Способ модификации поверхностей пластин паяного пластинчатого теплообменника

Изобретение относится к способу модификации поверхностей пластин паяного пластинчатого теплообменника (ППТО). В вакуумной камере размещают пластины и углеродсодержащую мишень. Осуществляют откачку камеры до требуемого уровня вакуума 10-5-10-7 Торр и лазерную обработку мишени с последующей конденсацией на поверхность пластины модифицированного слоя, содержащего алмазные фазы. Нанесение модифицированного слоя осуществляют путем испарения углеросодержащей мишени импульсным лазерным излучением с длиной волны 190-310 нм, длительностью импульсов 1-100 нс с частотой повторения 10-100 Гц и плотностью энергии на поверхности мишени 1-10 Дж/см2. Содержание алмазных фаз в модифицированном слое составляет от 5 до 15%, а толщина модифицированного слоя составляет от 30 до 300 нм. Над обрабатываемой поверхностью располагают трафарет для защиты участков пластины от нанесения модицифированного слоя на участки, предназначенные для последующего образования спая пластин ППТО друг с другом. Технический результат состоит в увеличении срока службы, снижении нагрузки на гидравлическую систему и повышении эффективности теплообмена и достигается за счет упрочнения поверхности и снижения гидродинамических потерь при содержании алмазных фаз в модифицированном слое от 5 до 15%. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.

 

Область техники

Изобретение относится к нанотехнологии и наноструктурам, в частности, к способу получения модифицированного слоя, содержащего наноразмерные алмазные фазы и может быть использовано для машиностроения и энергетики.

Уровень техники

В целом ряде областей машиностроения и энергетики широко используются паяные пластинчатые теплообменники (ППТО). К ключевым особенностям ППТО относятся их мощность, массо-габаритные характеристики, долговечность и гидродинамическое сопротивление. Увеличение долговечности возможно с нанесением износостойких покрытий, а снижение гидродинамического сопротивления возможно с нанесением покрытий с малым коэффициентом смачивания на смачиваемые поверхности пластин ППТО. С этой целью перспективно использование алмазоподобных покрытий (соответствующий англоязычный термин: DiamondLikeCoating (DLC)).

Известен по патенту RU 2416673 (Опубликовано: 20.04.2011 Бюл. №11) ЛАЗЕРНО-ПЛАЗМЕННЫЙ СПОСОБ СИНТЕЗА ВЫСОКОТВЕРДЫХ МИКРО- И НАНОСТРУКТУРИРОВАННЫХ ПОКРЫТИЙ И УСТРОЙСТВО, который относится к технологиям получения высокотвердых защитных и функциональных покрытий и может быть использован для покрытия поверхностей деталей машин и механизмов. Устройство для реализации способа включает реакционную камеру со средством позиционирования обрабатываемого объекта и входами для потока газа и импульсно-периодического лазерного излучения, источник рабочего газа, средство формирования потока рабочего газа в реакционной камере, импульсно-периодический лазер, а также средство доставки лазерного излучения в реакционную камеру и фокусировки луча.

Недостатком является неприменимость метода для получения алмазоподобных покрытий с высоким содержанием наноразмерных алмазных фаз, необходимых не только для упрочнения поверхности, но и снижения гидродинамических потерь, что достигается только покрытиями, содержание алмазных фаз в которых от 5 до 15%.

Известны по патенту RU 2497978 (Опубликовано: 10.11.2013 Бюл. №31) СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ПОКРЫТИЯ И УСТАНОВКА ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ способ и установка для формирования покрытия на рабочей поверхности цилиндрического стального изделия, содержащая импульсно-периодический лазер, оптически связанный с фокусирующей системой, систему сканирования сфокусированного в пятно лазерного излучения с возможностью горизонтального перемещения по двум взаимно перпендикулярным направлениям с помощью элементов привода, связанных с блоком управления формированием покрытия, и технологическую платформу для размещения герметичной камеры спекания с крышкой и привода вращения изделия, выполненного с возможностью работы согласованно с системой сканирования.

Недостатком данного способа является применение порошковых материалов и создание покрытия на поверхности методом спекания, что не позволяет получать алмазоподобное покрытие, являющееся аллотропной модификацией углерода, получаемой в результате высокоэнергетического воздействия на пиролитический графит, а это приводит к невозможности соответствующего снижения гидродинамических потерь на рабочих поверхностях ППТО.

