Способ синтеза покрытий из диоксида кремния для коллоидных наночастиц золота различной геометрии

Изобретение относится к методикам получения покрытий из диоксида кремния на поверхности коллоидных наночастиц золота различной геометрии и может быть использовано для создания пассивных систем управления параметрами лазерного излучения, гибридных структур вида «полупроводниковые коллоидные квантовые точки - металлические наночастицы». Предложен способ синтеза покрытий, при котором формирование оболочки диоксида кремния осуществляется в два этапа: сперва в раствор коллоидных наночастиц золота вносится предварительно гидролизованный водный раствор кремнийсодержащего прекурсора 3-меркаптопропилтриметоксисилана (MPTMS), затем для увеличения толщины оболочки вводится раствор Na2SiO3 с последующей выдержкой на водяной бане при температуре 55-70°С и постоянном перемешивании. Технический результат - расширение номенклатуры методик водного синтеза однородного покрытия толщиной 3-30 нм из диоксида кремния для коллоидных наночастиц золота различной геометрии с контролируемым изменением толщины покрытия за счет вариации концентрации раствора Na2SiO3, времени термообработки коллоидного раствора, а также температуры синтеза. 3 ил., 2 пр.

 

Изобретение относится к коллоидной химии, а именно к методикам получения покрытий из диоксида кремния на поверхности коллоидных наночастиц золота различной геометрии.

В настоящее время, в связи с развитием приложений нанофотоники, в научной литературе уделяется внимание разработке методик синтеза плазмонных металлических наночастиц (НЧ) в различном окружении [Shah K.W., Sreethawong Т., Liu S.H., Zhang S.Y., Li S.T., Han M.Y. // Nanoscale, 2014, vol. 6, p.11273. DOI: 10.1039/c4nr03306j; Nallathamby P.D., Hopf J., Irimata L. E., McGinnity T. L., Roeder R. K. // Journal of Materials Chemistry B, 2016, vol. 4, p. 5418. DOI: 10.1039/C6TB01659F; Amendola V., Pilot R., Frasconi M., О.M., M.A. // J. Phys.: Condens. Matter., 2017, vol. 29, p.1. DOI: 10.1088/1361-648Х/аа6013]. Интерес к подобным структурам обусловлен широким кругом их потенциальных применений, начиная от создания наноантенн, гибридных систем для управления квантовым выходом и временем жизни люминесценции квантовых точек (КТ) или молекул красителей, и заканчивая биомедицинскими приложениями. Приемы управления квантовым выходом излучателей основываются на эффектах Парселла и Фано, важную роль при этом играет подбор спектральных параметров плазмонных наночастиц к параметрам излучателей и управление расстоянием между компонентами системы. Настройка положения, формы и количества полос плазмонного резонанса возможна за счет изменения геометрии металлических наночастиц. При этом в ряде источников отмечалась фотонестабильность металлических наночастиц несферической геометрии под действием интенсивного лазерного излучения [Y.A. Attia, М.Т. Flores-Arias, D. Nieto, С. , G.F. De La Fuente, M.A.// J. Phys. Chem. С 2015, 119, 13343-13349 DOI: 10.1021/acs.jpcc.5b03046; S. Link, Z.L. Wang, M.A. El-Sayed// J. Phys. Chem. В Vol.104, No. 33, 2000; Y. Akiyama, T. Mori, Y. Katayama, T. Niidome // Nanoscale Research Letters 2012, 7:565; G. Opletal, G. Grochola, Yu Hang Chui, I. K. Snook, S.P. Russo II J. Phys. Chem. С 2011,115,4375-4380 dx.doi.org/10.1021/jp1074913]. Стабилизацию наночастиц и их формы, изменение расстояния между компонентами гибридных систем можно обеспечить путем формирования диэлектрических оболочек диоксида кремния (SiO2) на поверхности плазмонных наночастиц. Сказанное свидетельствует об актуальности разработки приемов синтеза покрытий из диоксида кремния на поверхности коллоидных наночастиц металлов различной геометрии.

