Вакуумная электронно-лучевая печь
Авторы патента:
Вакуумная электронно-лучевая печь для получения плоских слитков тугоплавких металлов, содержащая выполненный в виде плоской прямоугольной ванны кристаллизатор с механизмом возвратно-поступательного перемещения под электронно-лучевой пушкой, снабженной системой отклонения луча в направлении, перпендикулярном перемещению кристаллизатора, отличающаяся тем, что, с целью повышения качества слитка по всему объему слитка, ванна выполнена глубиной, составляющей 1/8 - 1/12 ее ширины.
Похожие патенты:
Источник питания установки тлеющего разряда // 1096765
Источник питания установки тлеющего разряда // 1069199
Датчик приращений тока дуги // 458108
Плазмохимический реактор // 2138929
Изобретение относится к области химического машиностроения и может быть использовано при получении тонкодисперсных материалов в химической и металлургической промышленности плазмохимическим способом
Изобретение относится к органическому и неорганическому полимерному листовому материалу, в частности к пленке, тканому или нетканому волокну, способу улучшения характеристик поверхности такого материала, способу генерирования плазмы тлеющего разряда для модифицирования поверхностных свойств органических и неорганических полимерных материалов и к устройству для инициирования плазмы тлеющего разряда
Электронагревательный элемент // 2020775
Изобретение относится к нагревательной технике и может быть использовано для нагрева поверхностей плит, утюгов, помещений, для технологического нагрева особо чистых элементов, сушки материала и других бытовых целей
Изобретение относится к термической и химико-термической обработке
Изобретение относится к электротехнике , а именно к установкам для нагрева тлеющим разрядом
Изобретение относится к злектротёхиике
