Теневая маска для цветного кинескопа
1. ТЕНЕВАЯ МАСКА ДЛЯ ЦВЕТНОГО КИНЕСКОПА, содержащая множество отверстий и вьтолненная с гофрами , параллельными одной из сторон маски, отличающаяся тем, что, с целью повышения качества изображения маски и упрощения технологии ее изготовления за счет сокращения диапазона изменения размеров отверстий в маске, гофры выполнены с затухающей интенсивностью изменения огибающей линии волны от центра маски к ее -периферии. 2.Маска по п. 1,.о т л и ч а ющ а я с я тем, что гофры выполнены с затухакмдей a шлитyдdй волны. 3.Маска по пп. 1 и 2, отличающаяся тем, что гофры выполkn нены с затухающей частотой волны.
СОО3 СОВЕТСНИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ РЕСПУБЛИН
4 К ПАТЕНТУ ГОСУДАРСТ8ЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ (21) 2762798/24-21 (22) 10.05.79 (31) 904778 (32) 11.05.78 (33) США (46) 15.03.85. Бюл. М- 10 (72) Зигмунд Тибор Виланий.(США) (71) РКА Корпорейшн (CIIIA) (53) 621.385.832(088.8) (56) 1. Патент США Ф 3944867, кл. Н 01 J 29/06, опублик. 1976. 2. Патент США У 4072876, кл. Н 01 J 29/07, опублик. 1978 (прототип). (54)(57) 1. ТЕНЕВАЯ МАСКА ДЛЯ ЦВЕТ- . НОГО КИНЕСКОПА, содержащая множе„„SU„„1145942 А ство отверстий и выполненная с гофрами, параллельными одной из сторон маски, отличающаяся тем, что, с целью повышения качества изображения маски и упрощения технологии ее изготовления за счет сокращения диапазона изменения размеров отверстий в маске, гофры выполнены с затухающей интенсивностью изменения огибающей линии волны от центра маски к ее периферии. 2. Маска по п. 1, о т л и ч а ющ а я с я тем, что гофры выполнены с затухающей амплитудой волны. 3. Маска по пп. 1 и 2, о т л ич а ю щ а я с я тем, что гофры выполнены с затухающей частотой волны. 1145942 Изобретение относится к телевизионной технике и-может быть использовано в цветных кинескопах, в которых используется теневая маска. Известны теневые маски для цвет- 5 ных кинескопов, содержащие множе- . ство отверстий. Сходящиеся электронные лучи проецируются через многоапер.турную теневую маску.на мозаичный экран. Пути прохождения лучей таковы, ° что каждый ив них возбуждает только один вид цветоизлучающего люминофора . на экране. Теневая маска прикреплена к жесткой рамке, которая, в свою очередь, крепится к баллону кинескопа. Известные маски выполняются практически плоскими или по форме экрана . Однако такая маска имеет недоста-. точную самоудерживающую прочность 20 I или жесткость, Одним из способов обеспечения такой прочности или жесткости является помещение маски под механическое напряжение, Иетоды механического напряжения, связаны с нежелательными большими расходами на рамы. Наиболее близким к изобретению является теневая маска, содержащая множество отверстий и выполненная 30 с гофрами, параллельными одной из сторон маски 52 ). Однако правильная волнистая форма с преимущественно синусоидальным поперечным сечением может оказаться неоптимальным контуром. На" пример, в кинескопе, имеющем волнистую маску, зазор между двумя апертурами и ширина апертуры меняется в функции зазора между маской и экра- 40 нрм и относительного угла, образованного электронным лучем и маской. Требуемое изменение ширины аперту-. ры создает дбполнительные пробле мы травления апертур до получения маски, что усложняет технологию, изготовления или не позволяет получить высокого качества изображения. Поскольку требуемые колебания являются максимальными на краях маски, g0 необходимо или уменьшить колебания между маской.и экраном или уменьшить угол луч-маски на этих краях. Целью Изобретения являетея повышение качества изображения и упро- у щение технологии изготовления за счет сокращения диапазона изменения размеров отверстий в маске. Указанная цель достигается тем, что в теневой маске для цветного кинескопа, содержащей множество отверстий и выполненной с гофрами, параллельными одной из сторон маски, гофры выполнены с затухающей интенсивностью изменения огибающей линии волны от центра маски к ее периферии. Затухающими могут быть также или амплитуда, или частоты волны, На фиг. 1 схематически показан цветной кинескоп .с таневой маской, на фиг. 2 — 4 варианты выполнения гофрированной маски. Цветной кинескоп (фиг. 1) содержит вакуумированную стеклянную колбу 1 с прямоугольным плоским экраном 2, раструбом 3 и горловиной 4. Трехцветный люминесцентный экран закреплен:.на внутренней поверхности 5 панели экрана. Блок 6 электронных пушек, размещенный в горловине 4, содержит три электронные пушки: по одной на каждый из трех фосфоресцирующих слоев на экране 2. В колбе 1, рядом с экраном 2, расположена теневая маска 7 с прямоугольными отверстиями. Апертурная маска 7 имеет гофриро. ванную форму, искривленную вдоль горизонтальной оси, и большое количество удлиненных отверстий, расположенных параллельными вертикальными столбцами. Зазор между столбцами меняется в соответствии с размерами зазора между маской и экраном„ с тем чтобы фосфоресцирующие элементы на экране располагались равномерно относительно друг друга. Изобретение усовершенствует кон-, струкцию маски, имеющей гофрированную форму, путем обеспечения изменений амплитуды и/или частоты волны гофров. B варианте изобретения, представленном на фиг. 2, амплитуда волны в маске 7 уменьшается от центра маски к ее краю. Такую конфигурацию маски можно использовать в тех случаях, когда требования жесткости, предъявляемые к краям маски, меньше, чем в ее центре. Например, бока маски можно жестко удерживать с помощью прочной или гибкой, динамической жесткой рамки, тем самым снижая необходимость в амплитуде. гофриро45942 Составитель М. Цимбалов Редактор М. Недолуженко, Техред М.Кузьма Корректор: И. Эрдейи Заказ 1214/46 Тираж 679 ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5 Подписное Филиал ППП "Патент", r. Ужгород, ул. Проектная, 4 3 11 вания с целью получения статистической и динамической жесткости. Сглаживание формы волны маски около двух боковых краев снижает требования, предъявляемые к зазорам между апертурами и к ширине апертуры. Например, угол падения электронного луча к какому-либо участку волнистой маски, проходящему от луча, может быть очень узким. Из-за этого,. отверстия должны быть разделены еще большим зазором, но этот зазор в одних местах маски должен быть шире, чем в других, где он в большей степени перпендикулярен относительно луча. Из-за этих изменений допуски, которых следует придерживаться при фотографировании, необходимом при изготовлении маски, и допуски, необходимые для оборудования травлеЯ ния, становятся более жесткими. Сглаживание волнистой формы волны уменьшает колебания угла паДения луч-маски и, следовательно, уменьшает критичность допусков при фотолитографии и травлении. Аналогичных преимуществ можно также добиться при,затухании час1О тоты волны гофров от центра к краям маски (фиг. 3), в которой такое увеличение длины волны сглаживает волнистый контур маски также и у краев. Комбинированная форма волны показана на примере маски 7 на фиг.4 где за счет сокращения диапазона изменения требуемых размеров отверстий повышается технологичность ее конструкции и качество изображения через отверстия маски.