Известно по патенту RU 2732546 (Опубликовано: 21.09.2020 Бюл. №27), полученному заявителем на новое научно-техническое решение на предыдущем этапе того же проекта, что и данное заявляемое изобретение, УСТРОЙСТВО КОНТРОЛЯ И УПРАВЛЕНИЯ КОМПЛЕКСОМ ИМПУЛЬСНОГО ЛАЗЕРНОГО ОСАЖДЕНИЯ (ИЛО), которое вместе с комплексом ИЛО может быть применено для нанесения защитных алмазоподобных покрытий (DLC) на рабочие поверхности пластин паяных пластинчатых теплообменников (ППТО) путем распыления углеродной мишени в вакуумной камере импульсным лазером и последующим осаждением sp3 гибридизированных атомов углерода на рабочие поверхности пластин ППТО в виде структурированной нанокристализированной тонкой пленки. Подобные покрытия позволят повысить твердость, усталостную прочность, износо- и трещиностойкость, создать условия для ламинарного движения жидкости по покрытиям пластин ППТО, тем самым повысив эксплуатационные и технологические характеристики пластин ППТО работающих в экстремальных, в том числе арктических, условиях.

Однако, здесь запатентовано именно устройство контроля и управления комплексом импульсного лазерного осаждения, которое может применяться в способе модификации поверхностей пластин паяного пластинчатого теплообменника, но не сам способ.

Известен авторский способ получения алмазоподобных покрытий по патенту РФ RU 2516632 (Опубликовано: 20.05.2014 Бюл. №14), который позволяет получить покрытие с высоким содержанием алмазной фазы. Алмазоподобные покрытия получают в вакууме путем распыления материала мишени импульсным лазером. На материал мишени, выполненной из графита высокой степени чистоты (более 99.9%), воздействуют комбинированным лазерным излучением: сначала коротковолновым (менее 300 нм) импульсным излучением, в качестве источника которого используют KrF-лазер с длиной волны 248 нм и удельной энергией 5⋅107 Вт/см2, в результате чего осуществляется абляция и образуется газоплазменная фаза материала мишени. Последующее воздействие на газоплазменное облако во время разлета облака от мишени к подложке осуществляют длинноволновым (более 1 мкм) лазерным излучением. В качестве источника длинноволнового лазерного излучения используют газовый СО2-лазер или твердотельный волоконный лазерный излучатель. Технический результат изобретения заключается в увеличении алмазной фазы в получаемом покрытии.

Недостатком данного способа является неоднородность свойств покрытия по обрабатываемой поверхности и необходимость использования двух источников лазерного излучения.

Раскрытие изобретения

Задача изобретения: оптимизация параметров техпроцесса улучшенной модификации выборочных областей поверхностей пластин ППТО за счет применения трафаретов в вакуумной камере перед дальнейшим соединением пластин друг с другом пайкой или спеканием.

Технический результат достигается за счет упрочнения поверхности и снижения гидродинамических потерь при содержании алмазных фаз в модифицированном слое от 5 до 15%, что приводит к увеличению срока службы, снижению нагрузки на гидравлическую систему и повышению эффективности теплообмена ППТО. Совокупность физических особенностей взаимодействия лазерного излучения с графитом позволяет сформировать модифицированный слой, содержащий углеродные и алмазные фазы. Наличие алмазных фаз в составе модифицированного слоя обуславливает его высокую износостойкость и снижение гидродинамического сопротивления. Экспериментально установлено, что оптимальное сочетание повышения износостойкости и снижения гидродинамического сопротивления достигается при содержании алмазных фаз от 5 до 15%.

Способ модификации поверхностей пластин паяного пластинчатого теплообменника включает размещение в вакуумной камере пластины и углеродсодержащей мишени, откачку камеры до требуемого уровня вакуума, лазерную обработку мишени с последующей конденсацией на поверхность пластины модифицированного слоя, содержащего алмазные фазы. При этом нанесение модифицированного слоя на поверхность теплообменных пластин осуществляют путем испарения в вакууме 10-5..10-7 торр углеросодержащей мишени импульсным лазерным излучением, для обработки мишени используют лазерное излучение с длиной волны от 190 до 310 нм, длительностью импульсов от 1 до 100 нс с частотой повторения от 10 до 100 Гц и плотностью энергии на поверхности мишени от 1 до 10 Дж/см2. Содержание алмазных фаз в модифицированном слое составляет от 5 до 15%, а толщина модифицированного слоя составляет от 30 до 300 нм.

Над обрабатываемой поверхностью располагают трафарет для защиты участков пластины от нанесения модицифированного слоя на участки, предназначенные для последующего образования спая пластин ППТО друг с другом.

