Способ фотографического нанесения структуры экрана электронно-лучевой трубки

 

Изобретение относится к изготовлению электронно-лучевых трубок (ЭЛТ). Способ предусматривает использование дискретно-элементного оптического фильтра и может быть применен при изготовлении многолучевых цветных кинескопов . Структура экрана может представлять собой светопоглощающую матрицу или люминофорные элементы смотрового экрана. Цель изобретения -,. сокращение времени экспонирования и упрощение способа за счет обеспечения возможности стационарного выполнения светоисггускающего фильтра коррекции интенсивности. Способ реализуется при помощи экспозиционной камеры . Камера содержит источник 1 света, проецирующий световой поток 2 в направлении светочувствительного слоя 3, нанесенного на внутреннюю поверхность лицевой панели 4 ЭЛТ. Световой поток проходит через светопропускающий фильтр 5 коррекции интенсивности, размещенный на прозрачной опоре 6 через корректирующл ю линзу 7, представляющую собой оптический рефрактор , и через фотографический щаблон 8 (апертурная маска, установленная на панели 4). Применение дискретноэлементного полутонового фильтра коррекции интенсивности сокращает время экспозиции, не оставляет следов растра на печатной структуре экрана даже при использовании в сочетании со стационарно малым источником света. 6 ил. о со Од со СП о 00 см

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

PECflYBIlHH ь}) 4 Н Ol J 9/227

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И OTHPblTHA Л

ВСЕ®ур -.

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ li 3-,13

БОБ.}П" > 11-...

Н ПАТЕНТV сокращение времени экспонирования и упрощение способа за счет обеспечеЮ г

/ — g

Ф (21) 3673654/24-21 (22) 12.12.83 (3!) 452797 (32) 23.12.87 (33) US (46) 23.04.88. Бюл. Р 15 (71) РКА Корпорейшн (US) (72) Джордж Милтон Эманн (US) (53) 621.385.832(088.8) (56) Патент США }} - 41324 70, кл. 354-1, опублик. 1979.

Патент США М 3982252, кл. 354-1, опублик. 1976. (54) СПОСОБ ФОТОГРАФИЧЕСКОГО HAHECF,—

НИЯ СТРУКТУРЫ ЭКРАНА ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВ0А ТРУБКИ (57) Изобретение относится к изготовлению электронно-лучевых трубок (ЭЛТ).

Способ предусматривает использование дискретно-элементного оптического фильтра и может быть применен при изготовлении многолучевых цветных кинескопов. Структура экрана может представлять собой светопоглощающую матрицу или люминофорные элементы смотрового экрана. Цель изобретения— ф

„.SU „„1391508 А ния возможности стационарного Выпол нения светоиспускающего фильтра коррекции интенсивности. Способ реализуется при помощи экспозиционной камеры, Камера содержит источник 1 света, проецирующий световой поток 2 в направлении светочувствительного слоя

3, нанесенного на внутреннюю поверхность лицевой панели 4 ЭЛТ. Световой поток проходит через светопропускающий фильтр 5 коррекции интенсивности, размещенный на прозрачной опоре 6, через корректирующую линзу 7, представляющую собой оптический рефрактор, и через фотографический шаблон

8 (апертурная маска, установленная на панели 4). Применение дискретноэлементного полутонового фильтра коррекции интенсивности сокращает время экспозиции, не оставляет следов растра на печатной структуре экрана даже при использовании в сочетании со стационарно малым источником с ета.

6 ил.

1391508

Изобретение относится к области изготовления электронно-лучевых трубок, а именно к способу фотографичес— кого нанесения структуры экрана электронно-лучевой трубки с использова5 нием дискретно-элементного оптического фильтра, и, н частности, может быть использовано при изготовлении

10 многолученых цветных кинескопов.

Структура экрана может представлять собой светопоглощающую матрицу или люминофорные элементы смотрового экрана.