Согласно анализу данных научной и патентной литературы [Shah K.W. // Novel Nanomaterials - Synthesis and Applications, 2018, p.109. DOI: 10.5772/intechopen.74097, T.J. Wax et al. // ACS Omega 2018, 3, 14151-14156. DOI: 10.1021/acsomega.8b01959; Lee JY, ParkW, Yib DK. Toxicology Letters. 2012;209:51-57 DOI:10.1016/j.toxlet.2011.11.024; Shah KW, Sreethawong T, Liu S-H, Zhang S-Y, Li ST, Han M-Y. Nanoscale. 2014;6:11273-11281. DOI: 10.1039/c4nr03306j; RU 2583022 от 14.08.2014; RU 2715531 от 28.02.2020], для формирования структур типа металлическое ядро - диэлектрическая оболочка используются методики коллоидного синтеза в случае которых коллоидные металлические наночастицы покрываются диэлектрическим слоем с помощью введения в коллоидный раствор кремний-содержащих реагентов (аминопропилтриэтоксисилан (APTES), аминопропилтриметоксисилан (APTMS), (3-меркаптопропил)триметоксисилан (MPTMS), метасиликат натрия (Na2SiO3) и др.), обеспечивающих адгезию SiO2 на поверхности золотых НЧ и дальнейшее наращивание диэлектрической оболочки.

Из анализа патентной литературы известен также способ синтеза нанокомпозитов на основе НЧ золота, покрытых оболочкой из оксида кремния и полупроводниковых КТ [RU 2583022 от 14.08.2014]. Приготовление наночастиц золота осуществляется с помощью цитратного метода. Формирование оболочки диоксида кремния происходит в результате введения (3-аминопропил)триметоксисилана (APS) в качестве силанового связующего. Увеличение толщины оболочки достигается за счет добавления водного раствора силиката натрия либо этанольного раствора TEOS и аммония в водный раствор наночастиц золота, покрытых APS. Формирование слоя КТ на поверхности золотых наночастиц достигается в результате осаждения КТ CdSxSe1-x/ZnS, покрытых функциональными лигандами, содержащими NH2 группу при соотношениях наночастиц золота к КТ от 1:400 до 1:700. Толщина оболочки диоксида кремния, получаемая при использовании данного подхода, варьировалась от 25 до 35 нм. Однако спектральных доказательств формирования нанокомпозитов в данном патенте не приводится, при этом данные просвечивающей электронной микроскопии, приведенные в патенте, демонстрируют формирование крупных агломератов НЧ золота в оболочке SiO2, размер которых идентифицировать не представляется возможным ввиду низкого качества приведенного изображения.

Известен способ синтеза покрытий из диоксида кремния на поверхности неорганических наночастиц [RU 2715531 от 28.02.2020], включающий химическое осаждение диоксида кремния из раствора метасиликата натрия с концентрацией 0.001-0.1 моль/литр на неорганические наночастицы, диспергированные в воде при массовом соотношении 1:(500-1000) под воздействием ультразвука, при перемешивании с добавлением водного раствора соляной кислоты при концентрации и объеме соляной кислоты, эквивалентных концентрации и объему метасиликата натрия с последующей выдержкой в течение 8 часов, а также центрифугированием, промывкой и сушкой в течение 12 часов при 120°. Указанный способ, согласно заверениям авторов, позволяет получать оболочки диоксида кремния на поверхности наночастиц оксида железа, оксида цинка, гидроксида магния, бората цинка толщиной от 2 до 99 нм. В итоге формируются порошковые нанокомпозиты. Недостатками описанного подхода являются отсутствие лиганда, обеспечивающего равномерную адгезию слою SiO2 на поверхности наночастиц. Кроме того, в патенте отсутствуют данные о пригодности данного метода для синтеза коллоидных нанокомпозитов и стабильности коллоидного раствора после наращивания слоя диоксида кремния по данной методике.

