Устройство для выращивания профилированных кристаллов из раствора

 

Изобретение относится к выращиванию кристаллов из растворов для лазерной техники. Целью изобретения является повышение производительности устройства и качества кристалла. Повышение скорости роста кристалла и его качества обеспечивается формированием тонкого и однородного диффузионного слоя питающего раствора, который подается через щелевидное сопло, периодически перемещающееся вдоль растущей грани кристалла. Расстояние между растущей гранью кристалла и соплом поддерживают постоянным. Устройство содержит герметичный кристаллизатор с раствором, внутри которого установлены с возможностью вертикального перемещения камера роста с затравочным кристаллом и с возможностью вращения или качания погружной насос, выходные сопла которого направлены на растущую грань кристалла. Устройство снабжено следящей системой за расстоянием между растущей гранью кристалла и соплом, а также системой аварийного отключения устройства при образовании паразитных микрокристаллов в объеме раствора. Выращен кристалл ДКДР размером 150х150х83 мм с ориентацией оптической оси 45o к растущей грани. Скорость роста составила 0,6 мм/ч. Зона регенерации в кристалле занимала по высоте участок толщиной менее 0,1 мм, величина неоднородностей показателя преломления не превышала 10-6, а оптическая стойкость для излучения с длиной волны 1,06 мкм была не хуже 3 ГВт/см2. 4 з.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к выращиванию кристаллов из раствора и может быть использовано для получения высококачественных монокристаллов, например КДР, ДКДР, заданной формы, близкой к форме требуемого оптического элемента для лазерной техники. Целью изобретения является повышение производительности устройства и качества кристалла. На фиг. 1 изображено устройство со схемой электрических связей, продольный разрез; на фиг. 2 устройство для получения кристаллов прямоугольной формы, продольный разрез; на фиг.3 то же, для получения кристаллов круглой формы, продольный разрез. Устройство содержит (см.фиг.1) герметичный кристаллизатор 1 с крышкой 2, заполненный раствором. Внутри кристаллизатора 1 установлена камера роста 3 с затравочным кристаллом 4 и погружной насос 5, имеющий одно или несколько сопел 6, выходное отверстие которых выполнено в виде щели. Насос 5 жестко связан с приводом 7, установленным на крышке 2. На крышке 2 установлен механизм 8 перемещения насоса 5 с приводом 9. Камера роста 3 снабжена механизмом 10 вертикального перемещения с приводом 11. Для управления температурным режимом кристаллизатора 1 служат контактный термометр 12 и нагреватель 13. На боковой стенке кристаллизатора 1 размещен фотоэлектрический датчик 14 роста кристалла с источником света 15. Датчик 14 может быть использован для измерения прозрачности раствора. Датчик 14 (роста кристалла) электрически связан с приводом 11 механизма 10 вертикального перемещения камеры роста 3 через первый электрический компаратор 16, выход которого соединен узлом управления 17. Датчик 14 прозрачности раствора электрически связан с нагревателем 13 (через контактный термометр 12) и приводами 7, 9 насоса 5 и механизма 8 его перемещения через второй электрический компаратор 18, выход которого соединен с узлом переключения 19, блоком 20 аварийной сигнализации. Генераторы опорных сигналов I1 и I2 электрически компараторов 16 и 18 на чертеже не показаны. Для получения кристаллов прямоугольной формы (см.фиг.2) камера роста 3 выполнена прямоугольного сечения, а насос 5 установлен с возможностью качания в вертикальной плоскости параллельной, одной из сторон камеры роста 3. Привод 7, жестко связанный с насосом 5, снабжен цапфами 21, установленными на крышке 2. Герметичность кристаллизатора 1 обеспечивается мембраной 22. Механизм 8 перемещения насоса 5 выполнен в виде кривошипно-шатунного (кулачково-эксцентрикового) механизма. Погружной насос 5 снабжен двумя соплами 6, длина щели которых равна стороне камеры роста 3, перпендикулярной плоскости качания насоса. Для получения кристаллов круглого сечения (см.