Устройство для юстировки электронно-оптической системы

 

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЮСТИРОВКИ ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКОЙ СИСТЕМЫ, ссздержащее две юстирующие диафрагмы tffO с отверстиями, которые смещены отно-. сительно оси электронно-оптической системы и ориентированы под прямым углом, отличающееся тем, что, с целью повышения чувствительности юстировки и ее упрссцения при сохранении разрешающей способности, ме5кду юстирукадими диафрагмами введены две дополнительные диафрагмы , отверстия в которых одинаковы по форме с отверстиями юстирующих диафрагм и смещены по отношению к соседней юстирующей диафрагме в противололожные стороны, при этом дополнительные Диафрагмы электрически соединены меядду собой. (Л с

ПЕ OD„

СОО3 СОВЕТСКИХ

ONWl

РЕСПУВЛИК

1(5п Н Ol J 29 54

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ, ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ГЮ ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ

Н ABTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21 ) 3236 94 0/18- 21 (22) 05.11.80 (46) 23.12.83. Вюл. В 47 (72) С.П.Вычегжанин, В.А.Един, B.Н.Зимин и Г.Е.Колонда (53) 621.385.832(088.8) (56) 1. Миллер В.A., Куракин Л.A.

Приемные электроннолучевые трубки, М.-Л., Энергия, 1964, с ° 201-202, 2. Авторское свидетельство ССОР по заявке У 2862724/18-21, кл. Н. 01 J 29/54, 04 ° 01.80 (прототип) . (54) (57) УСТРОЙСТВО ДЛЯ lOCTHPOBKH

ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКОЙ СИСТЕМЫ, содержащее две юстирукщие диафрагмы с отверстиями, которые смещены отно-. сительно оси электронно-оптической системы и ориентированы под прямьм углом, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения чувствительности юстировки и ее упрсщения при сохранении разрешающей способности, между юстирукщими диафрагмами введены две дополнительные диафрагмы, отверстия в которых одинаковы по форме с отверстиями юстирующих диафрагм и смещены по отношению к соседней юстирукщей диафрагме в противололожные стороны, при этом дополнительные диафрагмы электрически соединены между собой.

967.21 6

Изобретение относится к электронной технике, в частности к электрон но-оптическим системам (ЭОС) элект.Роннолучевых трубок с электростатической фокусировкой и усилением отклонения, которые подлежат юстировке, S

Известные электростатЪМеские отклонякщие системы, которые можно применять как устройства юстировки, образованы пластинами, вытянутыми вдоль оси системы (1 j. 10

Однако такие системы сложны в изготовлении и сборке, а также значительно увеличивают длину ЭОС.

Наиболее близким техническим решением к предложенному является 15 устройство для юстировки ЭОС, Содержащее две юстирующие диафрагмы с отверстиями, которые смещены относительно оси ЭОС и ориентированы под прямьм углом (2 3. Каждая из диафрагм 0 имеет самостоятельный вывод, и регулировкой их потенциалов обеспечивается юстировка в двух перпендикулярных плоскостях.

Недостатком этОГО УстрОйства явля- 5 ется то, что оно имеет малую чувствительность, дефокусирует луч и вносит такие искажения, как поворот пятна, причем с увеличением поданного напряжения юстировки дефокусировка и искажения нарастают.

В известном устройстве отклонение в каждом направлении осуществляется несимметричньм полем одной юстирующей диафрагмы, на которую подано положительное или отрицательное напряжение, при этом отверстие диафрагмы, сквозь которое проходит электронный луч, воздействует на этот луч подобно круглому отверстию в обычной осесимметричной линзе-диаф- 40 рагме, т.е. в данном случае производит дефокусировку луча. Инычн словами, имеет место электронная линза, обладакщая определенной оптическойх силойр HoTopGR эависит От величины I 45 приложенного юстирунщего напряжения, в связи с чем и возникает дефокусировка электронного луча. С другой стороны, две рядом расположенные диафрагмы с взаимно перпендикулярньг ми отверстиями поворачивают луч относительно первоначального положения благодаря взаимному проникновению полей, что также нарушает фокусировку.

