Способ получения покрытий на основе системы ti-al, синтезированных в среде реакционных газов

Изобретение относится к получению износостойких покрытий и может быть использовано для повышения надежности и срока службы широкого ассортимента режущих инструментов. Способ получения покрытия на основе интерметаллидов системы Ti-Al на детали из твердого сплава в газовой среде вакуумно-дуговым осаждением включает предварительное обезжиривание поверхности обрабатываемой детали из твердого сплава, помещение упомянутой детали в вакуумную камеру, в которой создают рабочее давление 8·10-3 – 5·10-2 Па, проведение ионной очистки обрабатываемой детали, нагрев и активацию ее поверхности сначала сильноточным плазменным источником с накальным катодом до температуры 350-400°C, а затем до температуры 400-450°C электродуговыми испарителями в среде инертного газа аргона. После указанных нагрева и активации поверхности обрабатываемой детали наносят покрытие на основе системы Ti-Al в газовой среде азота, кислорода, ацетилена и аргона с использованием двух независимо регулируемых испарителей при ассистировании процесса сильноточным плазменным источником с полым катодом с образованием фаз TiN, TiO, TiC, AlN, Al2O3, AlC, TiAl, Ti3Al, TiAl3. Обеспечивается повышение физико-механических свойств детали путем получения различных интерметаллидных и твердых фаз в многослойном покрытии, синтезированном в среде реакционных газов. 1 пр.

 

Изобретение относится к области получения износостойких покрытий, в частности к получению износостойких покрытий и может быть использовано для повышения надежности и срока службы широкого ассортимента режущих инструментов.

Известен способ получения износостойкого покрытия на основе интерметаллида системы Ti-Al, по которому обрабатываемую деталь размещают в вакуумной камере установки, содержащей плазменный источник с накальным катодом и два электродуговых испарителя в виде катодов из алюминия и титана, расположенных в одной плоскости напротив друг друга. Осуществляют ионную очистку поверхности детали плазменным источником с накальным катодом и ионную очистку электродуговым испарителем в среде инертного газа при нагреве поверхности до температуры 300-350°C. Наносят на поверхность детали нижний слой титана посредством титанового катода. Наносят слой на основе нитрида интерметаллида системы Ti-Al посредством двух катодов, затем наносят слой на основе интерметаллида системы TiAl посредством двух катодов. Нанесение слоев покрытия осуществляют при ассистировании плазменным источником с накальным катодом. При нанесении слоя на основе интерметаллида изменение его фазового состава осуществляют путем изменения расположения обрабатываемой детали в вакуумной камере (Патент РФ №2489514, МПК C23C 14/02, опубл. 22.03.2012).

Недостатком такого способа является то, что осаждение происходит в стационарном режиме, что затруднят обработку сложнопрофильных деталей, имеющих теневые зоны и отверстия.

Известен способ получения ионно-плазменного покрытия на лопатках компрессора из высоколегированных сталей и сплавов на основе никеля, включающий в себя помещение деталей в вакуумную камеру, создание требуемого вакуума, ионную очистку и ионно-имплантационную обработку поверхности с последующим нанесением на нее заданного количества пар слоев титана и соединения титана с металлами. (Патент РФ №2496910, МПК С23С 14/06, опубл. 27.12.2012).

Недостатком аналога является небольшая глубина диффузионного слоя вследствие использования метода ионной имплантации.

Известен способ повышения стойкости режущего инструмента, при котором на его поверхность вакуумно-плазменным методом наносят износостойкое покрытие из нитрида ниобия (Табаков В.П., Чихранов А.В., Долженко Я.А. Влияние состава износостойких покрытий на основе нитрида ниобия на механические свойства и работоспособность режущего инструмента // Материалы и технологии XXI века: сборник статей XVI Международной научно-технической конференции. - Пенза: Приволжский Дом знаний, 2019. - С. 76-80).

Недостатком данного аналога являются низкие физико-механические характеристики, что приводит к уменьшению ресурса работы режущего инструмента.

