Способ дозирования шликера в литейные формы и устройство для его осуществления

 

Изобретение относится к изготовлению изделий методом литья отдозированного Шликер шликера в литейные формы. Целью изобретения является повышение качества отливаемых изделий. Для достижения цели в предложенном способе дозирования шликера в литейные формы патрубок 2 подвода шликера устанавливают в положение заполнения формы, подают шликер в форму, определяют заранее заданный уровень заполнения шликером формы, при достижении которого прекращают подачу шликера. При этом до подачи шликера патрубок вводят в литейную форму и его конец устанавливают на расстоянии 30-60 мм от дна формы, а в процессе заполнения формы патрубок поднимают, при этом поддерживают расстояние между вводимым концом патрубка и поверхностью шликера.которое не превышает первоначальное расстояние между вводимым концом патрубка и дном (Л С Os ел о го о ел

союз соВетских социАлистических

РЕСПУБЛИК (51) 5 В 28 В 1/26

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

В! с

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Ыеил ер

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

1 (21) 4445353/33 (22) 21.06,88 (46) 30.06.91. Бюл. М 24 (71) Ленинградский фарфоровый завод им.

М.В.Ломоносова и Дулевский филиал Центральногопроектно-конструкторского и технологического бюро легкой npoMbILUJIBHHQGTPI

РСФСР (72) В,Я.Гуткин, В,И.Клундук, К.Ф,Кашкин и

С.А.Захаров (53) 666;3.022(088,8) (56) Патент ФРГ М 1584581, кл. 80а 54/19,1969. (54) СПОСОБ ДОЗИРОВАНИЯ ШЛИКЕРА В

ЛИТЕЙНЫЕ ФОРМЫ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ

ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ (57) Изобретение относится к изготовлению изделий методом литья отдозированного

5U„„1659205 А1 шликера в литейные формы. Целью изобретения является повышение качества отливаемых изделий. Для достижения цели в предложенном способе дозирования шликера в литейные формы патрубок 2 подвода шликера устанавливают в положение заполнения формы, подают шликер в форму, определяют заранее заданный уровень заполнения шликером формы, при достиже-. нии которого прекращают подачу шликера.

При этом до подачи шликера патрубок вводят в литейную форму и его конец устанавливают на расстоянии 30 — 60 мм от дна формы, а в процессе заполнения формы патрубок поднимают, при этом поддерживают расстояние между вводимым концом патрубка и поверхностью шликера, которое не превышает первоначальное расстояние между вводимым концом патрубка .и дном

1659205 формы. Для осуществления способа в устройстве для доэирования шликера патрубок

2 подвода шликера выполнен с возможностью введения в форму и фиксации его конца на заранее заданном расстоянии от основания 33 для форм. Устройство снабжено следящей системой, измерительным преИзобретение относится к изготовлению керамических иэделий методом литья отдозированного шликера в литейные формы, Цель изобретения — повышение качества отливаемых изделий, Согласно способу дозирования шликера в литейные формы патрубок подвода шликера устанавливают в положение заполнения формы, подают шликер в форму, определяют заранее заданный уровень заполнения шликером формы, при достижении которого прекращают подачу шликера, патрубок вводят в литейную форму и его конец устанавливают на расстоянии 30-60 мм от дна формы, подают шликер, в процессе заполнения формы патрубок поднимают, при этом поддерживают расстояние между вводимым концом патрубка и поверхностью шликера, не превышающим первоначального расстояния между вводимым концом патрубка и дном формы, Величина расстояния от свободного конца патрубка, вводимого в форму, до дна формы получена экспериментально путем многократного изменения расстояния между вводимым концом патрубка и дном формы.

Устройство для доэирования шликера в литейные формы, содержащее основание для форм, камеру с патрубком для подвода шликера, снабженным запорным клапаном, .средство для определения заранее заданного уровня заполнения формы, связанное с запорным клапаном патрубка, привод вертикального перемещения камеры с патрубком, в котором патрубок выполнен с возможностью его введения в форму и фиксация его конца на заранее заданном расстоянии от основания формы, снабжено следящей системой, измерительным преобразователем которой является средство определения расстояния между вводимым концом патрубка и поверхностью шликера,, подаваемого в форму, а исполнительным устройством является привод вертикального перемещения камеры с патрубком.

