Способ определения однородности лавинного пробоя диодов с положительным температурным коэффициентом напряжения

 

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых приборов с лавинным пробоем, в частности для ограничительных диодов. Цель изобретения - устранение разрушения прибора в процессе измерений за счет обеспечения неразрушающего контроля однородности лавинного пробоя диодов и возможности диагностики диодов, лавинный пробой которых имеет однородный характер, а не совокупность невзаимодействующих микроплазм. Способ заключается в пропускании через диод последовательно двух одиночных прямоугольных импульсов обратного тока с разными амплитудами со средней плотностью тока в импульсе не меннее 20 A/см2 и длительностью импульсов в диапазоне (210-5-10-4)c. В конце каждого импульса измеряют напряжение на диоде. Определяют дифференциальное сопротивление диода и сравнивают его с рассчитанным дифференциальным сопротивлением единицы площади диода для случая протекания лавинного тока однородно по всей площади p-n-перехода.

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых приборов с лавинным пробоем, а именно для определения степени однородности лавинного пробоя силовых диодов с положительным температурным коэффициентом напряжения, в том числе ограничительных диодов. Цель изобретения - устранение разрушения прибора в процессе измерений контроля однородности лавинного пробоя диодов и возможности диагностики диодов, лавинный пробой которых имеет однородный характер, а не совокупность невзаимодействующих микроплазм. Способ заключается в том, что через диод пропускают последовательно два одиночных прямоугольных импульса обратного тока с разными амплитудами, со средней плотностью тока в каждом импульсе не менее 20 А/см2 и длительностью rи в пределах 2 10-5 с rи 10-4 с. В конце каждого импульса измеряют напряжение на диоде и по ним определяют дифференциальное сопротивление диода Rд. Полученную величину Rдсравнивают с расчетной величиной дифференциального сопротивления rдединицы площади диода, полученной из нормировочной зависимости дифференциального сопротивления диода от пробивного напряжения Uв, рассчитанной для случая однородного пробоя р-n-перехода. Степень однородности лавинного пробоя определяют по величине отношения , где S - площадь p-n-перехода диода. Использование прямоугольной формы импульсов обратного тока вызвано тем, что при прямоугольной форме импульсов тока вследствие роста температуры диода, величина напряжения на диоде растет монотонно и может быть рассчитана теоретически. Проведение измерения в конце импульсов тока вызвано тем, что темпера диода и величина напряжения на диоде в конце импульса максимальны и могут быть измерены с наибольшей точностью. Использование одиночныфх импульсов обусловлено тем, что в течение импульса область p-n-перехода нагревается и необходим некоторый интервал времени для остывания области p-n-перехода до исходной температуры. Установление нижнего предела длительностей импульсов обратного тока вызвано тем, что дифференциальное сопротивление диода в области лавинного пробоя Rд состоит из термической Rt и изотермической Riсоставляющих Rд= Rt + Ri, причем обе составляющие обратно пропорциональны площади, через которую течет ток лавинного пробоя. Величина Rt расчет с ростом пробивного напряжения Uв и с ростом длительности импульса тока и . Величина Ri не зависит от и , но зависит от многих конструктивных параметров: от толщины базы диода, от величины удельного сопротивления исходного материала, от распределения примесей в p-n-переходе и т. д. Вследствие зависимости величины Ri от многих параметров, которые точно не известны, эту величину легко оценить, но трудно рассчитать достаточно точно. В то же время при выбранной длительности импульса величина Rt зависит только от двух параметров: от площади, по которой течет ток лавинного пробоя и от величины Uв. Вследствие этого для повышения точности интерпретации экспериментальных данных следует выбрать режим измерений, в котором Rд Rt Ri, что соответствует экспериментально найденной длительности обратного тока и 2 10-5 с. Необходимость выбора верхнего предела величины и 10-4 с обусловлена тем, что при и > 10-4 с часть тепла, выделившегося в области p-n-перехода в течение импульса, передается в теплоотвод. Постоянная времени распространения тепла оценивается как , где w - толщина базовой области диода, - коэффициент температуропроводности (например, Si= 0,75 см2/с). Толщина базы диода не менее 100. . . 150 мкм, величина Хi < 120 мкм. Следовательно, при и < 10-4 с характеристика теплового контакта кремний-металл еще не влияет на распределение температуры в кремниевом диоде. Поскольку величина для арсенида галлия и карбида кремния меньше, чем для кремния, то для них это условие при и 10-4 с заведомо выполняется. Выбор плотности обратного тока по величине не менее 20 А/см2связан с тем, что при такой плотности тока участок обратной ВАХ линеен и дифференциальное сопротивление Rд постоянно. Величина rд рассчитана для единицы площади диода, у которого лавинный ток протекает однородно по всей площади p-n-перехода. Нормировочная зависимость дифференциального сопротивления единицы площади диода rд от пробивного напряжения Uв для разных и показана на чертеже. Величина rд получена из формулы rд Rt= , (1) где S = 1 см2, Тмакс - максимальное изменение температуры в структуре при протекании лавинного тока I (A), оС; - температурный коэффициент напряжения (ТКН) пробоя, оС-1; Uво - напряжение пробоя неразогретого p-n-перехода, В. Изменение температуры Т вследствие перегрева структуры при лавинном пробое обратносмещенного p-n-перехода найдено из модели распространения тепла в изотропном и однородном кремниевом диоде путем решения уравнения теплопроводности для одномерного случая. О степени однородности лавинного пробоя судят по величине отношения , где S - площадь p-n-перехода диода. В качестве примера приводится конкретная реализация способа при определении однородности лавинного пробоя кремниевого диода с глубиной залегания p-n-перехода 120 мкм и толщиной базовой области 120 мкм, с площадью p-n-перехода S = 0,6 см2 и пробивным напряжениям Uв = 49,5 В. Через диод, включенный в запертом направлении, пропускались одиночные прямоугольные импульсы обратного тока длительностью и = 60 мкс, что лежит в пределах 210-5 и 10-4 с. Источником прямоугольных импульсов служил разряд длинной линии на согласованную нагрузку. Амплитуда и форма импульса тока измерялись осциллографом С1-70 с дифференциальным входом, напряжение на диоде в конце импульса тока измерялось импульсным вольтметром В4-17, погрешность которого в диапазоне интересующих нас длительностей импульсов составляет около 1,5% . При токе I1 = 20 А (плотности тока 33 А/см2) напряжение на диоде в конце импульса составляло U1 = 49,9 В, при I2 = 40 А величина U2 = 50,3 В. Следовательно, величина Rд= = 0,02 Ом . Из нормировочной зависимости, приведенной для и = 60 мкс при Uв = 49,5 В, находим расчетную величину дифференциального сопротивления rд = 0,0078 Ом см2. Степень однородности составляет = = 0,65 , т. е. лавинный ток протекает по площади, составляющей 65% от площади p-n-перехода. Для проведения указанных измерений не требуется удалять металлизацию диода, измерения могут быть проведены как на диодных сборках, так и на диодах, заключенных в корпус. После проведенных измерений электрические характеристики диодов не изменяются. Следовательно, предложенный способ обеспечивает определение однородности лавинного пробоя p-n-перехода без разрушения диода. (56) Goetzberger F. , Mc Donald B. , Haitz R. H. and ath. Avalanche effects in silicon p-n junctions. - J. of. Appl. Ph. , 1963, v. 34, N 6, р. 1591-1600.

