Устройство для литья под давлением керамических изделий

 

Изобретение относится к литейному производству и может быть использовано при литье керамических изделий , например корпусов интегральных схем. Целью изобретения является повышение качества изделий. При подаче сжатого газа от распределительного устройства в полость 17 насоса-дозатора 6 и полость 24 стабилизирующего насоса 5 происходит вытеснение дозы теплоносителя в полость 11, которая через диафрагму 9 вытесняет расплав из полости 10 в пресс-форму 3. После затвердевания керамики снимают давление сжатого газа и раскрывают пресс-форму 3, при этом происходит разгерметизация полости 10 и стабилизирующий насос 5 отсасывает из полости 11 дозу теплоносителя,которая гарантирует опускание уровня расплава в питателе 2 ниже плоскости смыкания пресс-формы 3. Циклическая подача теплоносителя из резервуара 4 насосом-дозатором 6 в полость 11 обеспечивает постоянство уровня расплава в питателе. Изобретение позволяет исключить контакт расплава с газовой средой и избежать выплески расплава из питателя. 1 ил. ш (Л

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (51) 4 В 22 D 18/04

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ОлтраслреУелиляльюож уСлртай л А

У

11

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 4057105/23-02 (22) 16.04.86 (46) 15,01.88.Бюл. Р 2 (72) И.Т.Бодиловский, Л.В.Сытько и Я.M.Èçðàèëåâ (53) 621 ° 746.043 (088.8) (56) Марков О.С. Производство корпусов полупроводниковых приборов. M.:

Высшая школа, 1985, с,93-94,,(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛИТЬЯ ПОД ДАВЛЕ НИЕМ КЕРАМИЧЕСКИХ ИЗДЕЛИЙ (57 ) Изобретение относится к литейному производству и может быть использовано при литье керамических изделий, например корпусов интегральных схем. Целью изобретения является повышение качества иэделий. При подаче сжатого газа от распределительного устройства в полость 17 насоса-дозатора 6 и полость 24 стабилизирующе„„Я0„„1366286 А1

ro насоса 5 происходит вытеснение дозы теплоносителя в полость 11, которая через диафрагму 9 вытесняет расплав из полости 10 в пресс-форму

3. После затвердевания керамики снимают давление сжатого газа и раскрывают пресс-форму 3, при этом происходит разгерметизация полости 10 и стабилизирующий насос 5 отсасывает из полости 11 дозу теплоносителя,которая гарантирует опускание уровня расплава в питателе 2 ниже плоскости смыкания пресс-формы 3. Циклическая подача теплоносителя из резервуара

4 насосом-дозатором 6 в полость 11 обеспечивает постоянство уровня расплава в питателе. Изобретение позволя® ет исключить контакт расплава с газовой средой и избежать выплески расплава из питателя. 1 ил. С:

1366286

Изобретение относится к литейному производству и может быть исполь эовано при литье керамических изделий, например корпусов интегральных

5 схем.

Целью изобретения является повышение качества изделий.

На чертеже изображена схема предлагаемого устройства для литья кера- 10 мических изделий под давлением.

Устройство содержит рабочий бак с питателем 2 пресс-формы 3, установленный внутри резервуара 4 теплоносителя, стабилизирующий насос 5 и насос-дозатор 6, нагреватели питателя 7 и теплоносителя 8. Рабочий бак

1 разделен диафрагмой 9 на две полости 10 и 11 под расплав и под теплоноситель. Полость 11 соединена сис- 2р темой трубопроводов 12 с резервуаром

4 теплоносителя через насос-дозатор

6, подключенный к распределителю

I давления (не показ ан), и з аборный фильтр 13. 25

К полости 11 рабочего бака 1 подключены насос 14, регулятор 15 давления и параллельно насосу-дозатору

6 — стабилизирующий насос 5. Полость

10 под расплав имеет герметично за- 30 пираемую заливочную горловину 16.

