Плазменный диод с магнитной изоляцией

 

(19)SU(11)1237055(13)A1(51)  МПК 6    H05H1/00(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 17.01.2013 - прекратил действиеПошлина:

(54) ПЛАЗМЕННЫЙ ДИОД С МАГНИТНОЙ ИЗОЛЯЦИЕЙ

Устройство относится к сильноточной электронике. Целью изобретения является увеличение величины электронного тока. На чертеже схематично изображен предлагаемый диод в разрезе. Он содержит анод 1, высоковольтный изолятор 2, катод 3, магнитоэлектрическую прокладку 4, кольцевой электрод 5, кольцевой углеродно-волокнистый электрод 6, соленоид 7. Диод работает следующим образом. На оси диода создается продольное магнитное поле соленоидом 7, на диод подается импульс ускоряющего напряжения. Это напряжение распределяется на емкостном делителе, образованном парами анод 1 - цилиндрический электрод 5 и цилиндрический углеродно-волокнистый электрод 6 - катод 3. По поверхности магнитодиэлектрика формируется скользящий разряд. Условием формирования разряда, из которого в дальнейшем формируется электронный пучок, является 15103 [B/см] 3,8103 [B/см] где - диэлектрическая проницаемость вакуума, = 8,86 х 10-12 (Ф/м); h - толщина магнитоэлектрической прокладки;
Ro - радиус катода;
R2 - радиус вакуумной камеры;
U - напряжение на диоде;
d - расстояние между электродами. При подборе Ro, R2, h, d, U, можно получить напряжение между концевыми электродами, достаточное для формирования катодной плазмы скользящего разряда. Выполнение одного из концевых электродов из углеродно-волокнистого материала обеспечивает равномерное распределение поверхностного разряда по магнитодиэлектрической прокладке и тем самым увеличение поверхности эмиссии.


Формула изобретения

ПЛАЗМЕННЫЙ ДИОД С МАГНИТНОЙ ИЗОЛЯЦИЕЙ, содержащий коаксиально расположенные анод, катод с магнитодиэлектрической прокладкой, разделенные высоковольтным изолятором, и соленоид, установленный коаксиально электродам, отличающийся тем, что, с целью увеличения тока пучка электронов, в него введены два кольцевых электрода, установленных с двух сторон на магнитодиэлектрической прокладке, при этом один из электродов выполнен из углеродноволокнистого материала и соединен с торцом катода, а толщина h и диэлектрическая проницаемость магнитодиэлектрической прокладки связаны с радиусом катода R0 и радиусом анода Rr соотношением

где - диэлектрическая проницаемость вакуума,
= 8,861012(Ф/м);
h - толщина магнитоэлектрической прокладки;
R0 - радиус катода;
R - радиус вакуумной камеры;
U - напряжение на диоде;
d - расстояние между электродами.

РИСУНКИ

Рисунок 1



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к плазменным ускорителям и может быть использовано при разработке устройств для получения плазменных потоков в различных областях техники

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам для ускорения заряженных частиц, и может быть использовано, в первую очередь, для обработки высокоэнергетическими плазменными потоками металлических поверхностей с целью повышения таких их характеристик как чистота поверхности, микротвердость, износостойкость, коррозионная стойкость, жаростойкость, усталостная прочность и др

Изобретение относится к системам тепловой защиты из огнеупорного композитного материала, которые охлаждаются потоком жидкости, и более точно касается конструкции тепловой защиты для отражателя камеры удерживания плазмы в установке термоядерного синтеза, охлаждающего элемента, который использован в конструкции тепловой защиты, и способа изготовления такого охлаждающего элемента

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для получения электрической энергии путем преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую

Изобретение относится к области технологии очистки и обезвреживания отходящих газов, газовых выбросов различных производств и процессов, а также плазмохимического синтеза химически активных соединений с использованием электрических методов, в частности к устройству газоразрядных камер, в которых производят процесс детоксикации и очистки
Наверх