Устройство для пропитки материала

 

Изобретение относится к области производства строительных материалов и может быть использовано в технологических процессах пропитки пористых или волокнистых материалов. Целью изобретения является повышение качества пропитки, а также повышение экономичности и производительности установки. В радиационно-химическом аппарате (РХА), куда помещают пропитываемый материал, после включения в автоматический режим блока управления 18 через открывшийся клапан 14 создается вакуум, затем через открывшийся по команде клапан 22 РХА заполняется мономером из сборника 12. При достижении мономером верхнего уровня дополнительной емкости 15 блок 18 выдает команду на закрытие клапанов 14 и 22 и включение автоматического контроля за пропиткой. При снижении уровня мономера в дополнительной емкости до нижнего значения блок 18 выдает команду на открытие клапанов 14 и 22. При достижении мономером верхнего уровня дополнительной емкости блок 18 снова выдает команду на закрытие клапанов 14 и 22 и контроль пропитки будет продолжен. 1 з.п.ф-лы, 3 ил.

СОЮЗ. СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИН

„,,SU„„1611740 () В 27 К 3/02

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н А BTOPCHOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ

f10 ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР (21) 4460467/30-15 (22) 30.05.88 (46) 07.12,90, Бюл. ¹ 45 (71) Днепропетровский инженерно †строительный институт (72) Ю.С.Соболев, Ю.Н.Ревенко, Е.А.Самченко, И.В,Яковчук и И.М.Ереженов (53) 621.015 (088,8) (56) Борисов Е.А. и др. Технология радиационно-химического производ-ства бетонно-полимерных и древеснопластмассовых материалов. †. M.:

Энергоатомиздат, 1982 ° (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРОПИТКИ МАТЕ—

РИАЛА (57) Изобретение относится к производству строительных материалов и может быть использовано в технологических процессах пропитки пористых или волокнистых материалов. Целью изобретения является повышение качества пропитки, а также повьш)ение экономичности и производительности установки, В рациационно-химическом аппарате (РХА), куда помещают пропитываемый материал, после включения в автоматический режим блока управ— ления 18 через открывшийся клапан 14 создается вакуум, затем через открывшийся по команде клапан 22 PXA заполняется мономером из сборника 12, При достижении мономером верхнего уровня дополнительной емкости 15, блок 18 выдает команду на закрытие клапанов 14 и 22 и включение автоматического контроля за пропиткой.

При снижении уровня моно1ера в до— полнительной емкости до нижнего зна— чения блок 18 выдает команду на открытие клапанов 14 и 22, При достижении мономером верхнего уровня дополнительной емкости блок 18 снова вы.дает команду на закрытие клапанов 14 и

22 и контроль пропитки будет продолжен. 1 з,п. ф-лы, 3 ил.

1611740

Изобретение относится к производству строительных материалов и может быть использовано в технологических процессах пропитки пористых или во— локнистых материалов.

Целью изобретения является повышение качества пропитки, а также повышение экономичности и производи. тельности установки.

На фиг,1 представлена блок-схема устройства, на фиг.2 — схема блока управления, на фиг.3 — эпюры напряжений в отдельных точках схемы блока управления.

Устройство для пропитки материала,, включает баллон 1 азота, вакуум-насос 2, генератор 3 тактовых импульсов схему 4 совпадения, четырехканальный коммутатор 5, первый 6 и второй 7 кл|очи, первую 8 и вторую 9 ячейки памяти, третий 10 и четвертый 11 ключи, сборник 12 мономера, клапан 13 поцачи азота, клапан 14 подачи вакуума, дополнительную емкость 15, уровнемер 16, триггер 17, блок 18 управления, сигнальную лампочку 19

:,"Конец пропитки", компаратор 20, уст-

;ройство 21 задающее порог чувстви тельности, клапан 22 подачи мономера радиационно-химический аппарат (РХА) 23, Устройство работает следующим образом, Пропитываемый материал помещают в !

