Способ получения рельефных изображений

 

,-ея теес сюее

g„ прфу M fik

Союз Сооеетскик

Социалистических

Республик

ОП АНИЕ оо706816

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к ает. свмд-ву (51}М. Кл.2 (22) Заяелено13.0778 (23) 2649474/28-10 с присоединением заявки йо а 03 Г 7/10

Государственный комитет

СССР по делам изобретений н открытий

{23) Приоритет

Опубликовано3012.79. Бюллетень Ио 48 (53) УДК 776.8 (088,8) Дата опубликования описания 301279 (72) Авторы изобретениЯ Б.Я. ШЯЯпинтох, Б.Б, Иванов, В,Б ° ШИбанов и П,Е, Миляшкевич.

Г

Ордена Ленина институт химической физики AH СССР и Украинский

71) ЗаяВИтЕЛИ научно-исследовательский институт полиграфической. промышленности (54) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ РЕЛЬЕФНЫХ ИЗОБРАЖЕНИЙ

Изобретение относится к фотомеханической репродукции печатных форм на светочувствительных материаЛах и может быть использовано в полиграфической промышленности для иэгбтовления форм высокой офсетной .печати, а также в радиоэлектронной, электро-, технической и других отраслях народ- ного хозяйства. 30

Известны способы получения рельефных изображений на фотополимериэующихся материалах, способных к объемной усадке при фотополимеризации, заключающиеся в копировании фотойзображения на фотополимериэующийся слой и дополнительной термообработке, проводимой предпочтительно пос" ле копирования (1).

Недостатками этих "способОв яВЛяются применение дорогостоящих многокомпонентных фотополимеризующихся материалов, а также длительность процесса термообработки (до 120 мин) °

Известны способы получения рельефных иэображений, заключающиеся в том, что материал из металлической подложки и слоя s виде смеси попймера с фотосенсибилизатором подверГа1 ют фотодеструкции, экспонируют через металлический шаблон с последующей обработкой (2) .

При таких способах необходимо механическое удаление слоя после проведения процесса экспонирования .

С целью упрощения процесса по предлагаемому способу материал экспонируют при температуре выше пре- . дельной температуры полимериэации материала на 20-200 С, Пример l. Полимерную пленky получают прессованием смеси

9 0 r (90 вес.ч) полиоксиметилена (йредельная температура полимеризации 140 С) и 1,0, r (10 вес.ч) 1-хлорантрахиона под давлением

200 кгс/см при 150 С в течение

20 мин, толщина пленки 0,05-0,0бмм.

Пленку крепят к металлической подложке (алюминий) и облучают через металлический шаблон полным светом лампы ДРШ-500 на расстоянии 20 см при одновременнОм прогреве до 140 C.

Через 120 с. в облученных местах наблюдают полную деструкцию полимерной пленки. Необлученные участки образуют рельефное изображение, кото1 ое мбжно использовать в качествЕ печатной формы. r

706816

Пример 5. Растворяют 9,0 (90 вес.ч,) полиацетальдегида (предельная температура полимеризации

30 С) 1,0 r (10 вес.. ч,) бензофенона в 30 мл бензола и поливают этот

5 раствор на алюминиевую фольгу в центрифуге, получают печатную плас тину с толщйной слоя 25-30 мкм, затем пластину облучают по примеру 1, подогревая.ее до 150 С. Время облу1О чения и прОгрева, необходимое для полной деструкции экспонированных участков, находится в пределах 100ll0 с, Пример б. Полиацетальдегидную пленку, содержащую 1 вес.ч, 2,3-дихлорнафтохинона, крепят к алюминиевой подложке по примеру 5, облучают как в предыдущих примерах при 160 С, Время полной деструкции облученных

2О" участков 300-320 с.

Результаты экспериментов, описанных в примерах 1-6, приведены в таблице (процесс одностадийный), Пример

Хлорантра90 хинон

120 140

30 170

1 Поли ок симетилен

50-60

50-60

90 То же

2 То же

1т»

50-60

55-65 160

4 Полиацетальдегид

Бензофенон

50-6 О

200

160

25-30

90 - То же

100-110 150

5 То же

25-30

99 . 2,3-дихлорнафтохинон е е 7

300-320 160

Формула из обретения

Способ получения рельефных изображений, заключающийся в том, что материал из металлической подложки и 5р слоя в виде смеси полимера с фотосенсибилизатором подвергают фотодест рукции, экспонируют через мегФЩи ческий шаблон с последующей обработкой, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса, в

Составитель А, Теплова

Р акто Т, Рыбалова Тех едЛ.Ал е osa Ко ректо М, Пожо

Заказ 8219/40 Тираж 548 Подписное

I1HHHIIH Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий .

113035 Москва Ж-35 Ра ская наб, . 4 5

Филиал ППП Патент, г, Ужгород, ул. Проектная, 4

Пример 2, Полимерную пленку, приготовленную по примеру 1, крепят к алюминиевой пластинке и облучают полйым светом лампы ДРМ-500 при нагревании до 170 С. Полная деструкция облученных участков наблюдаетСя через 30 с, однако при этом происхОдит также деструкция необлученных участков, и в результате толщина слоя полимера уменьшается до

0,040-0,045 мм.

Пример 3. Пленку полиоксийетилена, приготовленную по примеру

1, подвергают фотодеструкции при о

160 С. Полная деструкция и удаление проэкспонированных участков происходят за 55-65 с, Пример 4. В качестве сенсибилизатора используют 5 вес,Ъ бензофенона. При облучении образцы пленок прогревают до 160 С ° Необходимая глубина рельефа достигается за 200210 с деструктирования. нем материал экспонируют при температуре выше предельной температуры полимеризации материала на 20200 оС, Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство СССР по заявке Р 2446056/28-10, кл, G03 % 7/02 1977.

2, Патент СИЛ Р 3964907, кл. 96-35, опублик, 197 4 (прототип),