Способ магнетронного напыления

 

Использование: область вакуумно-плазменной технологии и может быть использовановмашиностроительной , приборостроительной и электронной промышленности . Сущность изобретения: для осаждения углеродной пленки алмазоподобного типа распыляют углеродную мишень в скрещенных электрическом и магнитном полях и осаждают поток с плотностью частиц, превышающей плотность остаточной атмосферы инертного газа, и их энер;ией, i-.e превышающей 7-10 эВ.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (я)5 С 23 С 14/33

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4805328/21 (22) 23.03,90 (46) 30.10,92, Бюл, N" 40 (7!) Физико-технический институт АН БССР (72) Б.Л.Фигурин, В.И.Рулинский, С.О,Селифанов и А.Ф,Заико (56) "Электронная промышленность", 1989 г., М 12, с, 26-29.

Алмаз в электронной технике, М,; Энергоатомиздат, 1990, с. 177. (54) СПОСОБ МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ

Изобретение относится к abri aòè металлизации в вакууме и может быпгь использовано для получения алмазоподобных покрытий на керамике, стекле, металлах в машинас граительной, приборостроительной и электронной промышленности.

Получение алмазаподобных покрытий может быть достигнуто известным способам катодного распыления графита при низком давлении инертных газов (Ркрипто а=10 10 Г!а) и низкой темпег ратуре (менее 100 К) осаждения атомов графита, Из известных наиболее близким по технической сущности является способ получения алмазоподабных покрытий, принятый за прототип, согласно которому в качесгве реагента используется циклогексан или другие углеродсодержащие газы, Недостаткам способа получения алмазоподобных покрытий принятого за прототип является значительный разброс значений электросопротивления, вызванный использованием ускоряющего напряжения различных значений. При этом, „„!Ы „„1772217А1 (57) Использование: область вакуумно-плазменной технологии и может быть использовано в машиностроительной, приборостроительной и электронной промышленности. Сущность изобретения: для осаждения углеродной пленки алмазоподобного типа распыляют углеродную мишень в скрещенных электрическом и магнитном полях и осаждают поток с плотностью частиц, превышающей плотность остаточной атмосферы инертного газа, и их энер: иеи, не пре-.l øающей 7-10 эБ. ускорение конденсируемых частиц и соударение их с ранее образовавшимся слоем с энергией, превыша ошей энерги о межатомных связей способно привести к локальному изменени о строения покрытия с образованием структурносвободнаго графита и, естественна, либо разбросу, либо снижению значений плспности vi удельного сопротивления.

Целью I1забретения является повышение производительности процесса и качества покрытий за счет повышения алмазной фазы.

Поставленная цель достигается тем, что для повышения производительности l1paцесса и качества покрытий за счет повышения их плотности до значений сравнимых с плотностью природных минералов, конденсацию acуществля1ат в скрещенных магнитном и электрическом полях непрерывным потоком атомарной фазы углерода с плотноcThla превышающей плотность остаточной атмосферы камеры и с энергией конденсации не превыша!ащей 7- 1О эВ, причем температура подложки не превышает

Способ магнетронного напыления Способ магнетронного напыления 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к электронной вакуумной технике

Изобретение относится к вакуумному нанесению пленок методом ионного распыления материалов и может быть использовано в магнетронных установках

Изобретение относится к полупроводниковой технике и микроэлектронике и может быть использовано при производстве интегральных схем

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано для создания изделий электронной техники, радиотехники, оптики и др

Изобретение относится к пленочной микроэлектронике, в частности к магнетронным устройствам ионно-плазменного нанесения пленок материалов в производстве тонкопленочных элементов интегральных микросхем

Изобретение относится к технологии получения вакуумных покрытий и может быть использовано при нанесении защитных, износостойких и декоративных покрытий, в частности на керамические и стеклянные облицовочные плитки

Изобретение относится к области покрытия металлических материалов, а также других материалов металлическими и диэлектрическими материалами и может быть использовано при разработке устройств для вакуумного нанесения покрытий методом магнетронного распыления, а более конкретно магнитных систем планарного магнетрона в установках вакуумного нанесения покрытия на различные подложки, в том числе на полимерные пленки

Изобретение относится к рентгеновской оптике, в частности, к устройствам для отражения, поворота, деления, фокусировки и монохроматизации потока рентгеновского излучения и может быть использовано для проведения процессов рентгеновкой литографии, рентгеновской микроскопии, рентгеновской спектроскопии, а также в астрономии, физике, биологии, медицине и других областях технике, где используется рентгеновское излучение
Изобретение относится к области нанесения покрытий, в частности к магнетронному распылению электропроводящих покрытий в среде реактивных газов, и может быть использовано для получения прозрачных электродов и прозрачных электрообогревательных элементов

Изобретение относится к области тонкопленочной технологии и предназначено для использования в микроэлектронике и интегральной оптике

Изобретение относится к электрофизике, в частности к системам, служащим для получения потоков частиц, используемых, например, для вакуумного нанесения тонких пленок
Наверх