Вибробункер для ориентации полупроводниковых приборов

 

есор „ о и и сЪчт-и i.

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик

<,746775

К АВТОРСКОМУ СВИ) ЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 10.02,78 (21) 2578261/18-21 с присоединением заявки № (23) Приоритет(51) М. Кл.

Н Oll 21/00

Веударстоенный комитет

СССР ао делам изобретений и открытий

Опубликовано 07.07.80. Бюллетень ¹ 25 (53) УД К62 1. 31 9с .4,002.5 (088.8) Дата опубликования описания 09.07.80 (72) Авторы изобретения

М. С. Сосновских и Ю. Л. Игнатов (71) Заявитель (54) ВИБРОБУНКЕР ДЛЯ ОРИЕНТА11ИИ

ПОЛ УПРОВОДНИЕОВЫ X ПРИБОРОВ

Изобретение относится к загрузочным устройствам, обеспечивающим заданную ориентацию деталей в процессе транспортиров ания.

Известен вибробункер для ориентации полупроводниковых приборов, включающий чашу, спиральный поток, которой соединен с днищем чаши, и ориентирующий эле;мент $1$.

Однако известное устройство не обесю печивает высокого качества opHBHTBllHH попупроводниковых приборов в процессе транспортирования. цепь изобретения — повышение качества ориентации полупроводниковых прибо15 ров.

Это достигается тем, что в известном вибробункере для ориентации полупроводниковых приборов, содержащем чашу, спиральный лоток, который соединен с дни;щем чаши, и ориентирующий элемент, ттос:педний снабжен выступами, которые, размещены с шагом, соответствующим расстоянию между выводами прибора, причем

2 каджый последующий выступ удален от стенки чаши на большее расстояние, чем последующий.

На фиг. 1 изображен вибробункер, общий вид на фиг. 2 — разрез A-A фиг. 1

3 на фиг. 3 - полупроводниковый прибор, вид сбоку на фиг. 4 - то же, вид сверху.

Вибробункер содержит чашу 1, спиральный лоток 2, соединенный с днищем 3 чаши, и ориентирующий элемент 4, снабженный разновысокими выступами 5, 6, 7.

Часть ориентирующего элемента выпол« непа в виде копира 8, расположенного под углом к направлению движения приборов.

Вибробункер работает следующим образом.

Приборы поступают на ориентирующий элемент 4 одиночным потоком. При дви+ женин по спиральному лотку 2 приборы занимают положение, при котором поверхность 0» соприкасается с лотком, а выводы "сР, «8, g" направлены вверх.

Так как приборы имеют форму тела вра3

В положении IV прибор находится в за- " жество положений относите но же ий относительно выступов данном ориентированном положении и с, 6, р рующего элемента 4. выступами ориентирующего элемента при

Наиболее характерные положения при- движении не соприкасается. боров: В положении " вывод д . прибора при

Вывод д находитсЯ ближе осталь перемещении соприкасается с выступом 7 ных к ориентируклпему элементу. ориентирующего элемента, который разво . Вывод б расположен ближе дру- рачивает прибор вокруг своей оси в задангих к ориентирующему элементу. ное ориентированное положение.

N Вывод «г расположен ближе других 10 В положении Й вывод о прибора сопк ориентирующему элементу. р псасается с выступом ориентирующего ды о= и г расположены па- элемента, но до ориентированного положе раллельно ориентирующему элементу. ния прибор не доворачивается, попадает юйм

Р. Выводы "Р и 8 параллельны на копир 8, расположенный под углом к ориектирующему элементу.. 15 движению приборов, где доворачивается

«Яю r r

Й. Выводы 8 и е параллельны до ориентированного положения или (при ориентирующему элементу. отсутствии ориентапии прибора на этом

СОРиентиРованным СчитаетсЯ положение, - участке) сбрасывается с лотка 2 под

«Дю ю r когда выводы и 3 параллельны действием смещения пентра тяжести при ориентирующему элементу, а прибор рас- 20 переходе на Радиальный участок ориентиположен к неиу стороной без вывода В щего элемента 4 положении «I прибор, перемещаясь о спиральному лотку, попадает на ориентатор» Из рассмотренных положений видно, соприкасается выводом д с выступом 5 что более 90% приборов доворачиваются поворачиваясь вокруг своей оси до поло- 25 в ориентированное положение. жения ориентированного прибора, и в таком положении попадает на копир 8 ориентирующего элемента 4 и далее на ра- ф о р м у л а и з о 6 р е т е н и я диальный участок к выходу из вибробункеpéå ЗО Вибробункер для ориентапии полупроВ положении /7 с выступом 5 сопри- водниковых приборов, содержащкй чашу, касается вывОд 8, прибор поворачивается спиральный лоток, которой соединен с днипо мере движения вокруг своей оси и упи- щем чаши,;и ОРИентирующий элемент, рается выводом d в выступ 6, который отличающийся тем, что, с доворачивает прибор до ориентированногo 35 целью повышения качества ориентапии, положения далее по копиру 8 к выхолу ориентирующий элемент снабжен выступаиз вибробунке а4 иб робу кер а4 ми, которые размещены с шагом, соотВ положении Щ с выступом 5 сопри- ветствующим ра им РасстояниЮ между выводами касается вывод В, который заставляет ем кажлы последующий вы: поворачиваться вокруг своей оси прибор 4о туп удален от стен е от стенки чаши на большее. до соприкосновения вывода о " с расстояние, чем предыдущий выступом 6. I

Ф

Выступ 6 разворачивает прибор до .; Источники информапии, соприкосновения вывода < с выступом 7, принятые во внимание при экспертизе который осуществляет разворот прибора в 45 1. Авторское свидетельство СССР ориентированное положение. М 283342, кл. Н 05 К 13/06, 1970.

Вибробункер для ориентации полупроводниковых приборов Вибробункер для ориентации полупроводниковых приборов Вибробункер для ориентации полупроводниковых приборов 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано в технологии изготовления транзисторных структур с полным эмиттером

Изобретение относится к области электричества, а более конкретно к технологии изготовления биполярных полупроводниковых приборов: диодов, тиристоров, транзисторов

Изобретение относится к технологии полупроводниковых приборов, а более конкретно к методам радиационно-термической обработки диодов, работающих на участке пробоя вольтамперной характеристики, и может быть использовано в производстве кремниевых стабилитронов, лавинных вентилей, ограничителей напряжения и т.п

Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано при изготовлении интегральных схем, особенно при необходимости минимизации количества операций литографии

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)
Изобретение относится к области тонкопленочной технологии и предназначено для использования в микроэлектронике и интегральной оптике
Изобретение относится к области тонкопленочной технологии и предназначено для использования в микроэлектронике и интегральной оптике

Изобретение относится к технологии полупроводников и может быть использовано для получения многослойных эпитаксиальных структур полупроводниковых материалов методом жидкофазной эпитаксии

Изобретение относится к технологии полупроводниковых приборов, в частности к технологии изготовления полупроводниковых структур, используемых для производства диодов, транзисторов, тиристоров, интегральных схем и кремниевых структур с диэлектрической изоляцией
Наверх