Известен способ получения многослойного покрытия на поверхности технологических инструментов, включающий ионную очистку поверхности в среде аргона тлеющим разрядом и нанесение на нее слоев покрытия магнетронным распылением, причем ионную очистку поверхности и нанесение слоев покрытия осуществляют дуальной магнетронной системой с титановым и алюминиевым магнетронами, причем слои наносят при расстоянии от мишеней до поверхности 140-150 мм, скорости вращения поверхности 20-25 об/мин и температуре поверхности 473-523 К, ионную очистку поверхности проводят титановым и алюминиевым магнетронами в течение 5-6 мин при разрядных токах 1-2 А, давлении аргона 0,27-0,28 Па, напряжении на поверхности 1000-1200 эВ с ее нагревом до температуры 473-523°К, после ионной очистки напряжение на поверхности снижают до опорного -50 В и наносят подслой титана Ti в среде аргона при давлении 0,27-0,28 Па с увеличением разрядного тока на титановой мишени до 13,5 А в течение 6-8 мин, затем наносят переходный слой нитрида титана TiN магнетронным распылением титановой мишени в газовой смеси азота и аргона при парциальном давлении 0,27-0,28 Па с увеличением разрядного тока на титановой мишени до 14,5-15,0 А в течение 8-10 мин, после чего наносят чередующиеся слои нитрида титана TiN и Ti-Al-N с нанокристаллической и поликристаллической структурой в газовой смеси азота и аргона при их соотношении N2/Ar : 12/88% и парциальном давлении 0,27-0,28 Па, при этом слои Ti-Al-N с нанокристаллической структурой наносят посредством титановой и алюминиевой мишеней и с увеличением разрядного тока на алюминиевой мишени до 14,5-15,0 А в течение не менее 185-190 мин, а слои Ti-Al-N с поликристаллической структурой наносят со снижением разрядного тока на титановой и алюминиевой мишенях до 13,0-14,0 А и с увеличением величины опорного напряжения до -(55-60)В в течение не менее 110-115 мин, причем нанесение чередующихся слоев повторяют не менее двух раз до получения необходимой толщины покрытия и верхним наносят слой Ti-Al-N с нанокристаллической структурой (Патент РФ №2533576, МПК С23С 14/35, С23С 14/06, опубл. 20.11.2014).

Недостатком данного способа является невысокая скорость осаждения покрытий.

Известен способ получения износостойкого покрытия для режущего инструмента, представляющего собой сложный нитрид титана, циркония, гафния, ванадия, ниобия и тантала (TiZrNbVHfTa)N со стабильной однофазной структурой (Патент РФ №2620521, МПК С23С 14/22, С23С 14/06, опубл. 26.05.2016).

Недостатком приведенного аналога является сложный состав многокомпонентного катода, а также трудности его получения.

Наиболее близким к заявляемому изобретению по совокупности существенных признаков является способ получения покрытия на основе интерметаллидов системы Ti-Al, включающий синтезирование покрытия в среде азота путем вакуумно-дугового осаждения из двух независимо регулируемых испарителей, по которому обрабатываемую деталь помещают в вакуумную камеру, предварительно обезжирив поверхность, в камере создают рабочее давление 8⋅10-3 - 5⋅10-2 Па, осуществляют ионную очистку, нагрев и активацию поверхности в два этапа, причем в первом этапе ее нагрев осуществляют сильноточным плазменным источником с накальным катодом до температуры 350-400°С, на втором этапе поверхность детали нагревают до температуры 400-450°С электродуговыми испарителями в среде инертного газа аргона, после этого наносят первый слой титана, следующим наносят покрытие на основе интерметаллида системы Ti-Al в среде азота, при этом нанесение покрытия осуществляют при ассистировании процесса сильноточным плазменным источником с накальным катодом и с образованием фаз TiN, AlN, TiAl, Ti3Al, TiAl3 (Патент РФ № 2689474, МПК С23С 14/24, С23С 14/02, С23С 14/06, опубл. 28.05.2019).

Недостатком данного способа, принятого за прототип, является то, что осаждение происходит в одной смеси газа, что не позволяет сформировать дополнительные фазы.

Задача, на решение которой направлено заявляемое изобретение - улучшение качества поверхности и увеличение ресурса работы детали.

Технический результат, на решение которого направлено заявляемое изобретение - повышение физико-механических свойств детали путем получения различных интерметаллидных и твердых фаз в многослойных покрытии, синтезированном в среде реакционных газов.