Насос-дозатор содержит две полости: газовую 17 и под теплоноситель 18, отделенные диафрагмами 19 и 20, взаимодействующий с ними подпружиненныи шток 21 и клапаны, нагнетающий 22 и всасывающий 23 ° Стабилизирующий насос 5 содержит газовую полость 24, отделенную диафрагмой 25, взаимодействующий с ней подпружиненный шток 40

26, перемещающийся в цилиндре 27, регулируемый упор 28.

Устройство работает следующим образ ом.

После смыкания пресс-формы 3 с пи- 45 татслем 2 сжатый гаэ от распределительного устройства поступает одновременно в газовую полость 17 насоса-дозатора 6 и в газовую полость

24 стабилизирующего насоса 5, созда- 80 вая в полостях 17 и 24 избыточное давление. Избыточное давление в полости 17 через диафрагму 19, подпру жиненный шток .21 и диафрагму 20,вытесняет из полости 18 через нагнетающий клапан 22 и трубопровода 12 дозу теплоносителя, соответствующую объему полости 18, в полость 11 -рабочего бака 1.

Одновременно избыточное давление, созданное в газовой полости 24 стабилизирующего насоса 5, действуя через диафрагму 25 на шток 26, соединенный с упором 28, выталкивает из цилиндра

27 в полость 11 дополнительную дозу теплоносителя, объем которой регулируется с помощью упора 28. Дозы несжимаемого теплоносителя, вытесненные из полости 18, объем которой определяет величину дозы, и цилиндра

27 создают в полости 11 рабочего бака 1 избыточное давление, которое через диафрагму 9 действует на расплав и вытесняет его из полости 10 через питатель 2 в пресс-форму 3.

После заполнения пресс-формы 3 давление в полости 11 рабочего бака

1 продолжает возрастать до тех пор, пока не сработает регулятор 15 давления и перепустит часть теплоносителя из полости 11 в резервуар 4.

Затем снимают давление сжатого газа, при этой происходит заполнение полости 18 насоса-дозатора 6 дозой теплоносителя из резервуара 4 через заборный фильтр 13 и всасывающий клапан 23.

После снятия пресс-формы 3 происходит разгерметизация полости 10, и подпружиненный шток 26 стабилизирующего насоса 5, возвращаясь в исходное положение, отсасывает из полости 11 дозу теплоносителя, которая гарантирует опускание уровня расплава в питателе 2 ниже зеркала смыкания с пресс-формой 3, тем самым исключая попадание расплава на поверхность питателя 2. Величина этой дозы регулируется с помощью упора 28.

С каждым циклом объем теплоносителя в полости 11 увеличивается на величину рабочего объема пресс-формы

3 за счет циклической подачи теплоносителя из резервуара 4 в полость

11 рабочего бака 1, поэтому, несмотря на уменьшение объема расплава в полости 10, уровень его в питателе сохраняется. После использования всего расплава насос 14 откачивает теп- лоноситель из полости 11 в резервуар 4. Расплав заливают,в полость 10 через горловину 16 °

Таким образом, применение предлагаемого устройства для литья керамических иэделий под давлением позволяет исключить контакт расплава с газовой средой и появление выплесков

1366286

3 расплава на поверхности питателя, тем самым обеспечивая высокое качество изделий.

Составитель В.Майоров

Техред И.Попович

Корректор A.0áðó÷àð

Редактор Ю.Середа

Заказ 6730/11 Тираж 739 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д.4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г.Ужгород, ул.Проектная, 4

Формула изобретения

Устройство для литья под давлением керамических изделий, содержащее рабочий бак, установленный в резервуаре с теплоносителем, пресс-форму с питателем, нагреватели теплоносителя и систему трубопроводов, о тличающееся тем,что,с целью повышения качества иэделий, оно снабжено насосом-дозатором и

5 стабилизирующим насосом, а рабочий бак разделен диафрагмой на две полости, верхняя из которых соединена с питателем пресс-формы, а нижняя полость соединена со стабилизирующим насосом и через насос-дозатор и систему трубопроводов — с резервуаром с теплоносителем.