Средство определения расстояния между вводимым концом патрубка и поверобраэователем которой является средство определения расстояния между вводимым концом патрубка 2 и поверхностью шликера, выполненное в виде емкостного датчика

8, а исполнительным устройством является привод 16 вертикального перемещения камеры с патрубком. 2 с. и 2 з.п,ф-лы, 2 ил. хностью шликера, подаваемого в форму, выполнено в виде емкостного датчика. Емкостной датчик позволяет достаточно просто бесконтактным методом определять расстояние и исключить контакт вводимого конца патрубка с поверхностью шликера и тем самым обеспечить хорошее качество отливаемых изделий.

Средство для определения заранее заданного уровня заполнения формы закреплено по краям отверстия, соосного с патрубком подвода шликера, которое выполнено на лотке. закрепленном на устройстве с воэможностью установки его на форме.

Закрепление средства для определения. заранее заданного уровня заполнения формы на лотке, который фиксируется на форме и не опускается с вводимым концом патрубка в форму, позволяет исключить налипание шликера на указанное средство.

На фиг.1 изображено устройство дозирования шликера в литейные формы; на фиг.2 — вид А на фиг.1.

Устройство для дозирования шликера в литейные формы содержит камеру 1 для шликера. К камере 1 присоединен патрубок

2 подвода шликера с запорным клапаном 3, выполненным в виде конусной насадки, соединенной со штоком 4 с одной стороны и с силовой пружиной 5 с другой. Запорный клапан 3 снабжен электромагнитом 6, управляющим работой штока 4. На конце патрубка 2 установлен наконечник 7, к которому прикреплен чувствительный элемент бесконтактного емкоатного датчика 8, который является средством определения расстояния между наконечником 7 патрубка

2 и поверхностью шликера, подаваемого с форму 9, Устройство оборудовано лотком 10 с соосным патрубку отверстием 11 для прохода патрубка 2, а также зачищающим 12 и отжимным 13 роликами, омываемыми проточной водой. К боковым стенкам лотка 10 прикреплены зацепы 14, а на краях отверстий 11 закреплено средство 15 для определения заранее заданного уровня заполнения форм 9, связанное через коман5

1659205 доаппарат(не показан) с электромагнитом 6 запорного клапана 3. Указанное средство

15 выполнено в виде проволочных контактов.

Перемещение камеры 1 с патрубком 2 и лотком 10 в вертикальном направлении обеспечивает привод 16, шток 17 которого гибкой связью 18 соединен, например с рамкой 19, связанной с камерой 1 и перемещающейся по вертикальным направляющим 20.

Привод 16, являющийся исполнительным устройством следящей системы, через командоаппарат (не показан) связан с чувствительным элементом бесконтактного емкостного датчика 8, который является измерительным преобразователем следящей системы предложенного устройства для дозирования шликера в литейные формы. Емкостной датчик 8 и блок связи датчика 8 с приводом 16 могут быть выполнены по известным схемам.

Перемещение лотка 10 в горизонтальном направлении обеспечивает привод 21, шток 22 которого через рычаг 23 соединен с кронштейном 24, один конец которого перемещается по горизонтальным направляющим 25, закрепленным на камере 1, адругой конец входит в зацепление с зацепами 14 лотка 10, В верхней части камеры 1 расположено устройство 26 для вакуумирования шликера и бесконтактный датчик 27 для регулирования уровня заполнения шликером камеры 1, Устройство 26 для вакуумирования шликера состоит иэ шликероводной трубки 28 с конусными насадками 29, клапаном 30, отражателем 31 и воэдухоотводящей трубки 32.

Устройство снабжено основанием 3 для форм.

Устройство работает следующим образом.

По сигналу, поступающему от командоаппарата, включается отсос воздуха из герметично закрытой камеры 1 через воздухоотводящую трубку 32, соединенную с вакуумной линией (не показана). При достижении в камере 1 необходимого разрежения открывается клапан 30 и через шликероводную трубку 28. соединенную с емкостью для шликера (не показана), в камеру начинает засасываться шликер. Струя шликера ударяется в отражатель 31 и стекает по конусным насадкам 29 тонкой пленкой, при этом шликер отдает в разреженное пространство. содержащиеся в нем пузырьки воздуха. Происходит его обезвоздушивание, что обеспечивает в дальнейшем получение изделия более качественного по плотности.

