Способ получения линзо-растровой пленки

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик (11) 451979 (61) Зависимое от авт. свидетельства (22) Заявлено 09. 01.73 (21) 1871897/23-4 с присоединением заявки л-— (32} Приоритет

Опубликовано 30.11.74 Бюллетень № 44

Дата опубликования описания 14.О4.75 (51} М. Кл. С 03с1/72

Государственный комитет

Соввта Мнннстров СССР по делам нэооретеннй и открытнй (53) УДК

771. Ь31. 37(088. В>

Н. А. Валюс, Г. С. Глуховский, I"„Â. Авилов, В. И. Успенский, N. С. Андреев и Т. Д. Капитонова (72) Авторы изобретения

Всесоюзный государственный научно-исследовательский и нроектиый институт химико-фотографической промышленности (71) Заявитель (54) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ЛИ1ИО- РАСТРОВОЙ ПЛЕНКИ

Изобретение относится к фотографии и кинематографии, а именно к способу получения линзо-растровой пленки, применяемой при стереоскопической кино- и фотосъемке, в телевидении, голографии и при других специальных видах записи, передачи и воспроизведения информации.

Известен способ изготовления линзорастровой пленки нанесением на лицевую сторону подложки линзового растра с при- 10 менением нагреваемого или смачиваемого растворителями профилированного барабана, с помощью которого получают параллельный цилиндрический линзовый растр, а на обрат» ную сторону пленки - галогенсеребряного . 15 эмульсионного слоя. В этих случаях поверх . ность основы тиснится с помощью гидравлической или механической системы прижима растрового барабана с отрицательной формой растрового гофра. Применение растрового ба" 20

I рабана для этой цели ограничивает возмож ность получения пленки только с параллельным цилиндрическим растром, так как до настоящего времени неизвестен способ получения барабана с ячеистым линзовым растром. 25

Недостатками известных способов является то, что, во-первых, они требуют через- вычайно трудоемкого процесса изготовления растрового барабана, особенно в случае по лу.чения пленки с ячеистым линзовым растром, во-вторых, процесс тиснения кииопленочной основы является малоуправляемым и, в третьих, получаемая известными спосс бами пленка подвержена сильному короблению, что приводит к .значительному проценту брака.

11елью изобретения является упрощение технологии изготовления линзо-растровой пленки, позволяющее формирование линзового растра непосредственно на кинопленочной основе и улучшение качества пленки.

Эта цель достигается тем, что на лицевую сторону подложки наносят слой незадубленной галогенсеребря ной фотоэмуль сии, последовательно его экспонируют через соответствующую форме линзового раст. ра решетку, проявляют в дубяшем проявителе и обрабатывают в энзиме протеназа, Способ состоит в следующем, На про451979

Изл. и ф зака3 Яб

1(1!ИШ1! (I îñóäaðñòBåííîãî комитета Совета Министром СССР по делам изобретений и открытий

Москва, l l3035, Раушская наб., 4

ill «внриятн<. «Hni. нт», Мо ква, Г-59, Б р.>кковская наб., 24 тивоположной стороне ппенки со светочувствитепьным незадубпенным слоем помещают металлическую либо полученную фотографическим путем на фотопластинке ипи фотопленке решетку, размеры, взаимное распопожение и, форма элементарных ячеек которой соответствует требуемым геометрическим и оптическим параметрам получаемых на пинзо-растровой пленке оптических микроэпементов. После применения фоторепро- 10 дукционного процесса, закпючающегося в экспонировании пленки со стороны основы источником ультрафиолетового света, площадь светящегося тела которого и расстояние до пленки выбирают в зависимости от чувствительности фотографического слоя и параметров получаемого линзового растра, проводит дубящую фотохимическую обработку и удаление незад бленных участков эмульсии применением препарата энзима протеназы. Таким образом обеспечивается возможность получения рулонных образцов пинзо-растровой пленки без использования пинзо-растрового барабана и без воздействия на основу пленки растворителей, температуры и механического давления.

При этом не требуется также предварительное изготовление растрового барабана, сопряженное с большими технологическими трудностями и затратами, а также исключа-3О ется малоуправляемый процесс тиснения основы кинопленки, приводящий к ее коробпению.

Пример, На поверхность киноппеночной основы наносят обычную незадубленную гапогенсеребряную фотографическую эмульсию толщиной 25-30 мкм. Используемая решетка может представлять два полиграфических параллельных растра с перпендикупярно перекрещенной пинеатурой.

