Способ изготовления фотополимерных печатных форм

 

Изобретение относится к изготовлению фотополимерных печатных форм и позволяет повысить качество фотополимерных печатных форм путем снижения усадки печатающих элементов . Фотополимеризующуюся пластину помещают в вакуум-шкаф и производят вакуумирование в течение 30-600 с при температуре 20-100°С. При этом остаточное давление составляет 50- 300 гПа. 1 з.п. ф-лы, 1 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (5D 4 С 03 Е 7 00

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 4193245/28-12 (22) 10. 02. 87 (46) 23.08.88. Бюл. М 31 (71) Украинский научно-исследовательский институт полиграфической промьппленн о сти (72) М. К. Гладилович, О.А. Белицкий, В,A.Êóê, А,В.Вайнер, В.М.Ковалишин и Т.В.Емельянова, (53) 681. 617: 655.22 (088. 8) (56) Авторское, свидетельство СССР

У 1254416, кл. G 03 Р 7/00, 1984.

„„SU„„141864() И (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРНЫХ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ (57) Изобретение относится к. изготовлению фотополимерных печатных форм и позволяет повысить качество фотополимерных печатных форм путем снижения усадки печатающих элементов. Фотополимеризующуюся пластину помещают в вакуум-шкаф и производят вакуумиров ание в течение 30-600 с при температуре 20-1 00 С. При этом остаточное давление составляет 50300 гПа. 1 з.п. ф-лы, 1 табл.

1418640

Изобретение относится к способу изготовления фотополимерных печатных форм, которые применяются в полиграфической промышленности для по5 лучения печатной продукции.

Целью изобретения является повышение каче ства фотополимерных печатных (Iюрм путем снижения усадки печатающих элементов. 1Q

П р и и е р 1. Из фотополимеризующейся пластины Целлофот-Зн тип

Б, представляющей собой слой фотополимеризующейся композиции толщиной 0,7 мм на основе ацетофталата целлюлозы, закрепленный на металлической подложке толщиной 0,25 мм, вырезают образцы форматом 15 х 150 и 80 х 100 мм.

Образцы форматом 15 х 150 мм используют для определения индукционного периода фотополимеризующейся пластины. Индукционный период определяют следующим образом. Образец формата 15 х 150 мм расчерчива- 25 ют на 15 равных участков, помещают под люминесцентные лампы УФ-света

ЛУФ-80, размещенные на расстоянии

60 мм от поверхности образца. Между лампами и образцом помещают светофильтр — поляроидную пленку ТАЦ, отсека.пщую часть спектра с длиной волны ниже 380 нм. Поверхность образца, закрывают светонепроницаемым мате:риалом, оставляя открытым один учасэ5 ток. Включают облучение. Каждые 20 с передвигают светонепроницаемый мате риал. открывая очередной участок образца. После окончания облучения

I образец вымывают 0,37-ным водным раствором гидроокиси натрия, нагретым до 40 С. За индукционный период принимают время облучения последнего вымытого участка образца.

Образец фотополимеризующейся пластины форматом 80 х 100 мм помещают в вакуум-шкаф и производят вакуумирование в течение 300 с при остаточном давлении 300 гПа и температуре

20 С.

На отвакуумированный образец накладыв ают те ст-не гатив, содержащий шесть повторяющихся участков. Образец с негативом помещают под лампы

ЛУФ-80 и производят экспонирование в течение различного времени, визуально оценивают качество полученных по сле вымыв ания, npor ыв ки и сушки те сч-форм.

Для определения характеристик фото полимерных пе ч атных форм, го то в ят образцы с использованием тест-негатив а, соде ржаще ro миру разрешающей способно сти, отдельно стоящие точки диаметром 200 мкм, группы штрихов, имеющих пробелы шириной 250 мкм, и штрихи для определения удельного сопротивления печатающих элементов сдвигу.

Образец экспонируют в течение oIIтимального времени, вымывают в течение 10 мин, промывают и сушат в течение 72 ч.

Разрешающую способность определяют, рассматривая миру через лупу с увеличением х 10.

Углы у основания и вершины печатающих элементов измеряют при помощи тр ан спор тира н а профиле то чки диаметром 200 мкм, зарисованном с использованием часового проектора

ЧП-2, Усадку рассчитывают по результатам измерения микрометром толщины фотополимеризующегося слоя на пластине и высоты точки диаметром 200 мкм на полученной тест-форме.

