Фотополимеризующиеся композиции для получения рельефных изображений

 

246320

О П И С А Н И Е

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советскик

Социалистическик

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Кл. 57d, 2/01

Заявлено 15.1.1968 (№ 1211305 23-4) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 11Х1.1969. Бюллетень № 20

Дата опубликования описания 20.ХI.1969

МПК 6 03f

УДК 771.531.17(088.8) Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

Авторы изобретения

Н. П. Агранеико, П. М. Богатырев, В, А. Белова, Б. П. Казанцева, Б. Ф. Тюрин и Н. К. Фрунзе

Заявитель

ФОТОПОЛИМЕРИЗУ1ОЩИЕСЯ КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ

РЕЛЬЕФНЬ!Х ИЗОБРАЖЕНИЙ ацетобутират целлюлозы эпоксидная смола Э-44 алкидноэпоксидная смола

Э-ЗО диметакрилаттриэтиленгликоль бензантрон

1,4 — 1,7

0,5 в 1,0

0,5 — 1,0

0,8 — 1,2

0,005 — 0,03

1

Изобретение касается фотополимеризующихся композиций для получения, рельефных изображений, которые служат защитными и электроизоляцио н ными слоями.

Известны фотополимеризующиеся композиции .на основе пол имера — ацетобутирата целлюлозы или эпоксидной смолы, полимеризационноспособных олигомеров — олигоэфиракрилатов: диметакрилаттриэтиленгликоля ил и(и) диметакрилатдизтиленгликоль-3-фталата-2 и сенсибилизатора — бензантрона.

В состав композиции вводят краситель или пигмент.

К материалам на основе фотопол имеризующихся композ иций предъявляются следующие требования: высокая светочувствительность и большая разрешающая способ ность, хорошие физико-механические свойства, стойкость к воздействию высоких температур и перепаду температур, устойчивость к агрессивным средам.

Известные фотополимеризующиеся композ иции не устойчивы к воздейств ию высоких температур.

Цель изобретения — увеличение адгезии композиции:и стойкости к термоударам.

Эта цель достигается тем, что в состав фотополимер изующейся композиции предложено,вводить полимер — алкидноэпоксидную смолу, полимеризационноспособный олигомер — триметакрилаттриэтаноламин и сенсибилизатор, напр имер бензантрон.

В состав композиции для придания четкости рельефному изображению введен краси5 тель, например сафранин Т.

Предлагаемый способ позволяет получить рельефные изображения на металлических и .неметалличесиих основах .с комплексом свойств за счет использования полимернооли10 гомерной системы. В качестве полимеров могут быть использованы также ацетобутират целлюлозы, эпоксидные смолы с молекуляр,ным весом от 1000 до 2000.

Алкидноэпоксидная смола марки Э-30 пред15 ставляет продукт вза|имодействия эпоксидной смолы Э-40 (на основе эпихлоргидрина и дифенилпропана) и глифталевого модттфициро ванного полиэфира (на основе глицерина, фталевого ангидрида, льняного масла и тунгового

20 масла) .

П,р и м е р. Ниже, приведен состав композиции, вес. ч.:

246320

1 ° 10I быть и другим, 0,025

1,4 — 1,7

0,5 в 1,0

50. 0,5 в 1,0

0,35 — 0,45

0,25 — 0,35

0,5

0,005 — 0,03

0,005 — 0,03

0,002 — 0,005 выдерж ивает 5 до 250

15 до 2

Предмет изобретения

Составитель Э, Рамзова

Редактор Л, Г. Герасимова Техред А. А. Камышникова Корректор Г. С. Мухина

Заказ 2865/10 Тираж 480 . Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Центр, пр. Серова, д. 4.Типография, пр. Сапунова, 2

Состав композиции может .вес. ч.: ацепобупират целлюлозы эпоксидная смола Э-41 алкидноэпоксидная смола

Э-30 диметакрилаттриэтиленгл иколь диметакр илатдиэ пиленгликоль-3-фталат-2 тр иметакрилаттриэтанолам ин бе;нзантрон сафранин Т

Рельефное изображение получают следующим образом.

На металлическую или неметаллическую подложку на носят методом полива слой светочувствительной композиции по .одной,из приведенных рецептур и,высушивают,в термоста-. те при 80 С в течение 1 час. На,полученную пленку;накладывают стеклянный или пл еночный негатив, пригиимают,в вакуумной раме и облучают под ртутно-кварцевой лампой

ПРК-7 в течение 10 — 16 мин. Проявление рисунка производят .в смеси ц иклогексанон— хлороформ в соотнош ени и 2: 1. Затем пласпинку с получен ным изображением выдерживают при температуре 120 — 150 С !в течение

1 — 1,5 час.

Полученный таким образом фотослой толщиной в 40 — 50 мк обладает следующими свойствами.

Удельное объемное сопротивление, ом ° см

Тангенс угла диэлектрических потерь

Электрическая прочность кд/мм

Д иэлектр|ическая про ницаемость

Твердость по прибору М-3

Эластичность по шкале ШГ, мм

Стой кость .к термоудару при

60 — 80 С, циклов

Устойчивость:к кр атковременному,воздействию припоев, С

Стойкость к воздейспвию кис,лых сред с рН 2 .и щелочных сред с рН 11, час

1. Фотополимер|изующиеся композиции для .получен ия рельефных |изображений на основе

25 полимера — эпоксидной смолы, полимер изационноопособного олигомера и сенсибил изатора, отличающиеся тем, что, с целью повышения адгез и и композиций |и стойкости,их к термоударам, в качестве олигомера применении

ЗО триметакр илаттриэтаноламин.

2. Фотополимеризующиеся композициями по п. 1, отличающиеся тем, что, с целью придания четкости рельефному изображению, в ее состав введен 1краситель.