Способ определения подвижности неосновных носителей заряда

 

Изобретение относится к области полупроводниковой техники и может быть использовано для контроля подвижности неосновных носителей заряда в полупроводниковых материалах, используемых для изготовления полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Целью изобретения является упрощение и обеспечение определения подвижности в образцах большей толщины. На поверхности образца в виде полупроводниковой пластины изготавливают выпрямляющий контакт. Освещая поверхность образца со стороны выпрямляющего контакта, измеряют фототок при отсутствии и наличии магнитного поля, направленного перпендикулярно поверхности образца. По полученным значениям фототоков вычисляют значение подвижности неосновных носителей заряда, инжектированных освещением. Измерение фототока данным способом может производиться у образцов большей толщины, чем способами, основанными на измерении фотолюминесценции на противоположной освещаемой поверхности образца. Способ более прост, так как не требует изготовления образцов в виде тонких пластин. 1 ил.

Изобретение относится к области полупроводниковой техники и может быть использовано для контроля подвижности неосновных носителей заряда в полупроводниковых материалах, используемых для изготовления полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Цель изобретения упрощение и обеспечение определения подвижности в образцах большей толщины. На чертеже приведена схема устройства для реализации способа. Устройство содержит зеркало 1, магнит или электромагнит с полюсами 2, источник света 3, блок 4 измерения фототока. П р и м е р. Определена подвижность неосновных носителей заряда в кремниевой пластине n-типа с удельным сопротивлением 300 Омсм. Выпрямляющий контакт получают в виде р+-области на поверхности образца путем локальной диффузии. Омический контакт располагают с противоположной стороны полупроводниковой пластины, где имеется n+-слой. Образец помещают в зазор между полюсами 2 электромагнита постоянного тока, и при отсутствии магнитного поля измеряют напряжение Uф на нагрузочном сопротивлении (R=51 кОм), освещая образец монохроматическим светом длиной волны 0,55 мкм. Полученное таким путем значение напряжения составляло Uф=1,0273 мВ. Затем измеряют напряжение Uф при включенном электромагните, вектор индукции В которого (В=1,53 Т) перпендикулярен поверхности образца. Измеренное напряжение имело значение Uф= 1,0252 мВ. После этого определяют подвижность неосновных носителей заряда по формуле 1= 418

Формула изобретения

СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПОДВИЖНОСТИ НЕОСНОВНЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА, основанный на помещении полупроводникового образца в магнитное поле и инжекции неосновных носителей заряда путем освещения поверхности образца, отличающийся тем, что, с целью упрощения и обеспечения определения подвижности в образцах большей толщины, создают выпрямляющий контакт на поверхности образца, вектор индукции магнитного поля направляют перпендикулярно поверхности образца, измеряют значения фототоков при отсутствии, а также при наличии магнитного поля и вычисляют подвижность неосновных носителей заряда по формуле где B индукция магнитного поля; Iф фототоки через выпрямляющий контакт при отсутствии и Iфв при наличии магнитного полей соответственно.

РИСУНКИ

Рисунок 1

MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Номер и год публикации бюллетеня: 36-2000

Извещение опубликовано: 27.12.2000        




 

Похожие патенты:

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для определения емкости области пространственного заряда и диэлектрика в полупроводниковых структурах

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для контроля параметров полупроводниковых структур при их изготовлении, а также в процессе изготовления нолупроводниковых приборов на их основе

Изобретение относится к физическим методам исследования и может быть использовано для определения параметров ловушек в полупроводниковых материалах

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано в технологии изготовления полупроводниковых приборов

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для определения электронных характеристик границ раздела полупроводник-диэлектрик, определения подвижности носителей заряда в инверсионных каналах, для контроля качества изготовления полупроводниковых приборов на основе структур металлдиэлектрик-полупроводник

Изобретение относится к метрологии электрофизических параметров полупроводников и предназначено для экспрессной отбраковки полупроводниковых заготовокj используемых при изготовлении полупроводниковых приборов

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения геометрических размеров плоских изделий, и может быть использовано при измерении толщины плоских изделий из диэлектриков, полупроводников и металлов, в том числе полупроводниковых пластин, пластических пленок, листов и пластин

Изобретение относится к полупроводниковой технике и направлено на повышение точности измерения параметров эпитаксиальных слоев на изотипных проводящих подложках и применение стандартных образцов, изготовленных по технологии, обеспечивающей существенно более высокий процент выхода годных и более высокую механическую прочность

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для выявления и анализа структурных дефектов (ростовых и технологических микродефектов, частиц второй фазы, дислокаций, дефектов упаковки и др.) в кристаллах кремния на различных этапах изготовления дискретных приборов и интегральных схем

Изобретение относится к области силовой полупроводниковой техники и может быть использовано при изготовлении тиристоров и диодов
Изобретение относится к неразрушающим способам контроля степени однородности строения слоев пористого кремния

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения электрофизических параметров материалов, и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых материалов, в частности полупроводниковых пластин
Наверх