Фотополимеризующаяся композиция для изготовления флексографских печатных форм

 

ФПТОПОЛИМЕРИЯУЮЩАЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФЛЕКСОГРАФСКИХ .ПЕЧАТНЫХ ФОРМ, включающая диенстирольный блок-сополимер, сшивающие агенты, термоингибитор- -метил-2,6ди-третбутилфенол , фотоинициатор и .растворитель, отлич.ающа я - с я тем, что, с целью уменьшения липкости фотополимеризующегося слоя до и после проявления, в качестве диенстирольного блок-сополимера композиция содержит соединение общей Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям для изготовления флексографских печатных форм и может быть использовано в полиграфической , промышленности. Пример. 17П г

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК

А1,SU„„> 4176 (Я)5 G 03 C 1/72

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К Д ВТОРСКОМ,Ф СВИДЕТЕЛЬСТБУ

4;03-8 55

0,009"0,021

0 101 0 2о5

Остальное

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

21) 3752517/04

22) 16.03.R4 (46) 23.04.92. Бюл: V 15 (72) В.В. Шибанов, А.Н. Кондратьев, Н.В, Новикова, Р.И. Мервинский, Е.ф. Миронова, Я.M. Розиноер, В.С. Глуховской, И.ф. Костяк и Р>,Т. Серант (53) 771.5 (088.") (56) Выложенная заявка ФРГ

Р ?623Р01, кл. С п3 F 7!02, 1977 ,(54)(57) ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮШАЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФЛЕКСОГРАФСКИХ

ПЕЧАТНЫХ ФОРМ, включающая диенстирольный блок-сополимер, сшивающие агенты, термоингибитор-4-метил-2,6ди-третбутилфенол, Фотоинициатор и растворитель, о т л и ч а ю щ а яс я тем, что, с целью уменьшения липкости Фотополимеризующегося слоя до и после проявления, в качестве диенстирольного блок-сополимера композиция содержит соединение общей

Изобретение относится к Фотополимеризующимся композициям для изготовления Флексографских печатных форм и может быть использовано в полиграфической промышленности.

Пример 1. 170 r (22,94 мас.1) ди винилстироль ного блок-с ополимера, содержащего 30 мас.:, стирольных блоков, характеристическая вязкость

- 0,8 дл/г, растворяют в 470 мл (700 г, 63,42 мас.:;) хлороформа при комнатной температуре в течение 3 ч с пос2 формулы I A —  — А, где А - полистирольный. блок (-СН -СН-С Н ); В— полибутадиеновый блок (-СН -СН =

= СН вЂ” СН ), содержащий 30 мас.ь стирола молекулярной массы 70000

120000, в качестве сшивающих аген-, тов — диметакриловый эфир этиленгликоля и монометакриловый эфир этилен" гликоля, в качестве Фотоинициаторадиметоксифенилацетофенон, в качестве растворителя — хлороформ при следующем соотношении компонентов, мас.Ф:Диенстирольный блок-сополимер

Формулы E 17 09-28,4R

Диметакриловый эфир этиленгликоля 4,50-,07

Монометакриловый эфир этиленгликоля

Термоингибитор

Фотоинициатор

Хлороформ ледующим нагреванием в термошкафу при 60 С в течение 5 ч. Раствор после нагревания тщательно перемешивают до полной гомогенизации и вводят сши" вающие агенты - 50 г (6,75 мас.3) диметакрилового эфира этиленгликоля и 50 г (6,75 мас. ) монометакрилового эфира этиленгликоля, термоингиби" тор - О,1 г (О 013 мас.4) 4-метил"

2,6-ди-трет-бутилфенола и фотоинициатор .- 1 0 г (0 135 мас.1) диметоксифенилацетофенона. Термоингибитор и

Компонент или показатель

Содержание, ----,. в примерах

Г мас.; 3

4 . 5 1 70

17,15

1)0

17,09

20С о ДВ

70.

22,94

22,94

Диенстиропьнчй блок"сополимер

63,42

73,77

63,42

56,97

Хлороформ

Монометакриловь!й эфир этиленгликоля

4,03

8,55

4 50

6,75

6,75

5,70

8,07

6,75

4,50

Диметакриловый а4ир зтипенгликоля

6,75

4-Метил -2,6-ди"третбутилфенол

0,1

0,013

0 2

0,020

0 1

0,009

О 1

0,013

1 О

О, 101

1 0

0,135

1 0. 0,135

2 О

0,2 5

1 5

О 135

Диметоксифенилацетофенон

Фотоинициатор растворяют в диметакриловом эфире этиленгликоля, Полученную композицию тщательно перемешивают в течение 30 мин, затем фильтруют через два слоя капронового полотна (72 линии на 1 см) . Отфильтрованную композицию оставляют для деаэрации при комнатной температуре в течение

24-36 ч. Светочувствительную пленку получают многократным поливом на барабан диаметром $0 см, Скорость вра" щения барабана (цилиндра) и высота поднятия фильеры определяются вязкостью композиции, После нанесения

7 слоев общей толщиной 1,4 мм (по мок рому) отлив прекращают. отлитую пленку досушивают на цилиндре в течение l? ч при комнатной температуре. Толщина высушенной светочувствительной пленки 700 30 мкм . Далее готовят об- . разцы фотополимеризующихся пластин размером 1004-1/0 мм. Для этого светочувствительную пленку обезжиривают ацетоном, а лавсановую подложку (пленка ПНЧ-?КТ, ТУ 6-08-1Р,-?7-77) толви ной 139120 мкм обезжиривают хлор .;1ормом, на лавсановую подложку наносят слой раствора в этилацетате уретанового каучука СКУ-Р (ТУ 38.