Формула изобретения

СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ОДНОРОДНОСТИ ЛАВИННОГО ПРОБОЯ ДИОДОВ С ПОЛОЖИТЕЛЬНЫМ ТЕМПЕРАТУРНЫМ КОЭФФИЦИЕНТОМ НАПРЯЖЕНИЯ, включающий пропускание через диод импульсов обратного тока, отличающийся тем, что, с целью устранения разрушения прибора в процессе измерений, на диод подают последовательно два одиночных прямоугольных импульса обратного тока равной длительности с различными амплитудами со средней плотностью тока в импульсе не менее 20 А/см2, измеряют напряжения на диоде в конце каждого импульса тока, определяют по ним дифференциальное сопротивление диода, при этом длительность импульсов обратного тока выбирают в пределах 210-6c и 10-4c , а степень однородности лавинного пробоя определяют по формуле = где Vд - дифференциальное сопротивление единицы площади диода, полученное из нормировочной зависимости Vд от напряжения пробоя диода, рассчитанной для случая протекания лавинного тока однородно по всей площада p-n-перехода; Rд - дифференциальное сопротивление диода, полученное экспериментально; S - площадь p-n-перехода диода.

РИСУНКИ

Рисунок 1

MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Номер и год публикации бюллетеня: 8-2000

Извещение опубликовано: 20.03.2000        




 

Похожие патенты:

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для измерения активной составляющей проводимости, емкости и добротности варикапов в параллельной схеме замещения, например, при технологическом контроле параметров полупроводниковых приборов и других как нелинейных, так и линейных объектов, а также в подсистемах технической диагностики радиотехнических элементов автоматизированных систем контроля различной радиоэлектронной аппаратуры

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для технологического контроля в широкой полосе частот полевых транзисторов непосредственно на пластине

Изобретение относится к электроизмерительной технике и предназначено для контроля транзисторов

Изобретение относится к области полупроводникового приборостроения и может быть использовано для измерения коэффициентов усиления высоковольтных транзисторов

Изобретение относится к области контрольно-измерительной техники и может найти применение в электронной технике для измерения напряжений на диэлектрике и полупроводнике, а также их временного изменения в МДПДМ-структурах

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)

Изобретение относится к электронике и при использовании позволяет повысить точность контроля заданной величины отрицательного дифференциального сопротивления за счет изменения соотношения глубины положительных и отрицательных обратных связей в элементе с регулируемыми напряжениями и токами включения и выключения

Изобретение относится к области электротехники и может быть использовано при конструировании и производстве тиристоров

Изобретение относится к радиационной испытательной технике и может быть использовано при проведении испытаний полупроводниковых приборов (ППП) и интегральных схем (ИС) на стойкость к воздействию импульсного ионизирующего излучения (ИИИ)

Изобретение относится к области измерения и контроля электрофизических параметров и может быть использовано для оценки качества технологического процесса при производстве твердотельных микросхем и приборов на основе МДП-структур

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения электрофизических параметров материалов, и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых материалов, в частности полупроводниковых пластин

Изобретение относится к электроизмерительной технике и может быть использовано для контроля полярности выводов светодиодов

Изобретение относится к области теплового неразрушающего контроля силовой электротехники, в частности тиристоров тиристорных преобразователей, и предназначено для своевременного выявления дефектных тиристоров, используемых в тиристорных преобразователях, без вывода изделия в целом в специальный контрольный режим
Наверх