Способ определения величины угла хиральности на электронно-дифракционных картинах кристаллов с трубчатой структурой

Использование: для определения величины угла хиральности на электронно-дифракционных картинах кристаллов с трубчатой структурой. Сущность: заключается в том, что используют один произвольный рефлекс (hk0) и измеряют расстояние Shk0 (мм) между экваториальной линией электронограммы и параллельной ей слоевой линией, на которой лежит рефлекс (hk0), а затем рассчитывают угол хиральности α из формулы

где

С (Å·мм) - постоянная электронного микроскопа,

h и k - индексы рефлекса,

а и b - ребра элементарной ячейки кристаллического вещества трубки,

γ - угол между а и b,

γ* - угол между а* и b* в обратной решетке.

Технический результат: расширение области применения способа к кристаллам с трубчатой структурой, повышение точности определения углов на электронограмме, снижение количества необходимых для измерения угла рефлексов с двух до одного, увеличение количества пригодных для измерения угла хиральности рефлексов. 2 ил.

 

Изобретение относится к способам структурных исследований материалов кристаллической структуры в электронной микроскопии: измерение расстояний и углов позволяет расшифровать электронограмму и определить присутствующие кристаллические структуры.

Известен способ определения величины угла на электронограмме, при котором измеряют угол между радиусами-векторами двух рефлексов, вершиной которого является центральное пятно электронограммы (Эндрюс К., Дайсон Д., Киоун С. // Электронограммы и их интерпретация. М.: Мир, 1971. 256 с.).

Однако известный способ имеет ограниченную область применения и дает ненадежные и даже ошибочные результаты для кристаллов с трубчатой структурой, например трубчатых структур углерода - углеродных нанотрубок и нановолокон.

Технический результат изобретения состоит в расширении области применения способа к кристаллам с трубчатой структурой, в повышении точности определения углов на электронограмме, в снижении количества необходимых для измерения угла рефлексов с двух до одного, в увеличении количества пригодных для измерения угла хиральности α рефлексов.

Для достижения указанного технического результата в предлагаемом способе измеряют не угол между радиусами-векторами двух рефлексов с вершиной в центральном пятне электронограммы, а расстояние Shk0 между экваториальной линией электронограммы и параллельной ей слоевой линией, на которой лежит один из этих рефлексов с индексами (hk0). Расстоянием Shk0 на электронограмме, представляющей собой проекцию обратной решетки кристалла, представлена величина Shk0 в обратной решетке кристалла:

где С - постоянная электронного микроскопа, показывающая масштаб электронограммы. В свою очередь, для произвольной свернутой в цилиндр двумерной косоугольной кристаллической решетки величина Shk0 связана с углом хиральности α следующим образом (фиг.1):

где h и k - индексы рефлекса,

а и b - ребра элементарной ячейки кристаллического вещества трубки,

γ - угол между а и b,

γ* - угол между а* и b* в обратной решетке.

Отличительными признаками предлагаемого способа является то, что для определения величины угла используют один произвольный рефлекс (hk0) и измеряют расстояние Shk0 между экваториальной линией электронограммы и параллельной ей слоевой линией, на которой лежит этот рефлекс. Это позволяет определить углы на электронограмме кристалла с трубчатой структурой, повысить точность определения углов, снизить количество необходимых для измерения угла рефлексов с двух до одного, увеличить количество пригодных для измерения угла хиральности α рефлексов.

На фиг.2 изображена электронограмма монохиральной углеродной трубки диаметром 190 нм. Стандартная методика определения величины угла хиральности предполагает измерение угла между радиусами-векторами рефлексов и или и , т.к. именно эти рефлексы наиболее близки к экваториальной линии электронограммы, и, следовательно, на процедуру измерения угла на этих рефлексах менее всего влияют расположенные параллельно экваториальной линии тяжи, всегда сопутствующие дифракционным картинам трубчатых структур. Именно по причине наличия тяжей невозможно определить известным способом угол хиральности между радиусами-векторами рефлексов (010) и (010)', положение которых из-за тяжей становится неопределенным (фиг.2).

Определение величины угла хиральности по предлагаемому способу с использованием расстояния Shk0 имеет следующие преимущества перед известным способом: 1) позволяет определить угол хиральности α по положению только одного рефлекса; 2) позволяет считать α по произвольному рефлексу, например по (010), в то время как растяжение рефлексов (010) и (010)' не позволяет определить угол хиральности с помощью этих рефлексов по известному способу; 3) повышает точность определения угла, т.к. на точность перестает влиять растяжение рефлексов, которое всегда есть на электронограммах трубок и направлено вдоль экваториальной линии электронограммы. Точность определения угла практически важна для определения принадлежности нанотрубки к металлам, полупроводникам или диэлектрикам, т.е. для определения электронных характеристик трубки, которые зависят от десятых долей градуса угла хиральности.

Пример.