30, 40 этом проволочные контакты средства 15 для

45 шликера в форму 9.

50 Подъем уровня шликера в форме 9 и

5

Уровень шликера, заполняющего камеру 1, контролируется бесконтактным датчиком 27, работающим, например по принципу изменения электрической емкости воздушной среды между электоопооводным шликером и диском датчика 27.

Датчик 27 подает сигнал, по которому производится йереключение вакуумной системы на сообщение внутреннего объема камеры 1 с атмосферой. Подача шликера в камеру 1 прекращается, верхняя часть шликероводной трубки 28 закрывается в силу гравитации запорным клапаном 30. Дозатор. подготовлен для заливки формы 9 шликером.

По сигналу с командоаппарата, проходящему через блок-контакты (не показаны), регистрирующие наличие формы 9 на основании 33 (на позиции заливки), включается в работу привод 16, и камера 1, связанная с рамкой 19, скользящей по направляющим

20, опускается. Работа привода 16 осуществляется таким образом, что конец патрубка

2 фиксируется на высоте 70 — 100 мм от основания устройства. Учитывая, что толщина дна формы 9, как правило, 40 мм, при введении патрубка в форму его конец фиксируется на расстоянии 30 — 60 мм от дна формы 9 (величина Б).

Экспериментально установлено, что при быстром заполнении формы 9 с расстоян я, величина которого лежит в указанных пределах, исключается разбрызгивание шликера и залипание шликером выходного отверстия патрубка 2.

Вместе с камерой 1 опускается и лоток

10. При дальнейшем их перемещении лоток

10, достигнув верха формы 9, остается на ней, расцепившись.с кронштейном 24. При определения заранее заданного уровня шликера входят в устье формы 9. Окончание опускания камеры 1 фиксируется конечным выключателем (не показан), который передает сигнал на включение электромагнита 6

Электромагнит 6 поднимает шток 4 и конечная насадка 3 выходит из гнезда наконечника 7 патрубка 2. Начинается истечение уменьшение величины Б до 30 — 20 мм вызывает срабатывание емкостного датчика 8.

Порог срабатывания емкостного датчика 8 соответствует зазору, определенному условием исключения контакта между наконечником 7 патрубка 2 и поверхностью шликера. Емкостной датчик 8 передает на командоаппарат сигнал о включении привода 16 на подъем камеры 1 с патрубком 2 для восстановления первоначального расстоя1659205 ния (величины Б) 30-60 мм, при этом сигнал от чувствительного элемента емкостного датчика 8 пропадает и камера 1 с патрубком

2 останавливается. Так повторяется до тех пор, пока уровень шликера в форме 9 не достигнет проволочных контактов средства

15 определения заранее заданного уровня шликера, которые передают на командоаппарат сигнал об отключении электромагнита 6, после чего шток 4 под действием силы тяжести и силовой пружины 5 опускается и конусная насадка 3 закрывает выходное отверстие.. Подача шликера. прекращается, Одновременно передается сигнал о подьеме камеры 1 с патрубком 2 в крайнее верхнее положение, при этом кронштейны 24 входят в зацепление с зацепами 14 лотка 10 и захватывают его, снимая с форм 9. Конечный выключатель (не показан) включает привод 21, Шток 22 привода 21 через рычаг

23 воздействует на кронштейн 24, который перемещается по горизонтальным направляющим 25, осуществляя перемещение лотка 10 в горизонтальной плоскости вправо, При этом зачищающий ролик 12, касаясь выходного отверстия наконечника 7 патрубка 2, снимает оставшиеся капли шликера. В конце хода лотка 10 конечный выключатель передает на командоаппарат сигнал на реверс привода 21 и лоток 10 возвращается в исходное положение, Затем по сигналу командоаппарэта залитые шликером литейные формы 9 перемещаются на следующую технологическую позицию, а под устройство дозирования шликера подаются новые формы 9, и цикл повторяется, Формула изобретения

1. Способ доэирования шликера в литейные формы, включающий установку заливочного патрубка камеры для шликера в форму, заполнение последней до заданного уровня, о тл и ч а ю щи и с я тем, что, с целью повышения качества отливаемых иэделий, 5 осуществляют введение патрубкэ внутрь формы на заданное расстояние от дна формы, а выведение его из формы производится по мере заполнения последней при сохранении постоянного расстояния между по10 верхностью шликера и концом патрубка.

