внутренним, закрытого типа) и может использоваться в циклотронной технике

Инфлектор // 2179379
Изобретение относится к инфлекторам для систем аксиальной инжекции для циклотронов, к классу инфлекторов, в которых осевая частица пучка движется по электрической эквипотенциальной поверхности, и может использоваться в циклотронной технике

Инфлектор // 2179379
Изобретение относится к инфлекторам для систем аксиальной инжекции для циклотронов, к классу инфлекторов, в которых осевая частица пучка движется по электрической эквипотенциальной поверхности, и может использоваться в циклотронной технике
Наверх