Используя величину Shk0 (формулы 1, 2), определяют величину угла хиральности по произвольному рефлексу, в том числе по растянутому рефлексу (010) (фиг.2): S010 показывает расстояние от нулевого узла до слоевой линии, проходящей через узел (010), поэтому на расстояние S010 не влияет положение узла на прямой, а значит и на тяже. С другой стороны, расстояние S010 однозначно связано с углом хиральности (формулы 1, 2). По электронограмме трубки измеряют расстояние S010 и рассчитывают по выражению (1) величину S010 для рефлекса (010), затем по формуле (2) однозначно определют угол хиральности трубки.

Упрощая (2) для случая гексагональной решетки графита, где а=b=2,46Å; γ=120°; γ*=180°-γ=60°, имеем для углеродной нанотрубки:

Считая постоянную прибора С по рефлексам семейства {110}, измерив S010 (мм) и используя (1), получаем для S010 значение 0.462Å-1, затем по формуле (3) находим значение угла хиральности: α=10° (ошибка измерения ±0.1°). Такое же значение угла дают измерения с помощью величины Shk0, но на рефлексе , и близкое значение, равное 9.7° с большей ошибкой, равной ±0.3°, получено по известному способу определения угла хиральности.

Способ определения величины угла хиральности на электронно-дифракционных картинах кристаллов с трубчатой структурой, отличающийся тем, что используют один произвольный рефлекс (hk0) и измеряют расстояние Shk0 (мм) между экваториальной линией электронограммы и параллельной ей слоевой линией, на которой лежит рефлекс (hk0), α затем рассчитывают угол хиральности α из формулы

где С (Å·мм) - постоянная электронного микроскопа;

h и k - индексы рефлекса;

а и b - ребра элементарной ячейки кристаллического вещества трубки;

γ - угол между а и b;

γ* - угол между а* и b* в обратной решетке.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к неразрушающим методам исследования или анализа материалов, а именно к области определения дефектов в дисперсных материалах: базальтовых стеклах, волокнах, слоистых материалах, тонких пленках и т.д.

Изобретение относится к области рентгенодифракционных и рентгенотопографических неразрушающих методов исследования структуры и контроля качества материалов и предназначено для формирования рентгеновского пучка, в частности пучка синхротронного излучения (СИ), с помощью кристаллов-монохроматоров и фокусирующей системы, состоящей из двух зеркал.

Изобретение относится к области машиностроения и может быть использовано для контроля качества радиационно-термической обработки твердосплавного инструмента, предназначенного для холодной и горячей механической обработки различных материалов, преимущественно металлов и их сплавов.

Изобретение относится к устройству и способу определения ориентации кристаллографической плоскости относительно поверхности кристалла, а также к аппарату и способу резки монокристалла в режущей машине.

Изобретение относится к области измерения искусственных и естественных вариаций элементного состава в условиях повышенного радиационного фона и (или) повышенной температуры в объектах техногенного и геологического происхождения и может быть использовано для работы в аварийных условиях повышенной радиации, в горячей камере или на заводах для переработки отработанного ядерного горючего, в аппаратах дистанционного управления, например в буровых скважинах или в зондирующих космических модулях.

Изобретение относится к физическим методам анализа химического состава вещества, в частности к рентгенофазовому методу, и может быть использовано в различных отраслях промышленности, при исследовании минерального сырья, горных пород и почв, при определении концентраций минералов, составляющих анализируемое вещество.

Изобретение относится к области исследования материалов радиационными методами. .

Изобретение относится к области рентгенодифракционных и рентгенотопографических неразрушающих методов исследования структуры и контроля качества материалов и предназначено для фокусировки рентгеновских лучей (РЛ), в частности пучка синхротронного излучения (СИ), с помощью кристаллического монохроматора (монохроматоров) и фокусирующего зеркала полного внешнего отражения (ПВО) РЛ

Изобретение относится к низкоразмерной нанотехнологии (область нейтронной физики) и может найти применение при контроле параметров ферромагнитных наноматериалов и приборов в процессе их изготовления, а также для диагностики структуры и динамики пространственно упорядоченных ферромагнитных наносистем на их пригодность в качестве стабильных носителей информации высокой плотности

Изобретение относится к области металлургии и может быть использовано для изготовления емкостей сжиженных газов, низкотемпературного и криогенного оборудования, установок для получения сжиженных газов, оболочек ракет и емкостей для хранения ракетного топлива из стали 01Х18Н9Т

Изобретение относится к физическим методам анализа химического и фазового состава вещества, объединяет два метода - рентгенофлуоресцентный и рентгенофазовый, и может быть использовано в различных отраслях промышленности, при исследовании минерального сырья, горных пород и почв, при определении концентраций минералов, промпродуктов и т.п

Изобретение относится к способу промеров, ориентирования и фиксации минимум одного монокристалла, а также к предназначенному для этого устройству

Изобретение относится к области изучения кристаллографической текстуры твердых материалов, проявляющейся в различии характеристик, измеренных в разных направлениях, т.е

Изобретение относится к дифрактометрическим методам исследования монокристаллов и может использоваться для измерения мозаичности кристаллов
Наверх