Устройство для лужения плоских поверхностей

 

Использование: пайка и лужение изделий в полупроводниковой, радиоэлектронной , приборостроительной отраслях; промышленности. Сущность изобретения: устройство содержит ванну для расплавленного припоя, выполненную в виде двух коаксиальных колец-с равнов ысокиМи стенками, установленных на. одной оси. Ванна размещена с возможностью вращения . Механизм для снятия окислов жестко закреплен на оси ванны. 2 ил. :

,„ЯЦ,„, 1815050 А1

СОЮЗ СОВЕТСКИХ социАлистических

РЕСПУБЛИК (51)з В 23 К 3/06

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

В ЕДОМ СТ80 СССР (ГоспАтент сссР) .

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

1. :::: .:.::.; . ...; 2 (21) 4847561/08: .. : ..: . (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛУЖЕНИЯ ПЛО(22) 09,04.90 -,::::: :,. :: СКИХ POBEPXHOCTEI (46) 15.05.93; Бюл. М 18 .: .:: -:,:-: (57) Использование: пайка и луЖениеь изде(71) Научно-исследовательский институт . лий в полупроводниковой, радиозлектронэлектронной техники,:;:: ". -:. ной, приборостроительной отраслях (72) Е.А;Савельев и М.ПгЩепин.. промйшленности. Сущность изобретения; (56} Авторское свидетельство. СССР устройство содержит ванну для расплавленt+ 941040, кл, В 23 К 3/00, 1982..:.;,: ного припоя, выполненную в виде двух коПатент США М 4332373, кл. 266/228,-: аксиальных колец.с равновчысокими

- стенками, установленных на одной оси.Ванна размещена с возможностью вращенйя. Механизм для снятия окислов жестко

1982ь закреплен на оси ванны. 2 ил т»

Изобретение относится к пайке и может " мотрен регулируемый зазор., величина котобыть использовано в полупроводниковой,;;. рого эависиготоптимальной величины дозы радиоэлектронной, приборостроительной и . припоя, наносимой паяльником 10 на обрадругих отраслях промышленности;: .: ::: батываемое иэделие 11 (например, выводЦелью изобретения является обеспече- : ную ргамку). ние точности и качества нанесения дозы ..: Б рабочей емкости 8 размещена гребенприпоя..:. Ка 12 для сбора окисной пленки припоя, QQ

На фиг. 1 схематично изображено уст - . Начружная стенка ванны 2 выполнена в виде ройство для локального луЖенйя плоских: храпового колеса 13, взаимодействующего у поверхностей в разрезе;.на фиг. 2.-то же, . ., :с собачкой 14, связанной с приводом 15. вид сверху(ультразвуковой паяльник Не rio-. .:.: Устройство работает следующим Обраказан)..:- -:. :.-..:, :- ::": ом. устройстео для лужения плоских Ппеер-:.,,:. : При погйохщи нагревателя 1 нагревают О хностей содержит: нагреватель 1, аанну2 со,. :" припой, находяЩийся е ванне 2. Включают ступицей 3, зафиксироеанную на Оси 4 c " привод 5 и сосенка л,езаимодейстеуя с храпомощью винта 5. 8 ванне х коаксиально: поемм колесом Э, аращает ванну 2 с рас-,а размещена перегородка 6 в виде кольца с " плавленным припоем. При этом гребенка отверстиями 7; выполненными по образую- 12, задерживает окисную пленку, образующей, разделяющая ванну 2 на рабочую 8 и щуюся на поверхности расплавленного при-, вспомогательную 9 емкости; Высота перего- . поя в. рабочей емкбстиу 8; родки равна высоте наружной стенхи ванны- " " Включают механизм (не показан) пере-, 2. Между верхними кромками перегОродки : "-: мещения ультразйуково:.о паяльника 10, 6 и ванны 2 и нижней торцевой поверхно - .. траектория движения которого показана на стью ультразвукового паяльника 10 предус- фиг. 1, Паяльник перемещается в горизон-1815050 тальной плоскости над ванной 2 и опускается в нижнее. положение, погружаясь в расплавленный припой в рабочей емкости 8 на заданную глубину, При подъеме паяльника 10 вверх и выходе из припоя, на его торцевой поверхности остается доза припоя, величина которой больше, чем требуется для локального точечного луженйя обрабатываемой поверхности изделий, например, выводной рамки 10 корпуса транзистора.

После подъема паяльник 10 с дозой припоя на рабочей поверхности осуществляет перемещение в горизонтальной плоскости над ванной 2 и кольцевой перегородкой 6 и опускается на рабочую позицию.

При этом величина дозы припоя, наносимого на обрабатываемую поверхность, регулируется величиной зазора между тор-. . цевайчастью паяльникаи верхней кромкой 20 перегородки 6.и наружной стенки ванны 2; позволякнцих снимать его излишки-с торце- . вой поверхности инструмента.

Применение устройства для локального лужения плоских поверхностей данной конструкции позволит: регулировать величину дозы припоя; повысить качество лужения за счет снятия с внешнего поверхностного слоя капли припоя вместе с излишками припоя пленки окисла и включений загрязнений; обеспечить зазор припоя из ванны со стабильной; определенной дозой.

Формула изобретения

Устройство для лужения плоских поверхностей, содержащее ванну для расплавленного припоя, нагреватель и механизм для снятия окислов, о тл и ч а ю ще еся тем, что, с целью обеспечения точности и качества нанесения дозы припоя, ванна выполнена в виде двух установленных на одной оси, поворотных коаксиальных колец с равновысокимй стенками; а механизм для снятия окислов жестко закреплен на оси ванны.

1815050

Составитель Л.Абросимовэ

Техред M.Ìîðãâíòàë . - Корректор T.Âàøêîâè÷ !

Редактор. Производственно-издательский комбинат "Патент.", r. Ужгород, ул.Гагарина, 101

Заказ 1607 Тираж -: Подписное

8НИИПИ Государственного комитета по иэобретеййям vi открытиям при ГКНТ СССР .

113035, Москва, Ж-35, Рауаская наб., 4/5