Гидрофилизирующий раствор для получения офсетных печатных форм на электрофотографической бумаге

 

Fj

О П И С А Н И Е ц 539290

ИЗОБРЕТЕНИЯ

Ьоюв Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 26.03.74 (21) 2009365/12 с присоединением заявки № (23) Приоритет

Опубликовано 15.12.76. Бюллетень № 46

Дата опубликования описания 26.01.77 (51) М, Кл. - G 03F 7/00

Госудерстееииый комитет

Совета Министров СССР по делам изобретений и открмтий (53) УДК 655.229.36 (088,8) (72) Авторы изобретения

А. Ю. Гикене, В. И. Вискупайтис, Т. И. Денис, Л-Ю. Ю. Кунскайте, В. С. Чепоните и Б. Л. Гафуров

Специальное конструкторское бюро Оргтехники и Вильнюсский государственный университет им. В. Капсукаса (71) Заявители (54) ГИДРОФИЛИЗИРУЮЩИЙ РАСТВОР

ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ОФСЕТНЫХ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ

НА ЭЛЕКТРОФОТОГРАФИЧЕСКОЙ БУМАГЕ

1!.:

Изобретение относится к полиграфии, в частности к офсетной печати с использованием электрофотографических офсетных печатных форм.

Основной проблемой изготовления офсетной 5 печатной формы на электрофотопрафической бумаге является превращение пробельных элемечтов в гидрофильные при сохранении печатающими элементами своих гидрофобных свойств. Избирательное смачивание изобра- 10 жения достигается при обработке копий гид- рофилизирующим раствором.

Известны гидр офилизирующие растворы, содержащие соли щелочных металлов железосинеродистой и железистосинеродистой кис- 15 лот, кислый или нормальный фосфаты щелочных металлов или аммония, алифатический многоатомный спирт, полимерные органические (полиакриловая, полиметакриловая, поливинилфосфорная) кислоты и другие вещества. 20

Указанные гидрофилизирующие растворы не обеспечивают гидрофилизации электрофотографической бумаги, в состав фотополупроводникового слоя которой входит окись цинка и связующее — поливинплбутира Ib или окись 25 цинка и связующее — смесь поливинилбутираля и сополимера алкидной смолы с бутили метиJIметакрилаTîM

Целью изобретения является повышение качества гидрофилизирующего раствора, обеспечивающего высокую тиражеустойчивость офсетной печатной формы на электрофотографической бумаге. Это достигается тем, что в состав гидрофилизирующего раствора, содержащего соли щелочных металлов железосинеродистой и (или) железистосинеродистой кислот, кислый или нормальный фосфаты щелочHb1x металлов или аммония и алифатический многоатомный спирт, вводится водорастворимый сополимер стирола с мономерами алифатического ряда, соответствующий формуле. где Y — ооозначает ионогенные группы ——

50 Н, РОН, à Rl, R, Rg, R< — обозначают водород, алкил, aìåùåííûé алкил, — СООН, С\, CONH., ОН, галоген, карболкокси и ацплокси группы, 539290

1 — -30

0,1 — 10

0,01 — -5

Ос . (,7»IIOC.

Состаьитель К. Бараоанов

Те кред А, Ка: I I (3! и кова м)роси у> J .,1) >а>иiiiiч(1> еда кт ор Н. Коган

Заказ 2928, 13 Изд. М 1883 T. :раск 525 Г!о::;. : ..и.

Ц11ИИПИ 1 осударстве(шого ко;итога Сове-. и Ми.:::с;ров С(:СР ио дедам и"-обретеии(1 и открытии

113035, Москва,,)1(35, Раушская )ао., (),5> )и: ог)>7()>i»I, II;> С.!!I .»o:.1, 2 и

Соотношение =-0 — G,i

>)1

Соотношение компонентов i ?IipoQH;I?I»Hpующего раствора может быть (всс.",о):

Соли щелочных металлов желсзосинсродистой и (или) жслезистосинеродистой кислот 0,1 — 10

Кислый или HQPM3.!I»Hblii фосфат щелочных металлов

Алифатический многоатомный спирт 0,1 -10

Сополимер стирола с мономерами алифатичсского ряда 0,01 — 5

Вода Остальнос.