Поставленная задача решается и технический результат достигается тем, что в способе получения покрытия на основе интерметаллидов системы Ti-Al на детали из твердого сплава в газовой среде вакуумно-дуговым осаждением, включающем предварительное обезжиривание поверхности обрабатываемой детали из твердого сплава, помещение упомянутой детали в вакуумную камеру, в которой создают рабочее давление 8⋅10-3 - 5⋅10-2 Па, проведение ионной очистки обрабатываемой детали, нагрев и активацию ее поверхности сначала сильноточным плазменным источником с накальным катодом до температуры 350-400°С, а затем до температуры 400-450°С электродуговыми испарителями в среде инертного газа аргона, согласно изобретению, после указанного нагрева и активации поверхности обрабатываемой детали наносят покрытие на основе системы Ti-Al в газовой среде азота, кислорода, ацетилена и аргона с использованием двух независимо регулируемых испарителей при ассистировании процесса сильноточным плазменным источником с полым катодом с образованием фаз TiN, TiO, TiC, AlN, Аl2О3, AlC, TiAl, Ti3Al, TiAl3.

Пример конкретной реализации способа

В вакуумной камере устанавливают предварительно обезжиренную обрабатываемую деталь, например, фрезу из твердого сплава. Затем в камере создают рабочее давление равное 8⋅10-3 - 5⋅10-2 Па. Проводят ионную очистку в среде инертного газа Аг в два этапа. На первом этапе инструмент нагревают до температуры 350-400°С. На втором этапе поверхность инструмента нагревают до температуры 400-450°С при помощи электродуговых испарителей. Следующим этапом наносят покрытие на основе системы Ti-Al в среде газов азота, кислорода, ацетилена, аргона при ассистировании процесса сильноточным плазменным источником с полым катодом с образованием фаз TiN, TiO, TiC, AlN, Аl2О3, AlC, TiAl, Ti3Al, TiAl3.

Итак, заявляемое изобретение позволяет повысить физико-механические свойства детали путем формирования различных интерметаллидных и твердых фаз в многослойных покрытии, синтезированном в среде реакционных газов.

Способ получения покрытия на основе интерметаллидов системы Ti-Al на детали из твердого сплава в газовой среде вакуумно-дуговым осаждением, включающий предварительное обезжиривание поверхности обрабатываемой детали из твердого сплава, помещение упомянутой детали в вакуумную камеру, в которой создают рабочее давление 8·10-3 – 5·10-2 Па, проведение ионной очистки обрабатываемой детали, нагрев и активацию ее поверхности сначала сильноточным плазменным источником с накальным катодом до температуры 350-400°C, а затем до температуры 400-450°C электродуговыми испарителями в среде инертного газа аргона, отличающийся тем, что после указанных нагрева и активации поверхности обрабатываемой детали наносят покрытие на основе системы Ti-Al в газовой среде азота, кислорода, ацетилена и аргона с использованием двух независимо регулируемых испарителей при ассистировании процесса сильноточным плазменным источником с полым катодом с образованием фаз TiN, TiO, TiC, AlN, Al2O3, AlC, TiAl, Ti3Al, TiAl3.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к литейному производству и может быть использовано для повышения стойкости металлического кокиля для литья медных сплавов. Способ нанесения защитного покрытия на формообразующую поверхность металлического кокиля для литья медных сплавов осуществляют следующим образом.

Изобретение относится к способу упорядоченного осаждения наноструктурированных углеродных тонких пленок в постоянном электрическом поле. Между прозрачной твердой подложкой и углеродной мишенью помещают металлическую сетку, создают между углеродной мишенью и металлической сеткой разность потенциалов.

Изобретение относится к получению тонких пленок ферромагнитного полупроводника монооксида европия (EuO) на кремниевой подложке с получением эпитаксиальной гетероструктуры EuO/Si, при этом упомянутые тонкие пленки могут быть использованы в устройствах спинтроники. Поверхность подложки Si(001) предварительно очищают или очищают и формируют на ней поверхностную фазу Eu 2х3.

Способ электронно-лучевого нанесения упрочняющего покрытия на изделия из полимерных материалов. Покрытие из оксида металла, прозрачное в видимой области спектра, наносят в вакууме.

Изобретение относится к области микро- и нанотехнологии и может быть использовано для изготовления массивов субмикронных структур, используемых в устройствах нанофотоники и наноплазмонной сенсорики для повышения уровня их чувствительности. Способ изготовления массивов регулярных субмикронных металлических структур на оптически прозрачных подложках включает подготовку рабочей поверхности оптически прозрачной подложки, нанесение резистивного слоя на рабочую поверхность оптически прозрачной подложки, лучевое экспонирование, проявление с формированием маски в резистивном слое и физическое осаждение металла из газовой фазы.