В научной литературе, в частности в работе [T.J. Wax et al. // ACS Omega 2018, 3, 14151-14156. DOI: 10.1021/acsomega.8b01959] описан подход к формированию сферических НЧ золота средним размером 120 нм, покрытых оболочкой диоксида кремния толщиной 5-20 нм. Синтез оболочки диоксида кремния при этом осуществляется в два этапа. На первом этапе формируется переходный слой путем добавления раствора APTES последующим добавлением раствора силиката натрия, в результате чего на поверхности золотых наночастиц формируется слой диоксида кремния толщиной 5 нм. Далее производилась отмывка от продуктов реакции с последующим растворением в деионизованной воде. На втором этапе к полученному раствору добавляли смесь 1-бутанола, деионизованной воды и гидроксида аммония при постоянном перемешивании, после чего вносили раствор тетраэтоксисилана (TEOS). Данная процедура обеспечивала увеличение толщины оболочки до 20 нм. После чего раствор очищали от продуктов реакции центрифугированием в 2-пропаноле с последующим растворением в этаноле. К недостаткам данного подхода можно отнести использование TEOS в водосодержащих растворах, ввиду его склонности к образованию микрочастиц диоксида кремния и их последующей коагуляции, что в конечном итоге приводит к нестабильности коллоидного раствора и выпадению мутного осадка.

Наиболее близким подходом к синтезу оболочек диоксида кремния на поверхности наночастиц металлов, является подход, описанный в работах [Lee JY, ParkW, Yib DK. Toxicology Letters. 2012;209:51-57 DOI:10.1016/j.toxlet.2011.11.024; Shah KW, Sreethawong T, Liu S-H, Zhang S-Y, Li ST, Han M-Y. Nanoscale. 2014;6:11273-11281. DOI: 10.1039/c4nr03306j], который заключается в формировании оболочки SiO2 на поверхности наночастиц металлов путем введения в коллоидный раствор наночастиц гидролизованного раствора 3-меркаптопропилтриметоксисилана (MPTMS) либо в сразу, либо после предварительного введения 3-аминопропилдиметил-этоксисилана (APDES), выступающего в роли линковщика. Данный подход является довольно технологичным (общее время синтеза ~3 часов), требует меньшее количество технологических и подготовительных процедур и обеспечивает формирование оболочки SiO2 толщиной 1-50 нм. К числу недостатков использования MPTMS для формирования толстых оболочек SiO2 относится склонность молекул MPTMS к агрегации с формированием длинноцепочечных полимеров при его высокой концентрации в растворе, рассмотренная в работе [Shah KW, Sreethawong T, Liu S-H, Zhang S-Y, Li ST, Han M-Y. Nanoscale. 2014;6:11273-11281. DOI: 10.1039/c4nr03306j], приводящая к формированию неоднородной серо-содержащей оболочки. Наличие серы в оболочке может иметь негативное значение в случае использования подобного рода структур для создания люминесцирующих нанокомпозитов с коллоидными квантовыми точками сульфидов металлов (Ag2S, CdS и др.), что приведет изменению размера квантовых точек или изменению состояния их поверхности, и как следствие к изменению люминесцентных свойств квантовых точек и снижению квантового выхода люминесценции.

Задачей данного изобретения является разработка способа синтеза покрытий из диоксида кремния для коллоидных наночастиц золота различной геометрии.

Технический результат настоящего изобретения заключается в расширении номенклатуры методик водного синтеза однородного покрытия толщиной 3-30 нм из диоксида кремния для коллоидных наночастиц золота различной геометрии с контролируемым изменением толщины покрытия за счет вариации концентрации раствора Na2SiO3, температуры синтеза и времени термообработки коллоидного раствора.