фиг.3) камера роста 3 выполнена в форме цилиндрического стакана, а насос 5 установлен соосно с ним с возможностью вращения. Длина щели сопла 6 равна диаметру стакана 3. Герметичность кристаллизатора 1 обеспечивается сальником 23, размещенным на крышке 2. Работа устройства основана на том, что получение большой скорости роста кристалла при высоком качестве обеспечивается формированием достаточно тонкого и однородного диффузионного слоя питающего раствора над растущей гранью кристалла. Это достигается при подаче питающего раствора через щелевидное сопло, периодически перемещающееся вдоль растущей грани кристалла в направлении, перпендикулярном щели сопла. Расстояние между растущей гранью кристалла и соплом должно поддерживаться постоянным в процессе роста. В камеру роста 3 помещают затравочный кристалл 4 необходимой формы и ориентации, размещают камеру 3 в кристаллизаторе 1 и заполняют его раствором. Устанавливают камеру 3 по высоте, обеспечивая определенное расстояние от растущей грани кристалла 4 до выходного среза сопла 6. Одновременно регулируют сигнал датчика 14 от источника света 15 по верхней грани кристалла 4. Включают нагреватель 13 и с помощью термометра 12 устанавливают необходимую температуру раствора, создавая условия пересыщения. Включают привод 7 насоса 5, который подает раствор через сопло 6 на верхнюю грань кристалла 4. Одновременно включают привод 9 механизма 8 перемещения насоса 5. При выращивании кристалла прямоугольной формы (фиг.2) насос 5 (сопло 6) качается, при выращивании кристалла круглого сечения (фиг.3) насос 5 (сопло 6) вращается. По мере роста кристалла 4 уровень сигнала датчика 14 роста кристалла становится больше уровня опорного сигнала 1, соответствующего заданному расстоянию между растущей гранью кристалла 4 и соплом 6, первый электрический компаратор 16 вырабатывает сигнал, включающий через узел управления 17 привод 11 механизма 10 перемещения камеры роста 3. Камера 3 с кристаллом 4 опускается до тех пор, пока уровни сигналов не сравняются. Таким образом постоянно поддерживается заданное расстояние между гранью кристалла 4 и выходного среза сопла 6. При возникновении массовой кристаллизации в растворе необходимо переключить режимы работы нагревателя 13 и отключить приводы 7 и 9. Это достигается следующим образом. При возникновении в объеме раствора паразитных микрокристаллов проходящий через раствор свет вследствие рассеяния на микрокристаллах ослабляется, при этом уменьшается уровень сигнала датчика 14. Когда уровень сигнала датчика становится меньше уровня второго опорного сигнала I2 (I2 < I1), то второй электрический компаратор 18 вырабатывает сигнал, включающий узел переключения 19. Узел переключения 19 отключает привод 7 насоса 5, привод 9 механизма 8 перемещения и переключает нагреватель 13 на аварийный режим, вследствие чего меняются температурные условия в кристаллизаторе 1. При этом также включается блок 20 аварийной сигнализации. После достижения кристаллом 4 заданного размера устройство выключают и извлекают кристалл из камеры роста. В установке, выполненной согласно изобретению, выращен из водного раствора кристалл ДКДР с размерами поперечного сечения 150х150 мм с ориентацией оптической оси 45o по отношению к растущей грани. Кристалл рос со скоростью 0,6 мм/ч из затравки в виде пластины с размерами 150х150х8 мм. Выращенный кристалл имел вид правильного прямоугольного параллелепипеда с размерами 150х150х83 мм, т.е. форму готового элемента преобразователя частоты излучения. Длительность цикла выращивания составила 7 дней. Зона регенерации в этом кристалле занимала по высоте участок толщиной менее 0,1 мм. Проверка показала, что величина неоднородностей показателя преломления выращенного кристалла не превышала 10-6, а оптическая стойкость для излучения с длиной волны была не хуже 3 ГВт/см2. Эти характеристики позволяют применять изготовленный кристалл в качестве оптического элемента в лазерных системах. Техническими преимуществами разработанного устройства по сравнению с базовым объектом являются выращивание кристалла с одной гранью и обеспечение эффективного (т. е. достаточного для высокой скорости роста) и однородного питания вдоль всей растущей поверхности в течение всего цикла выращивания кристалла. Эти технические преимущества в разработанном устройстве обеспечиваются за счет нового принципа подачи питающего раствора, положенного в основу предлагаемой конструкции. Указанные технические преимущества позволяют повысить качество кристаллов при скоростном выращивании, резко сократить сроки выращивания кристаллов с размерами, достаточными для изготовления оптических элементов, и сократить отходы при изготовлении элементов. Кроме того, эти преимущества позволяют уменьшить объемы кристаллизаторов.