Целью изобретения является умень- 15 шение времени экспонирования и упрощение способа за счет обеспечения возможности стационарного выполнения светопролускающего фильтра коррекции интенсивности. 20

На фиг. 1 схематично изображена экспозиционная камера, которая может использоваться при реализации способа, разрез; на фиг. 2 — горизонтальная проекция фрагмента нового полу- 25 тонового дискретно-элементного фильт— ра коррекции интенсивности при сравнительно большом шаге в направлениях осей х и у; на фиг. 3 — то же, при сраннительно малом шаге; на фиг. 4 — 30 горизонтальная проекция графика желаемого пронускания света для нового фильтра коррекции интенсинности; на фиг. 5 — горизонтальная проекция фрагмента светочувствительного слоя, используемого для изготовления негативного шаблона желаемого фильтра после контактного экспонирования от двух различных фотошаблонон; на фиг. 6 — горизонтальная проекция 40 фрагмента фильтра коррекции интенсивности, выполненного по фрагменту негативного шаблона, представленному на фиг. 5.

Реализовать способ можно при помо- 45 щи экспозиционной камеры (фиг. 1), содержащей источник 1 света, проекцирующий световой поток 2 в направлении снеточунстнительного слоя 3, нанесенного на внутреннюю поверхность лиценой панели 4 электронно-лучевой труб50 ки. Световой поток 2 проходит через снетопропускающий фильтр 5 коррекции интенсивности, размещенный на прозрачной стеклянной опоре 6, через

55 корректирующую линзу 7, представляющую оптический рефрактор, и через фотографический шаблон 8 (апертурная маска, установленная на панели 4).

На фиг. 2 представлен фрагмент дискретно-элементного фильтра 9 коррекции интенсивности, который можно использовать в предлагаемом способе.

Фильтр 9 содержит практически квадратные непрозрачные элементы 10 на прозрачном основании ll. Квадратные элементы 10 практически равномерно разнесены друг от друга вдоль гараллельных центровых линий 12 и 13, находящихся на расстоянии около 0,38 ии н направлениях х и у. Размер элементов 10 меняется примерно от 0,038 до 0,34 мм. На фиг. 2 шаг показан одинаковым в направлениях х и у, однако он может быть различным. При использовании фильтра 9 с дискретными элементами 10 минимальной ширины а (в направлении х) и длины Ь (в направлении у) около 0,038 мм локальная область обладает пропусканием примерно 99Х.

На фиг. 3 показан фрагмент еще одного дискретно-элементного фильтра

I4 коррекции интенсивности, который можно использовать в предлагаемом способе. Фильтр 14 содержит практически квадратные непрозрачные элементы 15 на прозрачном основании 16.

Элементы 15 размещаются на центровых линиях 17, смещенных друг от друга примерно на 0,13 мм, и на параллельных центровых линиях IB, разнесенных примерно на 0,13 мм. Размер элементов 15 меняется примерно от 0,038 до 0,10 мм. При использовании фильтра

14 с дискретными элементами 15 минимальной ширины а и длины Ь локальные области обладают пропусканием около

90Х. Благодаря этому фильтр 14 коррекции интенсивности можно применять при фотографическом экспонировании без движения относительно изготовляемой структуры экрана.

Этот момент важен при изготовлении точечных структур, например экранов с гексагональным набором люминофорных элементов. Однако время экспозиции здесь не укорачивается.

На фиг. 4 представлен график 19 желаемого светопропускания рабочего фильтра. Контурные линии 20 обозначают точки одинакового светопропускания в процентах. Изменение светопропускания является плавным и непрерывным. Профили пропускания вдоль разнесенных параллельных линий 21 с известным шагом в направлении х подаются

1391508 в оптическую гравировальную машину, в результате вырабатывается линейный растр. Это значит, что ширина каждой линии меняется н соответствии с желаемым пропусканием, причем наибольшее пропускание обеспечивается в самом узком участке линии. Профили пропускания вдоль параллельных разнесенных линий 22 с известным шагом в направлении у также подаются н оптическую гравировальную машину и вырабатывается второй линейный растр. Оптическая гравировальная машина экспонирует линия за линией светочувствительный слой, после чего слой проявляется для получения непрозрачных линий на прозрачной подложке. последовательно и затем светочувствительный слой проявляется. Согласно фиг. 5 экспонирование с шаблоном по линиям или полосам в направлении у обеспечивает экспозицию зон, заштри" хованных спрана сверху и слева внизу.

