Патент ссср 161606

 

Соез Советских, Социллистических

ГЕСПЛЛИК

ОПИСАНИЕ. ИЗОЫ ЕТЕНИЯ

Класс

48Ь, 14 сф

jj )1 ъ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

МПК

С 23с № 161606

Заявлено 28.11.1963 (¹ 822407(26-10) ГОСУДАРСТВЕННЫИ

КОМИТЕТ ПО ДЕЛАМ

ИЗОБРЕТЕНИИ И ОТКРЫТИЙ

СССР

УДК

Опубликовано 19.111.1964. Бюллетень № 7

Подписная гру1111а № 110

Заявитель

Научно-исследовательский институт электрографии

Государственного комитета по радиоэлектронике СССР

Автор изобретения

А. С. Таурайтис

ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ СЕЛЕНОВОГО

СЛОЯ НА НЕПОДВИ)КНЫЕ ЦИЛИНДРЬ!

Предмет изобретения

Известны вакуумные установки для нанесения селенового слоя на цилиндры.

B предлагаемой вакуумной установке для повышения производительности испарители имеют кольцеобразную форму и соединены с механизмом, перемещающим их вдоль оси цилиндров.

На чертеже представлена схема одной из вакуумных камер предлагаемой вакуумной установки.

Камера содержит полый цилиндр 1, закрытый двумя фланцами 2 и 8, которые через вакуумные уплотнения сжимают напыляемый цилиндр 4. Внутренняя полость цилиндра 4, на который необходимо нанести селеновый слой, заполнена жидкостью, циркулирующей через цилиндр и термостат для поддер>кания постоянной температуры цилиндра. Через вакуум-провод 6, являющийся общим для всей вакуумной установки, в пространстве между цил11ндрамп 1 ii 4 создастс11 вакуум.

Напыле:ше селенового слоя производят кольцеобразны;1 испарптслсм 6, имеющим возможность возвратно-поступательного движения вдоль оси цилиндра. Возвратно-поступательное движение испаритсля 6 может быть осуществлено, например, с помощью электромагнитного или другого привода.

Вакуумная установка для liaiieceiii;51 селенового слоя на неподвп>кные цилиндры, термостатируемые жидкостью, о т I и ч а ю щ а яс я тем, что, с целью повышения производительности, испарители 11меют кольцеобразную форму и соединены с механизмом, перемещающим их вдоль оси цилиндров.

М 161606

Составитель В. И. Сафонова

Редактор Н. С. Кутафина Тсхред А. А. Камышникова Корректор О. Б. Тюрина

Поди. к печ. 8/IV — 64 г. <1>ормат бум. 60Х90 /в Объем 0,23 нзд. л.

Заказ 717/15 Тираж 1025 Цена 5 кон

LlIlIIHHH Государственного комитета по делам изобретений и открытий СССР

Москва, Центр, пр. Серова, д. 4.

Типографии, пр. Сапунова, 2.

Патент ссср 161606 Патент ссср 161606 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии и оборудованию для получения эпитаксиальных структур кремния методом осаждения из газовой фазы

Изобретение относится к устройствам, предназначенным для получения газофазным методом высокодисперсных и ультрадисперсных порошков металлов и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме на металлические и неметаллические изделия, предназначенные для использования в микроэлектронике, химической технологии и других отраслях промышленности

Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом порошков металлов и сплавов, а также для нанесения покрытий

Изобретение относится к защитному элементу для защищенной от подделки бумаги, банкнот, удостоверений личности или иных аналогичных документов, к защищенной от подделки бумаге и ценному документу с таким защитным элементом, а также способу их изготовления

Изобретение относится к области металлургии, а именно к испарителям для металлов, и может быть использовано для изготовления металлических порошков и нанесения покрытий на различные поверхности

Изобретение относится к испарителю для металлов и сплавов и может найти применение в порошковой металлургии для получения высокодисперсных и ультрадисперсных металлов и сплавов

Изобретение относится к технике получения пленок в вакууме, в частности к устройству для вакуумного напыления пленок, и может быть использовано для эпитаксиального выращивания слоев при изготовлении полупроводниковых приборов, устройств интегральной оптики, при нанесении функциональных покрытий из металлов и кремния и т.п

Изобретение относится к устройству для вакуумного парового осаждения слоя на подложку путем облучения материала напыления

Изобретение относится к вакуумному нанесению слоев и может быть использовано для термического нанесения полимерных пленок из газовой фазы

Изобретение относится к технологии микроэлектроники, а именно к устройствам для нанесения покрытий в вакууме
Наверх