2, Устройство для дозирования шликера в литейные формы, содержащее основание для форм, камеру с патрубком и запорным клапаном для подвода шликера, средство

15 для определения заданного уровня заполнения формы и привод вертикального перемещения камеры, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения качества отливаемых изделий, оно снабжено средством для

20 определения расстояния между вводимым концом патрубкэ и поверхностью шликера, подаваемого в форму, закрепленным на конце патрубка, и лотком для сбора капель шликера, имеющим центральное отверстие, 25 в котором расположен патрубок с возможностью его вертикального перемещения.

3. Устройство по п.2, о тл и ч а ю щеес я тем, что средство для определения расстояния между вводимым концом патрубка

30 и поверхностью шликера, подаваемого в форму, выполнено в виде емкостного датчика.

4, Устройство по пп.2 и 3, от л и ч а ю щ ее с я тем, что средство для определения

35 заранее заданного уровня заполнения формы закреплено в выполненном на лотке соосного с патрубком подвода шликера отверстии и имеет возможность установки его на форме., 40

1659205

ФАЗ. 2

Составитель С. Акиньшин

Техред М.Моргентал Корректор g вверни

Редактор Н. Химчук

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101

Заказ 1807 Тираж 394 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Способ дозирования шликера в литейные формы и устройство для его осуществления Способ дозирования шликера в литейные формы и устройство для его осуществления Способ дозирования шликера в литейные формы и устройство для его осуществления Способ дозирования шликера в литейные формы и устройство для его осуществления Способ дозирования шликера в литейные формы и устройство для его осуществления 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к конструкции устройств для изготовления из шликера керамических пленок, используемых в производстве элементов электронных приборов,, Целью изобретения является повышение стабильности толщины изготавливаемой пленки

Изобретение относится к производству строительных материалов, используемых для облицовки наружных и внутренних поверхностей зданий и сооружений

Изобретение относится к производству керамических и огнеупорных изделий, получаемых методом шликерного литья

Изобретение относится к фарфоро-фаянсовой промышленности, а именно к способам и устройствам отсоса избыточного шликера из литейных форм при изготовлении керамических изделий преимущественно сложной формы сервизного ассортимента

Изобретение относится к производству изделий, в основном посуды, из фарфоровой и фаянсовой масс прессованием гранулята

Изобретение относится к машиностроению, а именно к изготовлению изделий из керамики

Изобретение относится к производству полых изделий из порошковых материалов

Изобретение относится к керамическому производству, преимущественно к шликерному литью керамических изделий

Изобретение относится к керамической и авиационным отраслям промышленности и, преимущественно могут быть использовано при формовании методом шликерного литья водных суспензий в гипсовые формы керамических изделий типа носовых диэлектрических конусов летательных аппаратов

Изобретение относится к производству деталей из керамики, преимущественно электроизоляционного назначения

Изобретение относится к керамической и авиационной отраслям промышленности и может быть использовано при изготовлении керамических носовых конусов скоростных летательных аппаратов

Изобретение относится к керамической, авиационной, металлургической отраслям промышленности и может быть использовано при формовании керамических изделий типа обтекателей ракет, сталеразливочных стаканов, подложек и подставок со сквозными отверстиями и рельефной поверхностью методом шликерного литья из водных шликеров в пористые формы

Изобретение относится к керамической, авиационной, металлургической отраслям промышленности и может быть использовано при формовании керамических изделий типа обтекателей ракет, сталеразливочных стаканов и других изделий методом шликерного литья из водных шликеров в пористые формы

Изобретение относится к технологии формования керамических изделий различного назначения из водных шликеров и направлено на упрощение технологии электрофоретического формования путем замены сложных в изготовлении формообразующих металлических матриц катода на гипсовые

Изобретение относится к керамической и авиационной отраслям промышленности и может быть использовано при формовании методом шликерного литья из водных суспензий в гипсовые формы керамических изделий

Изобретение относится к технологии формования крупногабаритных, сложнопрофильных керамических изделий из водных шликеров
Изобретение относится к способам изготовления керамических изделий с металлической арматурой
Наверх