Устройство для электрохимического маркирования
Изобретение относится к электрофизическим и электрохимическим методам обработки и в частности касается устройств для электрохимического маркирования . Цель изобретения - повышение точности маркирования путем исключения влияния соседних, выключенных электродов на распределение тока в рабочей зоне, В полости 2 корпуса 1 со стороны отверстий 3 установлена фотопроводяшая пластина 4, Процесс маркирования выполняется путем освещения частей фотопроводящей пластины 4 излучением от световодов 7, Так как темновое сопротивление пластины 5 велико, ее неосвещенные участки не влияют на процесс маркиро в алия, 1 3,пIф-лы, 2 ил, а
СОаЗ С0ВЕТСКИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ
РЕСПУБЛИК
1191 (11) 15У 4 В 23 Н 9/06
qI C n pp (! ц (P1Т ;. т
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
Н А ВТОРИЧНОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ
ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ
ПРИ ГКНТ СССР (21) 4067855/31-08 (22) 16,05.86 (46) 30.01.89, Бюл, № 4 (71) Тульский политехнический институт (72) Н.Б; Балашев, И.Ю.Никольский и А ° М.Форостянко (53) 621,9,048,4,06(088,8) (56) Авторское свидетельство СССР
¹ 1315182, кл. В 23 Н 9/06, 1985, (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЭЛЕКТРОХИ1ЯЧЕСКО ГО МАРКИРОВАНИЯ (57) Изобретение относится к электрофизическим и электрохимическим методам обработки и в частности касается
Изобретение относится к электрофизическим и электрохимическим методам обработки в частности к устройствам для электрохимического маркирования, Цель изобретения — повышение точности маркирования путем исключения влияния соседних, выключенных электродов на распределение тока в рабочей зоне, На фиг. 1 представлена конструкция устройства с отдельными фотопроводящими пластинами; на фиг,2 - то же с общей пластиной, Устройство содержит диэлектрический корпус 1, в котором изготовлена полость 2 с отверстиями 3, при этом расположение отверстий 3 соответству. ет числу и расположению маркируежх знаков. устройств для электрохимического маркирования, Цель изобретения — повышение точности маркирования путем исключения влияния соседних, выключенных электродов на распределение тока в рабочей зоне. В полости 2 корпуса 1 со стороны отверстий 3 установлена фотопроводящая пластина 4, Нроцесс маркирования выполняется путем освещения частей фотопроводящей пластины 4 излучением от световодов
7. Так как темновое сопротивление пластины 5 велико, ее неосвещенные участки не влияют на процесс маркирования. 1 s,п,ф-лы, 2 ил, В полости 2 корпуса 1 со стороны отверстий 3 установлена фотопроводящая пластина 4, которая может быть выполнена в виде отдельных сегментов
5 (фиг. 1) либо в виде одной монолитной пластины (фиг. 2), Фотопроводящая пластина 4 закреплена с помощью токопроводного клея (например, ХС-928) или изготовлена фотолитографическими методами формирования топологии из соединений типа сульфида кадмия CdS, селенида кадмия
CdSe, халькогенида свинца PbS и др.
Кроме то го в поло сти 2 кор пуса 1 с противоположной стороны отверстий 3 расположена токопроводящая пластина
5, в которой соосно отверстиям 3 выполнены отверстия 6. Устройство оснащается источником направленного свето". вого излучения (не показан), светово3 14545, ды 7 которого вмонтированы в отверс". тия 6 токопроводящей пластины 5, Пластина 5 оснащается токоподводом 8, подключенным к Источнику технологическо5 го н апряжения (не по к аз ан ) .
Устройство работает следующим образом, Корпус 1 прикладывают к маркируемой поверхности, смоченной электроли-1р том, Источник технологического напряI жейия подключают к обрабатываемому изделию и к токопроводящей пластине
5 через токопровод 8. Технологическое напряжение может подаваться постоян- 15 но независимо от длительности процесо са маркирования, Процесс электрохимического маркирования начинается после освещения отдельных частей фотопроводящей плас- 2р тины излучением, поступающим через световоды 7.
Происходит поглощение излучения полупроводниковым веществом пластины
4, что увеличивает ее проводимость, 25
Может быть достигнуто значение про водимости, обеспечивающее прохождение тока плотностью до 0,3 — 1,0 AjMM достаточного для осуществления процесса маркирования, 30
Конструкция обеспечивает надежную защиту неработающих секций от рас"гравливания, являющегося основным не» остатком секционных электродных устойств, Сопротивление ппастины 4 в направеиии тока растравливания достигает б 8 начений порядка 10 -10 Ом, т, е, поупроводник в данном случае является актически диэлектриком, что уменьшаг 4р т растравливание до исключительно малой величины.
94
Повышение надежности работы происходит также потому, что в конструк" ции отсутствуют отдельные, изолированные электрически друг от друга токопроводящие элементы, которые в известных конструкциях нередко перемыкаются друг с другом из-за малых расстояний между ними.
Световоды 7 не требуют изоляции, так как не наблюдается взаимного проникновения света в соседние световоды 7 из-за полного отражения световых лучей от стенок, Таким образом, предлагаемая кон" струкция устройства для электрохимического маркирования обеспечивает увеличение его надежности и уменьшение износа от межсекционного растравливания.
Фор мул а и з о б р е т ения
Устройство для электрохимического маркирования, содержащее корпус и установленные в нем источник направленного светоизлучения, фотопроводящую пластину и токоподвод, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения точности обработки, токойодвод выполнен в виде пластины с отверстиями, соответствукицими рас" тру маркируемых знаков, и установлен на фотопроводящей пластине со стороны источника направленного излучения.
2. Устройство по п,1, о т л и ч аю щ е е с я тем, что источник направленного излучения оснащен светоподводами, торцы которых установлены в отверстиях токоподвода и-примыкают к фотопроводящей пластине.
1454594,Ф у
ФФ ф р
ЯФ ф
Составитель P,Ìåëüäåð
Техр ед М. Ходанич
Ведактор Т,Лазоренко
Корр ек т ор С. Ше кмар
Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4
Заказ 7388/17 Тирах 892 Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР
113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
