Источник ионов

 

ИСТОЧНИК ИОНОВ с продольным магнитным полем, содержащий разрядную камеру с установленными в ней катодом, анодом, тиглем и паропроводом, выход которого расположен вблизи катода, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности, на выходе паропровода установлена пластина из теплопроводящего тугоплавкого материала, электрически соединенная с катодом.

Изобретение относится к ионно-плазменной технологии и может быть использовано при разработке источников ионов. Целью изобретения является повышение надежности источника ионов. На чертеже приведен разрез источника ионов. Источник содержит корпус 1 с рубашкой охлаждения, разрядную камеру 2 с диафрагмой 3, вытягивающий электрод 4 и магнит 5, создающий в камере продольное магнитное поле. Внутри разрядной камеры 2 смонтированы анод 6, катод 7 и тигель 8 с паропроводом 9. На конец паропровода 9 в тепловом контакте с ним насажена пластина 10 из тугоплавкого материала, которая перпендикулярна магнитному полю и электрически соединена с катодом через токоподвод 11. Площадь пластины 10 соизмерима с площадью поверхности катода 7. Паропровод 9 выполнен с теплопроводностью, обеспечивающей передачу от пластины 10 заданного количества тепла, необходимого для испарения вещества, загруженного в тигель 8. Источник работает следующим образом. При подаче напряжения между анодом 6 и катодом 7 и включении источника питания катода при наличии магнитного поля от магнита 5 и остаточных газов в разрядной камере 2 между анодом и катодом возникает разряд. При необходимости для получения разряда в разрядную камеру напускают газ. В процессе разряда пластина 10 разогревается за счет бомбардировки ее положительными ионами, а также за счет поглощения ею энергии излучения катода 7. Часть тепла от пластины 10 по паропроводу 9 передается к тиглю 8, который нагревается, нагревая и загруженное вещество. Пары вещества по паропроводу 9 поступают непосредственно в область ионизации, а стабильность температуры пластины 10 в процессе работы, а следовательно, и тигля обеспечивается системой стабилизации дугового разряда. Этим достигается устойчивая работа источника и высокий коэффициент использования вещества. Источник позволяет обеспечить нагрев тигля до 1600оС. Для обеспечения работы в оптимальных режимах целесообразно изготавливать тигли с паропроводом для получения температур в более узких интервалах. Надежность источника повышается, так как исключаются элементы наименее надежные: высокотемпературные паропроводы при внешнем расположении тигля или нагреватели, работающие в плазме дугового разряда при внутреннем расположении тигля.

Формула изобретения

ИСТОЧНИК ИОНОВ с продольным магнитным полем, содержащий разрядную камеру с установленными в ней катодом, анодом, тиглем и паропроводом, выход которого расположен вблизи катода, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности, на выходе паропровода установлена пластина из теплопроводящего тугоплавкого материала, электрически соединенная с катодом.

РИСУНКИ

Рисунок 1

MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Номер и год публикации бюллетеня: 36-2000

Извещение опубликовано: 27.12.2000        




 

Похожие патенты:

Изобретение относится к устройствам для получения нейтрализованных пучков ионов различных газов, включая химически активные, и может быть использовано для различных технологических операций в вакууме

Изобретение относится к устройствам для получения ионных пучков с большим поперечным сечением и может быть использовано для различных технологических операций на базе ионно-лучевой обработки материалов в вакууме

Изобретение относится к устройствам для получения ионных пучков и может быть использовано для получения тонких пленок различных материалов, для ионного и ионно-химического травления и очистки поверхностей

Изобретение относится к вакуумно-плазменной технике, к источникам пучков большого поперечного сечения ионов и/или быстрых нейтральных молекул инертных и химически активных газов, а именно к плазменным эмиттерам ионов с большой эмиссионной поверхностью

Изобретение относится к технике получения плазмы и генерации интенсивных ионных пучков с большим поперечным сечением

Изобретение относится к технике получения плазмы и генерации ионных пучков с большим поперечным сечением

Изобретение относится к технике получения ионных пучков, в частности пучков многозарядных, высокозарядных и поляризованных ионов

Изобретение относится к технике получения плазмы и генерации ионных пучков с большим током

Изобретение относится к технике получения плазмы и генерации широких ионных пучков с большим током

Изобретение относится к ускорительной технике

Изобретение относится к газоразрядной технике и может быть использовано для получения тлеющего разряда (ТР) для различных целей, например для возбуждения активных сред газовых лазеров, для спектроскопии газов и их смесей для химического анализа, для создания плазмохимических реакторов и установок плазменного травления микросхем и др
Наверх