Удельное сопротивление печатающих элементов сдвигу определяют на разрывной машине по известной методике.

Результаты испытаний приведены в таблице.

Параллельно проводят предварительную подготовку образца фотополимеризующейся пластины, которую дополнительно облучают через пленку ТЛЦ, отсекающую лучи с длиной волны ниже

380 нм, как при определении индукционного периода, в течение 120 с (время предварительного облучения должно быть меньше индукционного периода не менее, чем на 20 с), готовят тест-форму и испытывают.

Результаты испытаний приведены в таблице.

Готовят также тест-форму в соответствии с известным способом, пропуская образец фотополимеризующейся пластины через валки, зазор которых

35 MKM MeIIBIIIB обеспечивают фрикцию между валками, равную 1,1, скорость движения образца 0,5 м/мин, проводят предварительное облучение, изготовление тестформы и ее испытание, 1418640

Формула изобретения

1. Способ изготовления фотополимерных печатных форм, включающий предварительную обработку фотополимеризующейся пластины, экспонирование через неrатив, вымывание, проХарвчтернстнна Вютополтече рннв печатнмв фора

Угол у ос- повевая печатнвэнв элен ен топ, Угол у ве ранна печатаванв

Усаляа оечатнараэрепюаая cIIo" солноств, Вречя

IIIIIIIIэ лене а топ грал элнчен" то в, 20

1 300 600 300

140 16 10

t40 120 10 10

120

70

20

600 300

120

1,8

30 !50

2 300

80 60

16 10

IO IO

2,0

120

27

30 150

240 50

240 50

100

120

28

120

3 300

120 16 10

2,0

28

50

120 \00 10

2,2

120

22

Йэв естянл 300 35 1,! 0,5 120 100 10 10 5,0 \20 70 27 28

Составитель ЛеНосырева

Редактор С.Пекарь Техред Л.Олийнык Ко рре к то р А. Тя с ко

Заказ 4149/42

Тираж 442

Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, r, Ужгород, ул. Проектная, 4

Результаты испытаний приведены в таблице.

Пример ы 2, 3. Готовят тестформы, как описано в примере 1, при технологических режимах, приведенных в таблице. Тест-формы испыть7вают, как описано в примере 1.

Результаты испытаний приведены в таблице, мывку и сушку, о т л и ч а ю щ и йс я тем, что, с целью повышения качества печатных форм путем снижения

5 усадки печатающих элементов преду варительную обработку осуществляют путем вакуумирования фотополимеризующейся пластины в течение 30—

600 с при температуре 20-100 С, при

10 этом остаточное давление составляет

50-300 гПа.

2. Способ по п. 1, о тличаюшийся тем, что фотополимеризующиеся пластины облучают длиной волны, равной 380-700 нм, при этом облучение осуществляют до или после в акуумиров ания,

Способ изготовления фотополимерных печатных форм Способ изготовления фотополимерных печатных форм Способ изготовления фотополимерных печатных форм 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к полиграфии и позволяет улучшить качество печатной формы за счет снижения ее липкости для повышения оптической плотности изображения и снижения графических искажений

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении приборов на поверхностных акустических волнах

Изобретение относится к микроэлектронике и позволяет повысить качество восстановленных фотошаблонов, Облучсчют дефектное место фотошаблона сфокусированным лазерным излучением со стороны маскирующего слоя и со стороны основания а Осаждают продукт фоторазложения со стороны основания фотошаблона до уменьшения мощности лазерного излучения на 70- 85%, а со стороны маскирующего слоя - до получения оптически плотного слоя Показателем качества ремонта дефектов является интегральная оптическая плотность дефектного места после осаждения , определяемая фотометрированием

Изобретение относится к картографии и позволяет устранить искажения изображения на оригинале фототеневой отмывки рельефа

Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении шаблонов для полупроводниковы

Изобретение относится к полиграфии

Изобретение относится к фотографии, в частности к фотополимеризующейся кеомпозиции (ФПК) для изготовления защитного рельефа матрицы гальванопластического наращивания

Изобретение относится к измерительной технике и позволяет упростить технологию изготовления растров с произвольным шагом

Изобретение относится к полиграфической промьшшенности и позволяет улучшить эксплуатационные характеристики печатной формы путем увеличения силы сцепления при креплении ее на магнитной подставке

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Наверх