Способ создания f2-центров окраски в активной среде лазера
Способ создания F-2-центров окраски в активной среде лазера на основе LiF, включающий обучение -квантами в интервале доз 5105 - 106 Gy, отличающийся тем, что, с целью формирования осесимметричного профиля поглощения F-2-центров окраски в активной среде, перед облучением -квантами проводят облучение электронами в интервале доз 106 - 5106 Gy активной среды, вращающейся вокруг своей оси.
Похожие патенты:
Изобретение относится к области квантовой электроники, к способам приготовления лазерных сред на основе монокристаллов с центрами окраски
Изобретение относится к квантовой электронике
Лазерная активная среда // 1407368
Изобретение относится к квантовой электронике, к лазерным активным средам на основе монокристаллов с центрами окраски (ЦО)
Способ получения активной лазерной среды на основе монокристалла фторида лития с f2 центрами // 1393290
Изобретение относится к области квантовой электроники, к лазерам на центрах окраски в кристаллах
Лазерное вещество // 1366016
Изобретение относится к лазерной технике, лазерным веществам на основе оксида алюминия с примесью титана и может использоваться для изготовления активных элементов перестраиваемых лазеров с различными системами накачки
Способ изготовления лазерного элемента // 1331394
Изобретение относится к области квантовой электроники, а именно к способам изготовления оптических элементов, служащих для генерации и усиления перестраиваемого по частоте излучения, а также управления параметрами излучения лазеров
Изобретение относится к области квантовой электроники, к лазерам на центрах окраски
Лазер // 1316530
Изобретение относится к области квантовой электроники, а именно к конструкции активного лазера , и может быть использовано при создании твердотельных лазеров
Твердотельный лазер на красителе // 2105401
Изобретение относится к области квантовой электроники, а именно к конструкции активного элемента лазера, и может быть использовано при создании лазеров на красителях в твердой матрице
Лазерное вещество // 2106050
Изобретение относится к квантовой электронике, а именно к материалам для лазерной техники и предназначено для применения в твердотельных лазерах с длиной волны стимулированного излучения в интервале от 1,9 мкм до 2,0 мкм
Изобретение относится к области оптоэлектроники и интегральной оптики, в частности к способу получения направленного когерентного излучения света устройствами микронного размера
Изобретение относится к области лазерной техники и промышленно применимо в перестраиваемых лазерах для целей волоконно-оптической связи и спектроскопии
Устройство для ослабления оптического шума, возникающего из- за четырехволнового смещения // 2166839
Изобретение относится к оптической схеме для ослабления оптического шума
Изобретение относится к области лазерной техники и более конкретно - к лазерным медицинским инструментам для стоматологических, дерматологических, оторинологических применений, в том числе с использованием эндоскопов
Иттрий-алюминиевый сложный оксид в качестве кристаллической среды для лазерных кристаллов // 2181151
Изобретение относится к получению нового сложного оксида на основе иттрия и алюминия, являющегося перспективным материалом для оптоэлектроники
Изобретение относится к материалам для лазерной техники, а именно к монокристаллическим материалам, предназначенным для получения активных элементов твердотельных лазеров