Осуществление изобретения

На рисунке 1 схемы нанесения модифицированного слоя обозначены позиции: 1 - вакуумная камера, 2 - пластина ППТО, 3 - модицифированный слой (МС), 4 - паяльная паста, 5 - трафарет, 6 - вакуумное окно, 7 - лазерное излучение, 8 - плазменное облако, 9 - мишень. В вакуумной камере 1 установлена пластина ППТО 2. Лазерный луч 7 попадает в камеру через вакуумное окно 6 и фокусируется на поверхности мишени 9. Материал мишени, испаренный в результате лазерного воздействия, переносится в виде расширяющегося плазменного облака 8 на поверхность пластины ППТО и конденсирует в виде модифицированного слоя 3. Участки, предназначенные для нанесения паяльной пасты 4, защищаются от нанесения модифицированного слоя с помощью трафарета 5. Над обрабатываемой поверхностью располагают трафарет, задачей которого служит защита участков пластины от нанесения МС на участки, предназначенные для последующего образования спая. Таким образом, нанесению МС будут подвергаться участки поверхности пластины ППТО, контактирующие в процессе эксплуатации с жидкостью.

В начале процесса получения эффективного модифицированного слоя (МС) в вакуумной камере располагаются пластина ППТО, трафарет и мишень. Мишень выполнена из пиролитического графита в виде цилиндра, расположенного вдоль пластины. Нанесение МС возможно как перед нанесением паяльной композиции, так и с уже нанесенной паяльной композицией перед процессом пайки.

Далее вакуумная камера откачивается до давления 10-5..10-7 торр. Вакуумная среда требуется для исключения образования водородных связей в алмазоподобном покрытии, которые сильно снижают его механические характеристики. При достижении требуемого давления следует этап простоя, занимающий от 10 до 30 минут. Данный этап необходим для дегазации поверхности, что значительно повышает адгезию наносимого МС.

Далее следует этап нанесения МС. Запускается процесс лазерной обработки мишени, которая обладает следующими особенностями:

- Обработка производится импульсами длительностью от 1 до 100 нс с частотой повторения от 10 до 100 Гц. При больших длительностях импульсов и частоте генерации происходит нежелательный перегрев мишени. Лазерное излучение длиной волны от 190 до 310 нм и плотностью энергии от 1 до 10 Дж/см2 позволяет добиться требуемого содержания алмазных фаз.

- Лазерное излучение перемещается по поверхности мишени с целью обеспечения однородности толщины и механических свойств МС

- Толщина МС составляет от 30 до 300 нм.

Процесс завершается при достижении требуемой толщины МС. Лазерная обработка прекращается, камера развакуумируется и детали извлекают.

Данное изобретение получено при выполнении проекта в рамках соглашения №075-02-2018-1933 (внутренний №05.574.21.0208) от 20.12.2018 г., заключенного между заявителем МГТУ им. Н.Э. Баумана и Минобрнауки России.

1. Способ модификации поверхности пластины паяного пластинчатого теплообменника (ППТО), включающий размещение в вакуумной камере пластины и углеродсодержащей мишени, откачку камеры до требуемого уровня вакуума, лазерную обработку мишени с последующей конденсацией на поверхность пластины модифицированного слоя, содержащего алмазные фазы, отличающийся тем, что нанесение модифицированного слоя на поверхность теплообменной пластины осуществляют путем испарения в вакууме 10-5-10-7 Торр углеросодержащей мишени импульсным лазерным излучением, при этом для обработки мишени используют лазерное излучение с длиной волны 190-310 нм, длительностью импульсов 1-100 нс с частотой повторения 10-100 Гц и плотностью энергии на поверхности мишени 1-10 Дж/см2, причем получают модифицированный слой толщиной 30-300нм и с содержанием в слое алмазных фаз 5-15%.

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что над обрабатываемой поверхностью располагают трафарет для защиты участков пластины от нанесения модицифированного слоя на участки, предназначенные для последующего образования спая пластин ППТО друг с другом.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области выращивания кристаллов и может быть использовано для получения слоев алмаза большой площади на подложках из монокристаллического кремния. Способ выращивания слоев алмаза, включающий нагрев в вакуумной среде в диапазоне температур от 910°С до 1150°С порошка алмазов в графитовой лодочке, над поверхностью которой размещена пластина монокристаллического кремния, причем лодочка с пластиной размещена в зазоре между двумя параллельными пластинами из углеродной фольги, прогреваемыми прямым пропусканием переменного электрического тока, а величина тока в верхней пластине меньше, чем в нижней.