Технический результат достигается тем, что в способе синтеза покрытий из диоксида кремния на поверхности коллоидных наночастиц золота различной геометрии, включающем покрытие диэлектрическим слоем SiO2 наночастиц золота с помощью введения в коллоидный раствор кремний-содержащего лиганда 3-меркаптопропилтриметоксисилана и последующего добавления раствора Na2SiO3 при контроле рН=10 на каждом этапе синтеза, а также очистку раствора от продуктов реакции по завершении синтеза посредством нескольких циклов центрифугирования-диспергирования в дистиллированной воде до достижения бесцветности промывочного раствора, согласно изобретению, на первом этапе в 0.01-0.05% раствор коллоидных НЧ Au, вводят предварительно гидролизованный 0.035% водный раствор 3-меркаптопропилтриметоксисилана (MPTMS) порционно в объеме не более 0.05 мл с интервалом в 5 минут при этом общий объем вводимого раствора MPTMS берут из расчета на покрытие поверхности наночастиц монослоем молекул MPTMS, с последующим перемешиванием в течение 15 мин; на втором этапе в реакционную смесь порционно в количестве не более 0.5 мл с интервалом 5 минут добавляют 1.0-1.1% раствора Na2SiO3, при объемном соотношении раствора наночастиц и раствора Na2SiO3, равном 30: (1 - 6), синтез ведут при нагревании колбы с коллоидным раствором на водяной бане с температурой 55-70°С при постоянном перемешивании, время термообработки должно составлять от 2 до 48 часов.

На первом этапе в 0.01-0.05% раствор коллоидных НЧ Au, взятый в объеме 30 мл, порционно вводят по 0.05 мл с интервалом в 5 минут предварительно гидролизованный 0.035% водный раствор 3-меркаптопропилтриметоксисилана (MPTMS) в объеме 0.3-0.4 мл. Объем вводимого раствора MPTMS берется из расчета на покрытие поверхности наночастиц монослоем молекул MPTMS, при контроле уровня рН=10, с последующим перемешиванием в течение 15 мин; на втором этапе в реакционную смесь порционно по 0.5 мл с интервалом 5 минуту добавляют 1.0-5.0 мл 1.0-1.1% раствора Na2SiO3 для увеличения толщины оболочки, синтез ведут при нагревании колбы с коллоидным раствором на водяной бане с температурой 55-70°С при постоянном перемешивании. Время термообработки должно составлять от 2 до 48 часов, по завершении синтеза раствор подвергаются очистке от продуктов реакции посредством нескольких циклов центрифугирования-диспергирования в дистиллированной воде, в процессе которого происходит осаждение НЧ Au в оболочке SiO2, а оставшиеся водорастворимые продукты реакции удаляются вместе с промывочным раствором, критерием окончания центрифугирования является достижение бесцветности промывочного раствора, цвет которого полностью определяется наличием НЧ Au/SiO2, очищенные таким образом НЧ Au/SiO2 растворяются затем в дистиллированной воде.

В результате получают покрытие из диоксида кремния для коллоидных наночастиц золота различной геометрии. Использованный подход обеспечивает получение однородных оболочек диоксида кремния, изменение толщины которых обеспечивается вариацией концентрации раствора Na2SiO3 временем термообработки коллоидного раствора, а также температурой синтеза. Однородность оболочек контролируется с помощью просвечивающей электронной микроскопии. Указанный способ синтеза обеспечивает сохранение устойчивости коллоидного раствора после наращивания покрытия из диоксида кремния.

На фиг. 1 представлена таблица с данными о толщине оболочки и условиях наращивания.

Фиг. 2 ПЭМ-изображения наночастиц золота сферической и цилиндрической геометрии (а и в) и наночастиц золота, покрытых оболочкой SiO2 (б и г).

На фиг. 3 представлены спектры экстинкции коллоидных растворов наночастиц золота сферической геометрии (а) и наночастиц золота цилиндрической геометрии (б), чистых и покрытых оболочкой SiO2.

Пример 1.