РХА и крышку его герметично закрыва ют. Верхний штуцер РХА подключают к

,цополнительной емкости 15, а нижний — к клапану 22. После этого блок 18 уп равления включают в автоматический режим. При этом открывается клапан

14 и в РХА создается вакуум, затем подается команда на открытие клапана

22 и РХА начинает заполняться моно.мером, Как только мономер достигнет верхнего уровня дополнительной емкости 15, уровнемер 16 выдает сигнал Н, который перебрасывает триггер 17 в

11 ft и ол ожени е 1, При этом . сигнал с пр ямо г о информационного выход а п о ст упае т в блок 1 8, отключает клапаны

1 4 и 2 2 и поступает на вход схемы 4 с о в пад е ни я, соединяет вых од г е н ер а .гора 3 тактовых импульсов с к омм ут а.— тором 5, Последний через оцина к о вые

П р омежут ки времени, з ада в а емые г ей ер ат о р ом 3, меняет свое состояние

На выходах . В первый такт высокий и о т е н ци ал на выходе первого канала

1 позволяет записать текущее значение уровня M в ячейку 8 памяти через ключ б. Второй такт создает высокий потенциал на выходе второго канала. При этом текущее значение уровня М посылается в ячейку 9 памяти через ключ 7. При третьем такте сигнал третьего канала разрешает выдачу информации из ячеек памяти через ключи 10 и 11 на выходы компаратора 20 для сравнения.

Если изменение уровня мономера за время одного. такта больше поро-. говой величины, установленной задатчиком 21, цикл измерения повторяется, Если уровень мономера в дополнительной емкости достигнет нижнего значения сигнал L перебросит триггер в положение 0", при этом генератор 3 будет отключен от коммутатора 5, а блок 18 выдаст команду на открытие клапанов 22 и 14 ° Как только мономер в дополнительной емкости достигнет верхнего уровня, триггер 17 снова будет переключен в положение "1" и контроль пропитки буцет продолжен. Если изменение уровня мономера в,цополнительной емкости за один такт будет меньше величины, установленной задатчиком 21, компаратор 20 выдает сигнал в блок 18 управления, который переведет систе— му в режим "Продувка". При этом открываются клапаны 13 и ?2, азот из баллона 1 вытесняет в РХА мономер и перегоняет его в сборник 12. После продувки вентили PXA закрывают, дополнительную емкость и клапан 22 отсоединяют, а РХА направляют в гамма-установку. Скорость пропитки пористых и волокнистых материалов в глубину меняется по экспоненциальному закону, по этому же закону меняется скорость понижения уровня в дополнительной емкости °

Формула изобретения

1. Устройство для пропитки материала, включающее радиационно-хими— ческий аппарат, вакуум-насос, сборник мономера, баллон с азотом и .клапаны подачи азота, вакуума и мономера, о т л и ч а ю щ ееся тем„. что, с целью повышения качества

IIpoIIHTKH> повышения экономичности и производительности установки, оно снабжено генератором тактовых импульсов, схемой совпадений, четырехканальным коммутатором, четырьмя ключами и двумя ячейками памяти, допоп— нительной емкостью, уровнемером с триггером, блоком управления с индикатором и компаратором с задатчи— ком, при этом радиационно-химичес кий аппарат посредством штуцера сообщен с расположенной над ним дополнительной емкостью, причем верхняя часть дополнительной емкости посредством двух клапанов сообщена с баллоном азота и с вакуум-насосом, при этом радиационно-химический аппарат через нижний штуцер соединен с клапаном подачи мономера, а управляющие входы трех клапанов связаны с тремя выходами блока управления, причем в нижней и верхней частях дополнительной емкости установлены датчики уровнемера, сигнальный выход верхнего уровня которого подключен на прямой вход триггера а сигнальный выход нижнего уровня — на инверсный выход текущего значения уровня и связан с входами первого и второго ключей, выходы которых соединены с входами первой и второй ячеек памяти, причем выходы последних через третий и четвертый ключи связаны со« - о

6 ответственно с первым и вторым входами компаратора, причем третий вход последнего соединен с выходом уст5 ройства, задающего порог чувствительности, а выход связан с первым входом блока управления, а второй и третий входы связаны соответственно с прямым и инверсным выходами триггера, йричем прямой выход последнего соединен с первым входом схемы совпадения, второй вход которой связан с выходом генератора тактовых импульсов, а выход соединен с входом четырехканального коммутатора, первый канал которого связан с разрешающим входом первого ключа, второй канал соединен с разрешающим входом второго ключа, третий канал связан

20 с разрешающими входами третьего и четвертого ключей, а четвертый канал соединен с шиной "Сброс" первой и второй ячеек памяти.

2, Устройство по п.1, о т л и

25 ч а ю щ е е с я тем, что площадь поперечного сечения рабочей части дополнительной емкости на порядок меньше площади рабочей части поперечного сечения радиационно-химического

Зо аппарата-, -E

" 7708

1б11740

Составитель В,Тыняный

Редактор А.Мотыль Техред Л.Серд цкова Корректор И. Эрдейи

Заказ 3803 Тираж 417 Подписное

ВБ1ЯПК Государственного комитета по изобретениям .и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно — издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул. Гагарина, 101 о