Изобретение относится к технологии создания двумерных магнитных материалов для сверхкомпактных спинтронных устройств. Способ получения дисилицида гадолиния GdSi2 со структурой интеркалированных слоев силицена методом молекулярно-лучевой эпитаксии заключается в осаждении атомарного потока гадолиния с давлением PGd (от 0,1 до менее 1)⋅10-8 Торр или PGd (от более 1 до 10)⋅10-8 Торр на предварительно очищенную поверхность подложки Si(111), нагретую до Ts=350 ÷ менее 400°С или Ts=более 400 ÷ 450°С, до формирования пленки дисилицида гадолиния толщиной не более 7 нм.

Изобретение относится к технологии получения материалов нанометрового размера, состоящих из нанокристаллов силицида железа α-FeSi2 с контролируемо изменяемой преимущественной кристаллографической ориентацией, формой и габитусом, и может применяться для разработки новых функциональных элементов в спинтронике и нанотехнологии.

Изобретение относится к области физики низкоразмерных структур, а именно к формированию наноразмерной тонкопленочной структуры, и может быть использовано в различных высокотехнологичных областях промышленности и науки для создания новых материалов. Способ получения тонкой нанокристаллической интерметаллической пленки на стеклянной подложке включает конденсацию в вакууме металлических слоев и проведение синтеза интерметаллического соединения так, что слои меди и олова наносят на подогретую стеклянную подложку в последовательности Cu/Sn в интервале температур 50-400°С, а температуру подложки определяют из необходимого содержания интерметаллических фаз Cu6Sn5 и Сu3Sn в пленке.

Изобретение относится к области физики низкоразмерных структур, а именно к формированию наноразмерной тонкопленочной структуры, и может быть использовано в различных высокотехнологичных областях промышленности и науки для создания новых материалов. Способ получения тонкой нанокристаллической интерметаллической пленки на стеклянной подложке включает конденсацию в вакууме металлических слоев и проведение синтеза интерметаллического соединения так, что слои меди и олова наносят на подогретую стеклянную подложку в последовательности Cu/Sn в интервале температур 50-400°С, а температуру подложки определяют из необходимого содержания интерметаллических фаз Cu6Sn5 и Сu3Sn в пленке.

Изобретение относится к технологии производства тонких алмазных пленок и может быть использовано в различных областях промышленности и науки для получения тонкопленочных упрочняющих покрытий и активных слоев тонкопленочных наноструктур. Алмазоподобную пленку получают конденсацией углерода на стеклянную подложку из парогазовой фазы, полученной испарением мишени из высокочистого графита за счет воздействия в вакууме расфокусированным лазерным излучением с длиной волны 1064 нм, диаметром пятна 3 мм, интенсивностью энергии импульса 1,6⋅104 Вт/см2 и длительностью импульсов не менее 8 мс.

Изобретение относится к способам получения эпитаксиальных тонкопленочных материалов, а именно EuSi2 кристаллической модификации hP3 (пространственная группа N164, ) со структурой интеркалированных европием слоев силицена, которые могут быть использованы для проведения экспериментов по исследованию силиценовой решетки.

Изобретение предназначено для производства гетероэпитаксиальных структур для изготовления светодиодов, фотоприемников, полупроводниковых лазеров, транзисторов и диодов. В основе изобретения лежит метод низкотемпературной плазмоактивированной гетероэпитаксии.

Изобретение относится к технологиям получения износостойких, прочностных тонких алмазных пленок методом вакуумной лазерной абляции и может быть использовано в различных областях промышленности и науки для получения тонкопленочных упрочняющих покрытий и создания наноструктурных материалов. Тонкую наноалмазную пленку получают на стеклянной подложке путем распыления материала мишени импульсным лазером в вакууме, при этом в качестве мишени используют таблетки из детонационного наноалмаза, а в качестве источника импульсного лазерного излучения используют лазер с длиной волны 1064 нм серией от 13 до 20 импульсов, с энергией импульса от 3,8 до 5,8 Дж и длительностью от 1 до 1,5 мс.

Изобретение относится к нанесению покрытий путем проведения неравновесных процессов распыления в вакууме ионным пучком. Может использоваться для создания автоэмиссионных катодов, упрочнения рабочих кромок режущего инструмента, в частности хирургического, защиты от химически агрессивных сред и повышенных температур, требующих химической инертности и биосовместимости покрытий, высокой твердости и низкого трения, высокой теплопроводности покрытий.

Изобретение относится к способу получения стойкого композиционного покрытия на металлической поверхности и может быть использовано для восстановления и упрочнения деталей машин и инструмента. Способ включает внесение в зону лазерного воздействия порошковой композиции системы Fe-Ni-Cr-Si, легированной бором, ниобием и медью, дисперсностью 60-100 мкм и непрерывную наплавку в контролируемой газовой среде аргона с азотом при мощности лазера 1,8-2 кВт.
Наверх