Пример 1. 0,5 г сульфированного статистического сополимера стирола с дпэтпловым эфиром нтаконовой кислотой растворяют в

91,6 г воды, добавляют по 0,2 г K:,Ãå(ÑN), и

K3Fe(CN) а, 7 г )к)азРО4 и 0,5 г триметилолэтана. Раствор слабо подогревают до полного раc7HopeHH5I веществ. Приготовленным гидрофиЛИЗИРУЮЩИМ РаСтВОРОМ СМаЧИ ВаЮТ (Онсiiо, ПОлученную на электрофотографической бумаге.

По истечении 20 — 50 сек после нанесения гHдрофилизируlощеГО раствОр3 элоктрофотОГрафическая офсетная печатная форма гстова к работе. В качестве ув1аж)?51)ощсй жидкости в процессе офсетной печати может быть использована вода. Также может быпгь применен разбавленный водой гидрофилизируюи)ий раствор.

Пример 2, 0,1 г фосфолированного статистического сополимера стирола с акрилопитрилом распворяют в 86,0 г воды. В полученный раствор добавляют 4 г I(, Ге(С) )) „1 г

K7Fe(CN)(;, 8 г ХН Н.РО4 и 1 г этнленгли оля. Раствор слабо подогревают до Г(олного растворения веществ. Полученный раствор применяют аналогично, примеру 1.

1;)д,)ои))li„!H,-:,l .,!OH .И!1 );IC !7(ор д,.! H IIO.! I i

1 и»и О())(с1 !1»(х !(сч с!! (! Ых (i)OP з! ); 2 -., (с (TP0(1)ото5 Г ) афп (()C!(OII б) М ".I"C, СОДСРЖс? И1И?! .О, 1;1 И)С,(ОЧи ы х у(с га.!.10» ii(c,lc.)() синсро (и стоп и (или ) ЖС.) - ) H С 1 0(IIIICP 0,7,» C () И ((П! СЛ О Г, К) ..:.!»! i! ?i.l. нормальный фосфаты щелочны мет31;10» или

2 М,l 0 I i H 51 И с). И ф =1 I И C С l (П и 11 Н 0 Г З 2 О ) И Ы И

10 с)ир, Oт l !ч аюший сii том, ч!о, с !сльо

И0?!Ь!iICII!!5! !(ci -!С .Т»(! Рс!СТ»ОР2, 01! ДО;IОЛПИтсл.,:о содср;киг Одораст»оримый сополимср

C T! i P 0 i (2 C М 0: 0 М С )) i! . . I i 2.Ë H () 2 T H × C C I : 0 à 0 Р Я Д 3, соо:, стст»! юи(и)и формуле гдс 1 — ооозпач (ст группы SO,H, PO;I!. 2

25 R!, R:, )(з, R, — — 0503»à»àioT водород, ал ил, замещенииl I 3.»(;Ië, -СООН, СХ, СО. (Н5, OII, »370! åH, кар()олкоксH и 2!)Илокси групПЫ, IIPH СЛС, i!, !0!I!C., . СООТИОI CI!!i И Ко il0!! Ilто», в вес. о)о.

3,) (0 7 И 1Ц" 0 о" Ь) Х металло» жслсз(:.ин родистой и(ил:!) жс:I C 3 H C TO C H H C I0 0 ) I C 1 кислот 0,1- — 10

1(ислый или нормальный фосфаты щелочных мсталлов 1 — -80

Ас!?(фа.ги )сский многоатомпый спирт

4() Сополимер стирола с vioI! 0 Ì C P 3. .I H I Ë H ô 3 T i i!! Ñ СКОГО РЯД3

Гидрофилизирующий раствор для получения офсетных печатных форм на электрофотографической бумаге Гидрофилизирующий раствор для получения офсетных печатных форм на электрофотографической бумаге 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Наверх