Для формирования оболочки SiO2 на поверхности сферических НЧ Au средним диаметром 5-30 нм, пассивированных цитратом натрия, осуществляли следующую последовательность действий: на первом этапе порционно вводили по 0.05 мл с интервалом в 5 минут MPTMS в качестве связующего агента 0.4 мл предварительно гидролизованного 0.035% водного раствора MPTMS, при этом объем вводимого раствора MPTMS берется из расчета на покрытие поверхности наночастиц монослоем молекул MPTMS согласно формуле V(MPTMS)=4π(RНЧ+d)2 d Nнч, где RНЧ - радиус наночастицы, d - толщина монослоя MPTMS=0.7 нм, NНЧ - количество наночастиц в растворе; добавляли к 30 мл 0.05% раствора коллоидных НЧ Au при контролируемом уровне рН=10, с последующим перемешиванием в течение 15 мин, после чего в реакционную смесь добавляли порционно по 0.5 мл с интервалом 5 минут 1.0-5.0 мл 1.1% раствора Na2SiO3 при постоянном контроле рН=10, коррекцию рН осуществляли с помощью покапельного введения 6% раствора NaOH, ускорения формирования плотных слоев SiO2 на поверхности НЧ Au достигали за счет нагрева колбы с коллоидным раствором на водяной бане с температурой 55-70°С при постоянном перемешивании, толщина оболочки SiO2 при данном подходе определяется объемом вводимого раствора Na2SiO3 временем термообработки, температурой синтеза. Данные о толщине оболочки и условиях наращивания приведены в таблице 1 (фиг. 1).

По завершении синтеза коллоидный раствор подвергали отмывке от продуктов реакции посредством нескольких циклов центрифугирования-диспергирования в дистиллированной воде. Для этого раствор смешивают в объемном соотношении 1:1 с этанолом (96%), заливают в пробирки объемом 10 мл и подвергают центрифугированию со скоростью 5000 об/мин в течение 30 минут до полного осаждения НЧ, которое контролируется по цвету промывочного раствора - до достижения бесцветности промывочного раствора, и последующего отделения их от водорастворимых продуктов реакции путем слива промывного раствора с дальнейшим растворением осадка в дистиллированной воде в объеме, равном объему исходного раствора.

Пример 2.

Получение оболочек SiO2 на поверхности цилиндрических НЧ Au средней длиной 35 нм, пассивированных ЦТАБ, осуществляли следующую последовательность действий: на первом этапе порционно вводили по 0.05 мл с интервалом в 5 минут MPTMS в качестве связующего агента 0.3 мл предварительно гидролизованного 0.035% водного раствора MPTMS, при этом объем вводимого раствора MPTMS берется из расчета на покрытие поверхности наночастиц монослоем молекул MPTMS согласно формуле V(MPTMS)=2π(RНЧ+d)(RНЧ+3d) d Nнч, где RНЧ - радиус наночастицы, ННЧ - длина наночастицы, d - толщина монослоя MPTMS=0.7 нм, NНЧ - количество наночастиц в растворе, в 30 мл 0.01% раствора коллоидных НЧ Au при контролируемом уровне рН=10, коррекцию рН осуществляли с помощью 6% раствора NaOH, с последующим перемешиванием в течение 15 мин, после чего в реакционную смесь добавляли 1.0-5.0 мл 1.0% раствора Na2SiO3 при постоянном контроле рН=10, ускорение формирования плотных слоев SiO2 на поверхности НЧ Au достигали за счет нагрева колбы с коллоидным раствором НЧ на водяной бане с температурой 55-70°С при постоянном перемешивании, толщина оболочки SiO2 при данном подходе определяется объемом вводимого раствора Na2SiO3 временем термообработки, температурой синтеза. Данные о толщине оболочки и условиях наращивания приведены в таблице 1 (фиг. 1).

