Способ получения лака

 

Класс 22h, 3

X 136498 ссср

ОПИСАНИЕ ИЗОЬ КтКНИя

К АВторСКОму СвИДКтКЛЬСтВУ

Подпискпч срут?пи . 1 10(>

Б. М. Гугель и И. Е. Малицкая

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ЛАКА

Заявлено 23 декабря 1!)5!) г. аа !>в (>48!72> 21 в К»т>итст ио дела» иаоврсте>?ий и открытий ири Говетс . (Itt!Itteтров (.(.СР

О?>уг>л>?коваио в <;1»юл teTette иеи t>f>eTettt>it» Xe 5 аа 1П61 г.

Процесс изготовления экрана современного кинескопа состоит в нанесении известным способом люмино(1>орногo покрытия на дно стеклянной колбы будущего кинескопа, покрытии люминофорного слоя Орга.t>Iческой пленкой и напылении извсст ?ым способом на органическую пленку алюминиевого слоя. отражающего свет vIO»;!!Ice!!CII?!»II алюминиевого слоя.

Наиболсс слои(ным процессом является изготовление органической пленки. Сложность этого процесса заключастся в том, что для полу leния хорошо отражающего алюминиевого зеркала необходимо, чтобы органическая пленка представляла собой достаточно туго натянуту>о

?(?ембрапу, и это обеспечивают путем lllillccplll: плспкп е 1111 люминофорное покрытие, а на слой воды.

Известно несколько методов нанесения органической пленки на 110верхность люминофора; при этом общим для всех методов служит io. что для образования пленки используют яв,?снис растекания лака 110 поверхности воды. При применении в качестве плснкообразуюшсго, ?13пример, раствора полибутилметакрилата в толуоле на границе разд(ла вода —, i II(твердая пленка полимера нс образуется, olla образус?ся толы(0 ?IpII удя 1ении To,i> 0, IB из лака и?ри помощи с > шl и и?>и хl;1,1 >1 процессе образования пленки; как только коэффицис?г(растска?ия толуола в воде становится отрицательным. толуол вместе с растворснны.? в нем полимером начинает собираться в линзы. оставляя прп этом Ог >ленные участки воды, Обычно удаление растворителя из лака при фор?(?ировании пленки идет достаточно быстро и вязкость растекшсгося лака увеличивается настолько, что лпизообразованпс происходит llciiол:?остьio или дяжс с:Тва начинается. Пол> чя?ОЩ(lяся при этом 011 г(1?111чсс?(1?я пленка в лмчц!см сл > час cocToIIT из мно?ксстза х!с,!кl?\ 00,? t. с и, 10тнlзlх точек (соответствующих началу с!Инзообразовацпя), раз 1сл II ll>lx мспсс плотными областями. Если лпнзообразованпс проходит в бол?п?сй? мсрс, то Iia люминофорном i?01

Предмет изооретения

Способ получения лака на основе полимеров и сополимеров производных метакри IQBoH кислоты, отл ич а ю щи и с я тем, что, с целью применения Нх для изготовления люминофорных экранов кинескопов, в состав лака вводят добавки смолы, способной и(елатинировап.ся в присутствии воды.

Техред А. А. Камышникова.

Корректор О. Филиппова.

Редактор Н. И. Мосин.

Объем 0,17 уел. п, л.

Цена 3 коп.

Формат бум. 70 ><, 108 /,в.

Тираж 900

Ц1>ТИ при Комитете по делам изобретений и открытий прп Совете Министров СССР

Москва, Центр, М. Черкасский пер., д. 2, 6

Поди. к пеи. 16.III-61 г .">ак. 576 59

Типографии, пр. Сапунова, 2.

Ж 13бАЯ

1нфн \ панской,настин непраниАног1 кгпггригпрасии н форме гг его иск оап, если линзообразот1а%с прохфит сгце глубже, то пленка образуется лишь на отд,gglg+ cTKax и при алюминировании получается характ С Р и Ы Й В ИД О Р а К 3, TQ К Н а ЗаЫ В 3 С М 3 и << К Р УЖ Е В Н 3 и >> П Л Е Н К 3, П 0 Э ТО М 1 В C, 1 к<час применения метакрилового лака брак по качеству плеш(и достаточII0 l;hlCOK Il 3EIB

Предлагаемый способ получения лаков на основе полимеров и сополимсров производных метакриловой кислоты состоит в том, что, с целью применения их для изготовления люминофорных экранов кинескопов, в состав IBKB BB03ÿò добавки смолы, способной желатинироватьсrI в присутствии воды.

Этой способностью в присутствии следов воды обладают растворы полиакрилатов и некоторых полимстакрилатов в ароматических углеводородах, например полициклогсксилметакри raTa в толуолс. Необходимо учитывать, что эти вещества оказывают положительное влияние на ход плснкообразования только при введении их в качестве дооавок к относительно значительным количествам не высаливающихся и не желатинизирующихся смол, например к полибутилметакрилату.

П р и м с р. Состав и способ изготовления лака-пленкообразователя, предназначенного для нанесения органических пленок на люминофорных экранах кинескопов.

В 1000 лл безводного толуо73 растворяют при персмсшивании

100 г полибутилгметакрилата с мол. весом.- 150000, предварительно отмытого известным способом от мономсра и других поверхностно-активнь(х всшсств. После отстаивашгя в течение 10 — 24 час раствор фильтруют через шелковое сито. Параллельно растворяют при персмешивании в 100 ял безводного толуола 10 г сополимсра полициклогсксилметакрилата и полимстилмстакрилата. Раствор после суточного отстаивания фильтруют через шелковое cltl0 . Оба профильтрованнь|х раствора citeшиваlOT и добавляют к смеси 16 г дибутилфталата и !000 лл то,1уола.

Полученный лак-пленкообразоватсль используют для получения органических пленок на экранах кинескопов или других электронно-лучевых тpi Оок.

Качество получаемых изделий 3!Ia÷èòeëüíî выше, чем при всех обычных лаках-пленкообразователях, и брак связан только с ошибками в р а боте.

Способ получения лака Способ получения лака 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к качественному и количественному составу композиционных материалов для совмещения резиновой крошки, которую получают измельчением отходов резины, с прочими ингредиентами таких резиновых смесей, которые предназначены для формования новых резинотехнических изделий

Изобретение относится к области твердотельных ионных проводников, а именно к полимерным электролитам
Изобретение относится к области композиционных полимерных материалов биомедицинского назначения, содержащих полимерное связующее, биосовместимый наполнитель и углеродный армирующий наполнитель
Изобретение относится к текстильной промышленности, в частности к получению нетканых материалов, обладающих сорбционной способностью, и может быть использовано при производстве фильтров различной модификации для очистки жидких сред
Изобретение относится к термоотверждаемой герметизирующей композиции, используемой для ремонта паропроводов

Изобретение относится к области производства интегральных микросхем и других электронных устройств, использующих планарную технологию их изготовления, основанную на фотолитографических процессах
Наверх