Отражающий интерференционный светофильтр

 

Изобретение относится к оптическому приборостроению и позволяет увеличить диапазон перестройки рабочей длины светофильтра . Светофильтр содержит подложку 1 в форме клина или отражательной призмы, на рабочей грани которых размещена система 2 слоев, выполненная из фотоэмульсии с эквидистантными полупрозрачными слоями солей серебра, расположенными на расстоянии Яо/2 друг от друга. 4 ил. (Л о 00 го ю ел о

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (я)5 6 02 В 5/28

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К ДВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 3882911/10 (22) 09.04.85 (46) 07.10.91. Бюл. ¹ 37 (71) Сибирский физико-технический институт им. В.Д. Кузнецова при Томском государственном университете им, В.В.

Куйбышева (72) А.А. Елисеев, Т.Н. Попова, О.В. Раводина и В.В. Стенина (53) 621.357.74 (088.8) (56) Физика. Астрономия. Вестник MPУ. Сер.

3. 1983, т. 24, № 2, с. 13.

Патент США ¹ 3887261, кл, 350-1, опублик. 1975.

512 1б8295О А1 (54) ОТРАЖАЮЩИЙ ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЫЙ СВЕТОФИЛЬТР (57) Изобретение относится к оптическому приборостроению и позволяет увеличить диапазон перестройки рабочей длины светофильтра. Светофильтр содержит подложку 1 в форме клина или отражательной призмы, на рабочей грани которых размещена система 2 слоев, выполненная из фотозмульсии с эквидистантными полупрозрачными слоями солей серебра, расположенными на расстоянии Я /2 друг от друга. 4 ил, 1682950 следует, что при А = 600 нм спектральная ширина полосы отражения составляет приблизительно 2 нм, Положение этой полосы изменяется в спектре в пределах 50 нм при изменении положения фильтра относительно падающего света.

Отражающий интерференционный фильтр позволяет получить узкую (2-10 нм) полосу отражения, имеет высокую контрастность, а область перестройки в зависимости от конструкции фильтра охватывает

50 — 200 нм, Перестраиваемые фильтры могут быть использованы для облучения различных обьектов, например биологических, для селективного поглощения света с длиной волны источника возбуждения при получении спектров комбинационного рассеяния и люминесценции.

Формула изобретения

Отражающий интерференционный светофильтр, содержащий подложку из оптически прозрачного материала и систему

5 прозрачных и полупрозрачных чередующихся слоев, отличающийся тем, что, с целью увеличения избирательности фильтрации и обеспечения воэможности перестройки рабочей длины волны свето10 фильтра, подложка выполнена в форме клина или отражательной призмы, на рабочей грани которых размещена система слоев. выполненная из фотоэмульсии с эксвидистантными полупрозрачными слоями солей

15 серебра, сформированными на расстоянии

Ао/2, где Й вЂ” длинноволновая граница перестройки рабочей длины волны, при этом указанная система слоев расположена последней по направлению излучения.

1682950 г.З

590 бИ 610 Х(нн)

Щр. Ф

Составитель П.Яковлев

Редактор С.Патрушева Техред M,Ìîðãåíòàë Корректор МЩчерявая

Заказ 3410 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издвтелвскии комбинат "Патент". г. Ужгород, ул,Гагарина, 101

Отражающий интерференционный светофильтр Отражающий интерференционный светофильтр Отражающий интерференционный светофильтр Отражающий интерференционный светофильтр 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано в технологии тонкопленочных покрытий различного функционального назначения

Изобретение относится к оптическому приборостроению, в частности к интерференционным оптическим светофильтрам

Изобретение относится к оптическому приборостроению, в частности к изготовлению интерференционных оптических покрытий, которые могут найти применение в оптических квантовых генераторах, телекамерах и т.п

Изобретение относится к металлургии, к химико-термической обработке деталей в газовом разряде, в частности к способам получения защитных покрытий элементов технологических лазеров

Изобретение относится к физической оптике и может использоваться в приемных устройствах КВЧ для пропускания определенной полосы частот

Изобретение относится к технологии оптических покрытий, и может быть использовано в оптическом приборостроении для просветления деталей

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано для просветления оптических элементов эксимерных лазеров, осветительных систем, объективов с большими апертурами, работающими в УФ-области спектора

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано для просветления оптических элементов эксимерных лазеров, осветительных систем объективов с большими апертурами, работающих одновременно в ультрафиолетовом и видимом диапазонах спектра

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано для фильтрации излучения в далекой инфракрасной области спектра

Изобретение относится к оптическому приборостроению, а именно к интерференционным оптическим покрытиям, и обеспечивает величину коэффициента отражения R≤0,2% для рабочей длины волны λ<SB POS="POST">раб</SB> при относительном изменении толщин слоев на ±10%

Изобретение относится к области оптического приборостроения, в частности к интерференционным покрытиям и может быть использовано для создания зеркальных, светоделительных фильтрующих и других многослойных покрытий для оптических элементов широкого применения, в том числе для лазерной техники в области длин волн от 0,4 до 9,0 мкм

Изобретение относится к области изготовления оптических элементов, отражающих интерференционных фильтров и обработки поверхности стекла, а более конкретно к слоистым изделиям, включающим основу из стекла и многослойное покрытие из специфицированного материала, имеющее различный состав, из органического материала, оксидов, металлов и неметаллов, наносимых преимущественно осаждением из газовой среды

Изобретение относится к теплоизоляционному покрытию, применяемому в защите от теплового излучения жилых, офисных или промышленных зданий
Изобретение относится к способу изготовления диэлектрического многослойного зеркального покрытия

Изобретение относится к интерференционным покрытиям и, в частности, может быть использовано в оптическом приборостроении для широкополосного отражения света

Изобретение относится к области оптического приборостроения и предназначено для получения изображений поверхности Земли из космоса и с воздушных носителей различного класса

Изобретение относится к области оптического приборостроения и может быть использовано при построении приборов для спектральной фильтрации оптических изображений, например, перестраиваемых по длине волны оптических фильтров, тепловизоров, работающих в заданных узких спектральных диапазонах

Изобретение относится к интерференционным покрытиям и, в частности, может быть использовано в оптическом приборостроении для узкополосной фильтрации света
Наверх