Изобретение относится к способу изготовления высокотемпературной сверхпроводящей ленты. Осуществляют осаждение буферных слоев на подложку в следующей последовательности: слой оксида алюминия, слой оксида иттрия, слой оксида магния, слой гомоэпитаксиального оксида магния и слой манганита лантана, осаждение слоя высокотемпературного сверхпроводника на буферные слои и нанесение по меньшей мере одного защитного слоя.

Изобретение относится к способу получения тонких алмазных пленок и может быть использовано в различных областях промышленности и науки для получения тонкопленочных упрочняющих покрытий и активных слоев тонкопленочных наноструктур. Предлагается способ получения тонких алмазных пленок на подложке методом вакуумного лазерного воздействия на мишени и конденсацией углерода на подложки, где в качестве мишеней используют предварительно спрессованные таблетки детонационного наноалмаза и таблетки из высокочистого графита, а лазерное воздействие осуществляют в два этапа: вначале сфокусированным излучением лазера на основе алюмоиттриевого граната с длиной волны 1064 нм серией 10-20 импульсов с энергией импульса 3,8-5,8 Дж диспергируют мишень из детонационного наноалмаза и формируют на подложке наноалмазные нуклеационные центры; затем промежутки между нуклеационными центрами заполняют углеродом с преимущественно sp3-связями, сконденсированным из парогазовой фазы, полученной испарением мишени из высокочистого графита путем воздействия расфокусированным лазерным излучением этого же лазера с интенсивностью энергии импульса не ниже 1,6⋅104 Вт/см2.

Изобретение относится к технологии производства тонких алмазных пленок и может быть использовано в различных областях промышленности и науки для получения тонкопленочных упрочняющих покрытий и активных слоев тонкопленочных наноструктур. Алмазоподобную пленку получают конденсацией углерода на стеклянную подложку из парогазовой фазы, полученной испарением мишени из высокочистого графита за счет воздействия в вакууме расфокусированным лазерным излучением с длиной волны 1064 нм, диаметром пятна 3 мм, интенсивностью энергии импульса 1,6⋅104 Вт/см2 и длительностью импульсов не менее 8 мс.

Изобретение относится к технологии получения нанопроволок AlN для микроэлектроники и может быть использовано для улучшения рассеивания тепла гетероструктурами, для создания светильников, индикаторов и плоских экранов, работающих на матрице из нанопроволок и т.д. Проводят импульсное лазерное распыление керамической мишени AlN стехиометрического состава с помощью эксимерного лазера KrF с длиной волны излучения 248 нм.

Изобретение относится к технологиям получения износостойких, прочностных тонких алмазных пленок методом вакуумной лазерной абляции и может быть использовано в различных областях промышленности и науки для получения тонкопленочных упрочняющих покрытий и создания наноструктурных материалов. Тонкую наноалмазную пленку получают на стеклянной подложке путем распыления материала мишени импульсным лазером в вакууме, при этом в качестве мишени используют таблетки из детонационного наноалмаза, а в качестве источника импульсного лазерного излучения используют лазер с длиной волны 1064 нм серией от 13 до 20 импульсов, с энергией импульса от 3,8 до 5,8 Дж и длительностью от 1 до 1,5 мс.

Изобретение относится к способам формирования эпитаксиальных гетероструктур EuO/Ge, которые могут быть использованы в устройствах спинтроники. Способ формирования эпитаксиальных гетероструктур EuO/Ge включает осаждение на германиевую подложку атомов металла в потоке молекулярного кислорода методом молекулярно-лучевой эпитаксии, при этом поверхность подложки Ge(001) предварительно очищают от слоя естественного оксида, или очищают от слоя естественного оксида и формируют на ней поверхностные фазы Еu, представляющие собой субмонослойные покрытия из атомов европия, после чего при температуре подложки TS=20÷150°C производят осаждение европия при давлении PEu=(0,1÷100)⋅10-8 Торр потока атомов европия (ФEu) в потоке кислорода ФO2 с относительной величиной 2≤ФEu/ФO2≤2,2 до формирования пленки ЕuО толщиной менее 10 нм.
Наверх