По завершении синтеза коллоидный раствор подвергали отмывке от продуктов реакции посредством нескольких циклов центрифугирования-диспергирования в дистиллированной воде. Для этого раствор смешивают в объемном соотношении 1:1 с этанолом (96%), заливают в пробирки объемом 10 мл и подвергают центрифугированию со скоростью 5000 об/мин в течение 30 минут до полного осаждения НЧ, которое контролируется по цвету промывочного раствора - до достижения бесцветности промывочного раствора, и последующего отделения их от водорастворимых продуктов реакции путем слива промывного раствора с дальнейшим растворением осадка в дистиллированной воде в объеме, равном объему исходного раствора.

Формирование покрытий диоксида кремния на поверхности коллоидных НЧ золота сферической и цилиндрической геометрии подтверждается данными просвечивающей электронной микроскопии, исходные изображения которых приведены на Фиг. 2, а и б. При наращивании оболочки диоксида кремния наблюдается формирование контрастной фазы на поверхности НЧ толщиной 3-30 нм, наличие которой ассоциировано с формированием слоя SiO2 (Фиг. 2, в и г).

Спектры экстинкции коллоидных растворов НЧ золота различной геометрии, а также НЧ золота, покрытых слоем SiO2 представлены на Фиг. 3. В результате наращивания слоя SiO2 наблюдается смещение максимума плазмонного резонанса в коротковолновую область на 2-7 нм в случае сферических НЧ Au и на 2-10 нм в случае цилиндрических НЧ Au. Наличие данного смещения свидетельствует о формировании слоя диоксида кремния на поверхности наночастиц.

Способ синтеза покрытий из диоксида кремния на поверхности коллоидных наночастиц золота различной геометрии, включающий покрытие диэлектрическим слоем SiO2 наночастиц золота с помощью введения в коллоидный раствор кремнийсодержащего лиганда 3-меркаптопропилтриметоксисилана и последующего добавления раствора Na2SiO3 при контроле рН=10 на каждом этапе синтеза, а также очистку раствора от продуктов реакции по завершении синтеза посредством нескольких циклов центрифугирования-диспергирования в дистиллированной воде до достижения бесцветности промывочного раствора, отличающийся тем, что на первом этапе в 0,01-0,05% раствор коллоидных НЧ Au вводят предварительно гидролизованный 0,035% водный раствор 3-меркаптопропилтриметоксисилана (MPTMS) порционно в объеме не более 0.05 мл с интервалом в 5 минут, при этом общий объем вводимого раствора MPTMS берут из расчета на покрытие поверхности наночастиц монослоем молекул MPTMS, с последующим перемешиванием в течение 15 мин; на втором этапе в реакционную смесь порционно в количестве не более 0,5 мл с интервалом 5 минут добавляют 1,0-1,1% раствор Na2SiO3 при объемном соотношении раствора наночастиц и раствора Na2SiO3, равном 30:(1-6), синтез ведут при нагревании колбы с коллоидным раствором на водяной бане с температурой 55-70°С при постоянном перемешивании, термообработку осуществляют от 2 до 48 часов.



 

Похожие патенты:
Изобретение относится к биотехнологии. Способ получения конъюгатов коллоидного золота с иммуноглобулинами предусматривает отделение конъюгата от несвязавшихся иммуноглобулинов и свободного вторичного стабилизатора путем наслоения реакционной смеси на среду высушивания, состоящую из 0,025 М трис-буфера, 0,1 М NaCl, сахарозы и бычьего альбумина с последующим центрифугированием.
Группа изобретения относится к способу получения концентрата водного коллоидного золото-кварцевого раствора и концентрату водного коллоидного золото-кварцевого раствора, обладающему антимикробным и антитоксическим действием, который может быть использован в парфюмерной, пищевой промышленности, в медицине, в сельском хозяйстве, в ветеринарии, в биологии и в других областях.

Изобретение относится к нанотехнологии, технике и энергетике, и может быть использовано при получении прозрачных материалов с металлической проводимостью или с полупроводниковыми свойствами. В проточную кювету помещают дистиллированную воду, содержащую предварительно сформированные аморфные микрочастицы шунгитного углерода и сферические золотые наночастицы размером 10 нм.