Формула изобретения

1. Устройство для выращивания профилированных кристаллов из раствора, содержащее герметичный кристаллизатор с крышкой, установленную внутри него камеру роста с затравочным кристаллом, погружной насос, имеющий выходное сопло, направленное на растущий кристалл, и жестко связанный с приводом, установленным на крышке, и нагреватель, отличающееся тем, что, с целью повышения производительности, устройства и качества кристалла, устройство снабжено механизмами перемещения насоса и вертикального перемещения камеры роста, соединенными с индуктивными приводами, размещенными на крышке, датчиком роста кристалла, электрически связанным с приводом перемещения камеры, а выходное отверстие сопла выполнено в виде щели. 2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что, с целью получения кристалла прямоугольной формы, камера роста выполнена прямоугольного сечения, насос установлен с возможностью качания в вертикальной плоскости, параллельной одной из сторон камеры, а длина щели сопла равна стороне камеры, перпендикулярной плоскости качания насоса. 3. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что, с целью получения кристалла круглого сечения, камера роста выполнена в форме цилиндрического стакана, насоса установлен соосно с ним с возможностью вращения, а длина щели сопла равна диаметру стакана. 4. Устройство по пп. 1 и 2, отличающееся тем, что, с целью повышения качества кристаллов большого размера, насос снабжен дополнительными соплами. 5. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что, с целью повышения надежности работы устройства, оно снабжено датчиком прозрачности раствора, электрически связанным с нагревателем и приводами насоса и механизма его перемещения.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3

MM4A - Досрочное прекращение действия патента СССР или патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Дата прекращения действия патента: 05.11.2003

Извещение опубликовано: 10.07.2008        БИ: 19/2008




 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии выращивания кристаллов и может быть использовано в электронной технике

Изобретение относится к технологии получения монокристаллов соединений со структурой эвлитина, в частности монокристаллов ортогерманата висмута Bi4Ge3O12, которые широко используются в качестве сцинтилляционных детекторов гамма-излучения, электронов, мезонов и других элементарных частиц в ядерной физике, гамма-астрономии, космических исследованиях, геофизике (гамма-каротаж скважин при разведке месторождений полезных ископаемых), в ядерной медицине (рентгеновская и позитронная компьютерная томография)

Изобретение относится к гидротермальному способу получения монокристаллов твердых растворов на основе сегнетоэлектрического соединения ортотанталата сурьмы Sb(SbxTa1-x)O4 (x=0,25 моль) и может быть использовано в пироэлектрической, пьезоэлектрической области, а также в химической технологии для создания родственных композиционных материалов

Изобретение относится к гидротермальному способу получения монокристаллов твердых растворов (Sb1-xBix)NbO4 (x = 0,4 моль) и может быть использовано в пьезоэлектрической, пироэлектрической области, а также в химической технологии для создания композиционных материалов различного назначения

Изобретение относится к скоростному выращиваниюнию водорастворимых кристаллов, например, типа KH2PO4 (КДР)

Изобретение относится к кристаллогидрату полисиликата натрия и способу его получения, который может быть использован в качестве гелеобразующего компонента, например, при изготовлении теплоизоляционных материалов, при создании высококачественных минеральных уплотнительных слоев из связанных грунтов, в нефтедобывающей промышленности при гидроизоляции

Изобретение относится к области выращивания монокристаллов, в частности к способам получения синтетических монокристаллов кварца гидротермальным методом на затравку

Изобретение относится к способам получения кристаллических люминофоров

Изобретение относится к области кристаллографии и может быть использовано для выращивания монокристаллов и сростков кристаллов в домашних условиях для декоративных целей

Изобретение относится к выращиванию кристаллов из водных растворов и может быть использовано для скоростного выращивания монокристаллов заданной формы и кристаллографической ориентации, например, кристаллов группы КДР
Наверх