103.27-70), содержащего 10 мас.ч. полиизоцианата . После сушки при комнатной температуре до отсутствия липкости (органолептически) светочувствительный слой и лавсановую пленку дублируют между валками при температуре 60-70 С т давлении до

2 кгс/см2. Общая толщина готовой пластины 0,Р5-0,90 мм.

94176

Пример и ?-5. Готовят композиции составов, указанных в табл.1.

Поливают сушат и готовят образцы светочувствительных пластин, как в примере 1.

Для определения липкости Фотополимеризующегося слоя до экспонирования используют известную методику (ГОСТ 19007-73), но модифицируют ее применительно к исследуемым объектам. Вместо бумажных кружков используют отмытую от светочувствительного слоя фотооснову с желатиновым слоем, Липкость образцов пластин после проявления испытывают по стандартной методике. Для оценки репродукционно-графических характеристик

2р Форм фотополимеризующиеся пластины экспонируют лампами ЛУ 1-РО на расстоянии 60 мм через тест-негатив.

Время экспонирования 10 мин. Время проявления рельефа в смеси трихлорэтилен - бутанол (3:1) в форсуночной машине при давлении 3-4 кгс/см и температуре 30-3 С 2 мин. После сушки оценивают репродукционно-граФические характеристики. Результаты

ЗО испытаний представлены в табл.2.

Табличные данные показывают, что предложенная фотополимеризующая композиция позволяет изготавливать пластины и формы флексографской печати, которые не обладают уипкостью ни до экспонирования, ни после проявления, что устраняет операции дополнительной обработки (по сравнению с прототипом).. таблица1

1194176

Продолжение табл.1.

Комп он ем т и ли показатель г

Содержание, -----„, в примерах мас

1,20 О ° 70 0,90 0,85

0,80

Характеристическая вязкость блок-сополимера дл/г

Молекулярная масса блок-сополимера

90000

80000

85000

120000 70000

Т а б л и ц а 2

Толщина

Репродукционно-графические характеристики форм

Режим изготовления

Липкость, балл

Количество отливаемых сло"

Пример форм, мин светочувствительного форэкспонирование вымывапластины разреща- выделяшающая ющая способ- способсухого слоя мм ние ев ность

Ос, мкм ность

Рс, лин/см

0,70

12,0

3,0

100 75

70 2 1 EO

Составитель И. КУзнецова

Техред N.Èîðãåíòàë Корректор И. Эрдейи

Редактор T. Ыаргапова

Заказ 2310 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКИТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/S

Производственно †издательск комбинат "Патент", r.Ужгород, ул. Гагарина,1П1

2

Ц

Прототип

0,70

1,О

0,б5

0,70

10,0

12,0

10,0

10,0

20,0

2,0

2,5

2,0

2,0

2,5

РО

100 угол у ос нования, 100 65

100 60

120 65

E 20, 70

150 70

Твердость: по lopy А, ед.

5 5

5 5 б 5

6 5

5 5

8.

7

Фотополимеризующаяся композиция для изготовления флексографских печатных форм Фотополимеризующаяся композиция для изготовления флексографских печатных форм Фотополимеризующаяся композиция для изготовления флексографских печатных форм 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к светочувтствительным композициям для голографии и может быть использовано в химико-фотографической промышленности

Изобретение относится к фторполимеризующимся композициям для сухих пленочных фоторезистов водно-щелочного проявления, находящих применение для получения рисунка при изготовлении печатных плат в радиоэлектронной промышленности
Изобретение относится к фоточувствительным материалам на основе оксидов цинка и/или титана в связующем
Изобретение относится к термопроявляемым фотографическим материалам на основе водопроницаемых полимеров с добавками солей металлов и может быть использовано в системах записи оптической информации

Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции

Изобретение относится к способам получения фоточувствительных слоев сульфида свинца, которые применяют при изготовлении полупроводниковых приборов, чувствительных к инфракрасному излучению
Изобретение относится к фоторефрактивному полимерному материалу с высокой дифракционной эффективностью в ближней инфракрасной области электромагнитного спектра и может быть использовано в оптоэлектронных устройствах, в процессах записи динамических голограмм в реальном масштабе времени и других фотонных технологиях

Изобретение относится к составу для светочувствительного слоя фотоматериалов, которые могут быть использованы в системах записи информации, для получения изображения в фотографии и полиграфии

Изобретение относится к области изготовления пленочного фоторезиста и сеткотрафаретных экранов на его основе, используемых в производстве печатных плат, керамических корпусов интегральных схем, изделий полиграфической промышленности
Изобретение относится к нанотехнологии и направлено на создание нанокомпозиционных материалов с эффективно управляемыми оптическими свойствами, которые могут быть использованы в нелинейной оптике, информационной технике, при разработке средств оптической памяти и т.д
Наверх