Изобретение относится к загрузке пористых частиц микронного или субмикронного размера неорганическими наночастицами или органическими молекулами. Описан способ загрузки неорганических наночастиц или органических молекул в пористые частицы микронного или субмикронного размера, включающий получение суспензии неорганических наночастиц или органических молекул и пористых частиц в водной среде или в среде органического растворителя; контролируемое замораживание суспензии со скоростью фронта кристаллизации меньшей критической скорости, при которой частицы захватываются фронтом, причем замораживание осуществляют при перемешивании со скоростью, при которой не происходит седиментация частиц; оттаивание суспензии; и выделение загруженных пористых частиц, а также способ получения полимерных капсул микронного или субмикронного размера, включающий получение загруженных пористых частиц микронного или субмикронного размера, формирование полимерной оболочки на поверхности указанных загруженных пористых частиц микронного или субмикронного размера, растворение пористых частиц микронного или субмикронного размера путем обработки реагентом, растворяющим пористые частицы, а также полимерная капсула, содержащая неорганические наночастицы и/или органические молекулы.

Изобретение относится к способу гидрометаллургического извлечения золота из золотосодержащего сырья йод-йодидным выщелачиванием и может быть использовано для переработки упорного золотосодержащего сырья. Способ включает предварительную подготовку сырья и последующее выщелачивание йод-йодидным раствором, отделение от кека, выделение золота из продуктивного раствора с использованием продуктов катодных электрохимических реакций и последующую регенерацию обеззолоченного йодидного раствора в анодной камере электролизера.

Изобретение относится к фармакологии, фармацевтике, дерматовенерологии, комбустиологии, области получения мазей и других мягких лекарственных форм и представляет собой способ получения средства для местного лечения кожных заболеваний на основе наноразмерных частиц золота, вазелина и твердых присадок, составляемого из раствора наноразмерных частиц золота, получаемого электрохимически через помещение в емкость с рабочей смесью цитратного С6Н8О7 и аммиачного раствора NH4 выполненного из золота электрода, который отделен от другого выполненного из золота электрода микропористой перегородкой, который заключается в том, что полученный раствор наноразмерных частиц золота подвергают сублимации в камере лиофильной сушки для удаления избытков воды с последующим смешиванием с вазелином и смесью порошкового талька с белой глиной в отношении 4 доли вазелина к одной доле талька с глиной и конечной гомогенизацией в ультразвуковом смесителе до получения мази, либо в том, что полученный раствор наноразмерных частиц золота подвергают сублимации в камере лиофильной сушки для удаления избытков воды с последующим смешиванием с вазелином и смесью порошкового талька с белой глиной в отношении одна доля вазелина к одной доле талька с глиной и конечной гомогенизацией в ультразвуковом смесителе до получения пасты.

Изобретение относится к металлургии и может быть применено для комплексной переработки пиритсодержащего сырья. Осуществляют безокислительный обжиг, обработку огарка с растворением железа, цветных металлов, серебра и золота и получение их концентратов.

Изобретение может быть использовано при изготовлении маркеров в иммунохроматографии. Для получения наночастиц коллоидного золота проводят восстановление золотохлористоводородной кислоты цитратом натрия.

Изобретение относится к нанотехнологии и может быть использовано при изготовлении спазеров, плазмонных нанолазеров, при флуоресцентном анализе нуклеиновых кислот, высокочувствительном обнаружении ДНК, фотометрическом определении метиламина. Сначала приготавливают первый раствор, содержащий наночастицы золота с оболочкой из оксида кремния.
Изобретение относится к технологиям извлечения благородных металлов и может быть использовано для извлечения золота и серебра из растворов. .
Изобретение относится к способам получения технического кускового силикагеля. Способ получения кускового силикагеля включает смешивание раствора жидкого стекла с раствором серной кислоты при 15-25°C, гелирование раствора при температуре 15-30°C в течение 20-40 часов, измельчение, отмывку и термическую обработку.
Наркология
Наверх