Травильный раствор;ite-r ;ю-т2хп1ч,зская б::б;п1стека ыба

 

СПИ САЙИ Е

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

300433

Союз Советских

Социалистических

Респтблик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 14.XI.1969 (№ 1376724/29-33) МПК С 03с 15/00 с присоединением заявки №

Приоритет

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете слииистров

СССР

УДК 666.266.3 (088.8) Опубликовано 07ЛУ.1971. Бюллетень № 13

Дата опубликования описания 1Х1.1971

Авторы изобретения К. С. Евстропьев, В. Д. Рассказов, А. К. Лесников и В. H. Савельев

Заявитель Государственный научно-исследовательский институт кварцевого стекла

ТРАВИЛЬНЪ|й РАСТВОР

Изобретение относится к технике повышения электропрочности материалов, используемых электротехнической и радиотехнической промышленностью.

Известна травильная ванна для обработки стекла, включающая HF и HqSO .

Целью изобретения является увеличение электрической прочности кислородсодержащих стекол.

Достигается это тем, что раствор дополнительно содержит НзРОi при следующих соотношениях компонентов (в вес, ч,):

20 — 30%-ный раствор HF 40 — 50

40 — 50%-ный раствор H>SO 30 — 40

50 — 60% -ный раствор Н>РО4 20 — 25

Изделие перед обработкой подвергают очиСтке от загрязнений, а затем обрабатывают в травильной ванне и промывают в проточной воде.

Увеличение электр опрочности достигается удалением с поверхности слоя глубиной 100—

5 !50 икл и образованием на поверхности пленки, отличной от состава основной матрицы.

Предмет изобретения

Травильный раствор для обработки стекла, 10 включающий HF и Н2$04, отличающийся тем, что, с целью увеличения электрической прочности кислородсодержащих стекол, он дополнительно содержит НзРОз при следующих соотношениях компонентов (в вес. ч.):

15 20 — 30% -ный раствор HF 40 — 50

40 — 50%-ный раствор Н $04 30 — 40

50 — 60%-ный раствор Н3РО4 20 — 25

Травильный раствор;ite-r ;ю-т2хп1ч,зская б::б;п1стека ыба 

 

Похожие патенты:
Изобретение относится к химическому удалению тонкослойных покрытий германий-моноокись кремния с поверхности арсенидов индия и галлия и может быть использовано в оптико-механической и радиоэлектронной промышленности в технологии изготовления оптических деталей, в частности интерференционных фильтров и полупроводниковых изделий интегральных микросхем, для замены механического способа удаления отбракованных покрытий химическим травлением

Изобретение относится к областям регистрации информации путем литографического формирования рельефных микроструктур и может быть использовано в оптотехнике, голографии, электронной технике, полиграфии и прочее
Изобретение относится к обработке стекловолокнистых нитей, в частности к изготовлению микроканальных пластин МКП, и может быть использовано в электронно-оптических преобразователях
Изобретение относится к технологии обработки стекла и изделий из него для получения декоративного эффекта в виде матового рисунка

Изобретение относится к технологии изготовления макропористых стекол оптического качества из натриевоборосиликатного стекла типа ДВ-1 и может быть использовано для создания объемных микрогетерогенных сред как элементной базы в системах записи, хранения и обработки информации, в волоконно-оптических системах передачи информации, в голографии и лазерной технике
Изобретение относится к составам растворов, применяемых для полировки изделий из стекла
Изобретение относится к составам травильных растворов для обработки поверхности стекла, нанесения на нее маркировочных обозначений, рисунков и другого
Изобретение относится к составам травильных растворов, используемых в стекольной промышленности
Изобретение относится к составам растворов для травления стекла
Наверх