В качестве источника света используют ультрафиолетовые лампы ДРШ-500 или

ДРШ-1000 с баритовой отражающей поверхностью. Светящееся тело источника высвечивают с помощью переменных по оп- 45 тической плотности фильтров таким образом, чтобы получить заданную кривизну микролинз растра, обеспечивающую фокусировку на обратную сторону основы. Интервал применяемых выдержек выбирают экспери- @ ментапьно в пределах 1/10-1/30 сек дпя спея эмульсии "тип-18 "без сенсибипизато- ров и дубитепей.

Экспоиированную ппенку обрабатывают следующим образом, Проводят дубяшее проявление в течение 2 мин (рабочий Рас.ивор готовят смешиванием растворов А" и Б в отношении 1:1; раствор "А состоит из двунатриевой соли этилендиаминтетрауксусной кислоты в количестве 2 r; сульфата натрия безводного — 0,6 r; метопа—

0,5 г; пирогаппопа — 2,7 r; бромистого калия — 1,7; тиосупьфата натрия кристаллического — 20 r; сульфата натрия безводного — 50,0 г; воды — до 500 мп; раствор "Б" состоит-из сульфата натрия безвод-ного - 45,0 г, натрия углекислого безводного — 77,0 г, воды — до 500 мп. Затем пленку обрабатывают в, восстанавпивающем и фиксирующем растворе в течение 2 мин (207 -ный раствор тиосульфата натрия, подкисленный до рН 5,20+0,20). Дпя удаления незадубпенных участков слоя используют раствор 150 мг энзима протеназы в 100 мп воды (время обработки 6 мин при температуре раствора 38-40оС).

После этого проводят отбепивание 7 / ным раствором жепезосинеродистого калия в воде в течение 4 мин, промывку в течение

4 мин и фиксирование 20%-ным раствором тиосульфата натрия, подкисленным до рН

5,20+0,20, в течение 5 мин. Проявленную таким образом пленку 15 мин промывают в проточной воде и сушат.

Полученная пленка имеет на одной стороне линзовый растр. HB обратную линзовому растру сторону основы пленки наносят слой обычной гапогенсеребряной эмульсии.

После этого пленка может использоваться в различных областях науки и техники„ связанных с применением пинзо-растровых материалов.

Предмет изобретения

Способ получения иинзо-растровой цпеики нанесением на лицевую сторону пленочной подложки линзового растра, . на обратную сторону — фотографической галогенсеребряной эмульсии, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса и повышения качества пленки, ы лицевую сторону наносят слой незадубпенной гило-генсеребряной фотоэмульсии, последовательно экспонируют его через соответ :тиующую форме линзового растра решетку, проявляют в дубящем проявитепе и обрабатывают в энзиме протеназы.

Тираж

5О6

Подиисиое

Способ получения линзо-растровой пленки Способ получения линзо-растровой пленки 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к фторполимеризующимся композициям для сухих пленочных фоторезистов водно-щелочного проявления, находящих применение для получения рисунка при изготовлении печатных плат в радиоэлектронной промышленности
Изобретение относится к фоточувствительным материалам на основе оксидов цинка и/или титана в связующем
Изобретение относится к термопроявляемым фотографическим материалам на основе водопроницаемых полимеров с добавками солей металлов и может быть использовано в системах записи оптической информации

Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции

Изобретение относится к способам получения фоточувствительных слоев сульфида свинца, которые применяют при изготовлении полупроводниковых приборов, чувствительных к инфракрасному излучению
Изобретение относится к фоторефрактивному полимерному материалу с высокой дифракционной эффективностью в ближней инфракрасной области электромагнитного спектра и может быть использовано в оптоэлектронных устройствах, в процессах записи динамических голограмм в реальном масштабе времени и других фотонных технологиях

Изобретение относится к составу для светочувствительного слоя фотоматериалов, которые могут быть использованы в системах записи информации, для получения изображения в фотографии и полиграфии

Изобретение относится к области изготовления пленочного фоторезиста и сеткотрафаретных экранов на его основе, используемых в производстве печатных плат, керамических корпусов интегральных схем, изделий полиграфической промышленности
Изобретение относится к нанотехнологии и направлено на создание нанокомпозиционных материалов с эффективно управляемыми оптическими свойствами, которые могут быть использованы в нелинейной оптике, информационной технике, при разработке средств оптической памяти и т.д
Наверх