Величина поворота опРЕделяется Разностью потенциалов соседних диафрагм.

Таким образом, в процессе юстировки ЭОС необходимо постоянно корректировать фокусировку луча, что вызывает дополнительные трудности, так как ЭОС, в которых используются Рассматриваемые устройства, состоят иэ трех, четырех и более несимметричных линз, и в некоторых случаях вообще не удается получить хорошо сфокусированный луч. 65

Ф

Целью изобретения является повыаение чувствительности юстировки и ее упрощение при сохранении разрешающей способности.

Цель достигается тем, что в устройстве для юстировки ЭОС, содержащем две юстирукщие диафрагмы с отверстиями, которые смещены относительно оси ЭОС и ориентированы под прямьм углом, между юстирукщими диафрагмами введены две дополнительные диафрагмы, отверстия в которых одинаковы по форме с отверстиями юсти рукщих диафрагм и смещены по отношению к соседней юстирукщей диафрагме в противоположные стороны, при этом дополнительные диафрагмы электрически соединены между собой.

На чертеже показано предлагаемое устройство для юстировки. устройство юстировки содержит две юстирукщие диафрагмы 1 и 2, отверстия которых имеют вытянутую форму и смещены относительно электронно-оптической оси 3. Между юстирукщими диафрагмами 1 и 2 введены дополнительные диафрагмы 4 и 5, которые установлены так, что каждая из них, например дополнитель.ная диафрагма 5, вместе с соседней юстирукщей диафрагмой 1 образует пару, причем отверстия диафрагм каждой пары одинаковы по форме и смещены в противоположные стороны от электронно-оптической оси 3, образуя в центре щель. На юстирукщие диафрагмы пода-. ны напряжения юстировки 01И 02, а на дополнительные диафрагмы подано

Одинаковое напряжение 0>. В частноислучае напряжение .0 может быть равно нулю, Устройство для юстировки работает следукщим образом.

Электронный луч проходит поочередно сквозь каждую пару диафрагм, например диафрагмы 2, 5, и отклоняется в направлении, перпендикулярном направлению щели, благодаря поданно« му напряжению юстировки U на диаф1 рагму 1 и образованию поперечной составлякщей поля в пространстве между юстирукщей 1 и дополнительной 5 диафрагмами (на последнюю подано напряжение О ). В другой плоскости луч отклоняется парой диафрагм 2 и 4. Таким образом, меняя величину и полярность напряжений .0„ и U от2 носительно О, осуществляют отклонение луча юстирукщим устройством в любом требуемом направлении.

Введение дополнительных диафрагм позволяет увеличить напряженность поля в пространстве между соседними диафрагмами пары, при этом электростатическое поле внутри отверстий диафрагм 1 и 5 распределяется неравномерно. С увеличениам расстоя-967216

Составитель В.Гаврюшин

Редактор С.Юркова Техред .Л.Мартяшова Корректор Г.Решетник

Заказ 10636/7 Тираж 703 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035 Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП Патент, г.Ужгород, ул.Проектная, 4 ния от оси ЭОС напряженность поля s плоскости дополнительной диафрагмы 5 убывает, а затем меняет знак, что приводит к компенсации дефокусировки, вызванной отклонякщим полем юстирукщей диафрагмы 1. Оптическая сила дефокусировки у данной конструкции устройства значительно меньше, чем у известной, а чувствительность благодаря созданию поперечной составлякщей поля виае в 2,5 раза.

Кроме того, внутренние дополнитель— ные диафрагмы 4 и 5, на которые псдано одинаковое напряжение, экранируют взаимное проникновение полей внешних юстирукщих диафрагм 1 и 2, и,поворот луча и его искажения не наблюдаются. В результате отсутствия дефокусировки и искажений исключается коррекция в процессе настройки ЭОС, а юстировка в целом

1О упрсщается.