Экспонирование с шаблоном по линиям или полосам н направлении х обеспечивает экспозицию зон, заштрихованных сверху слева и справа внизу. В местах пересечения полос направлений х и у находятся первые квадраты 24, где экспонирование не происходит. Диагонально между первыми квадратами 24 находятся вторые квадраты 25, получающие двойную экспозицию. При проявлении первые квадраты 24 становятся прозрачными, а вся оставшаяся часть светочувствительного слоя — непрозрачной, и получается негатив шаблона фильтра. Затем путем фотографической контактной печати с негативного фильтр-шаблона 23 получают позитив шаблона фильтра 26, показанный на фиг. 6. Позитивный фильтр коррекции интенсивности содержит набор непрозрачнь1х разнесенных дискретных элементов 27, размещенных вдоль параллельных линий на прозрачном основании 28.

Размеры а и Ь непрозрачных дискретных элементов в направлениях х и у соответственно связаны выражением а= (1-Т) с/Ь, На фиг. 5 показан негативный фильтр-шаблон 23, из готовленный контактным экспонированием светочувствительного слоя через каждый из линейных шаблонов. Все это выполняется

55 где Т вЂ” пропускание в локальной области фильтра; с — шаг между рядами элементов в любом направлении.

При печати квадратных элементов а=Ь=с /1-Т.

При использовании дискретно-элементного полутонового фильтра коррекции интенсивности согласно предлагаемому способу достигается большее пропускание, что ведет к уменьшению нре" мени экспозиции. Благодаря этому можно сократить число экспозиционных камер на производстве. Наибольшее пропускание непрерывно-тоновых фильтров коррекции интенсивности равно примерно 707. Причиной конструктивного ограничения является плохое сцепление тонких пленок в зонах большого пропускания. У линейно-растровых полутоновых фильтров оптическое пропускание в локальных областях равно приблизительно (1-а/с), где а — ширина линии, а с — шаг. Макси— мальное пропускание Т в локальных областях линейно-растрового фильтра ограничивается наименьшей контролируемой шириной прочерчинаемой линии.

Обычно при а = 0,038 мм и шаге с = 0,38 мм для линейно-растрового полутонового фильтра наибольшее теоретическое пропускание равно 907.

Лля дискретно-элементного полутонового фильтра с использованием квадратных элементов оптическое пропускание в локальных областях определяется выражением (1-а /с ) . Для ука 2 2 занных значений а и .с максимальное теоретическое пропускание в локальных областях равно примерно 997.. Теоретическое максимальное пропускание вполне достижимо на практике.

Кроме того, преимущестном исполь" зования дискретно-элементного полутонового фильтра коррекции интенсивности является его применимость при печати точечных экранов. Применять для точечных экранов линейный растр линейно-растровых полутоновых фильтров нельзя, так как источник света в камере является небольшим прямоугольником, заметно проецирующим линейный растр фильтра на печатаемую структуру экрана. Дискретно-элементный полутоновый фильтр не оставляет следов растра на печатаемой структуре экрана даже при использовании в

1391508

10 сочетании со стационарно малым источником света.

Формула и э обретения

Способ фотографического нанесения структуры экрана электронно-лучевой трубки, включающий облучение фоточувствительного слоя светом через светопропускающий фильтр коррекции интенсивности, содержащий множество дискретных равноотстоящих непрозрачных элементов, размер которых выбран из условия создания заданных изменений световой интенсивности, и через фотошаблон, о т л н ч а ю шийся тем, что, с целью сокращения времени экспонирования и упрощения способа за счет обеспечения воэможности стационарно го выполнения светопропускаю)nего фильтра коррекции интенсивности, непрозрачные элементы расположены в узлах прямоугольной решетки с шагом от 0,13 до 0,38 мм, а нх минимальный размер составляет 0 038 мм.

39)508

19

27 27

zs г/

23

26

28

Фиг. 5

Составитель И. Григорьева

Редактор С. Пекарь Техред М.Дидье Корректор В. Бутяга

Заказ 1788/58 Тираж 746 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открьггий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, r. Ужгород, ул. Проектная, 4