Способ очистки подложек

 

О П И С А Н И Е < 954916

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К, АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Соцналнстнческнк

Республик (61) Дополнительное к авт. свил-ву— (22) 3 8 Н0 25 ° 05. 78 (21) 2620689/23-04 с присоединением заявки М— (23) Приоритет

Опубликовано 30 . 08. 82. Бюллетень М 32

Дата опубликования описания 30 . 08 . 82 (51)М. Кл.

G 03 С 5/00

Гюеуюрсткнный квинтет

СССР но делам изобретений н открытий (53) УЙК 771 ° 5 (088.8) (72) Авторы изобретения

Ю. М. Прохоцкий, А. А. Волков и Н. Г. Ушомиоский (71) Заявитель

Изобретение относится к способам очистки подложек от поверхностных загрязнений и может быть использовано при изготовлении фотошаблонов в фотолитографических процессах.

Известны способы дчистки фотоплас5 тин и фотошаблонов, используемых в фофотолитографическом процессе, путем обдува их сжатым воздухом, удаления загрязнений кисточкой, а также нейтрализации влияния. загрязнений путем использования проявления с обращением (11 .

Указанные способы не обеспечивают необходимой степени очистки и значительно усложняют фотохимическую обработку, не решая полностью проблемы очистки фотопластин и фотошаблонов.

Каиболее близким к предлагаемому го является способ очистки подложек (стеклянных, кварцевых, ситалловых, металлических) путем нанесения на поверхность подложки пленкообразующего лака на основе нитроцеллюлоэы, высушивания его и последующего отрывания с подложки образовавшейся пленки f2) . о

Указанный способ исполнзуют в технологии вакуумного нанесения тонких пленок при очистке и консервации по" верхности подложек. Однако при очистке таким способом подложек фотошаблонов на галогенидсеребряных желатиновых фотоматериалах, имеющих небольшую механическую прочность и подверженных воздействию растворителей, наблюдает-.. ся разрушение эмульсионного слоя фотошаблонов, что приводит к снижению выхода годных изделий.

Цель изобретения - повьнвение выхода годных изделий при изготовлении фотсниаблонов.

Поставленная цель достигается тем, что согласно способу очистки подложек от -поверхностных загрязнений путем нанесения на поверхность подложки

954916 формула изобретения

3 пленкообразующего лака, высушивания его и последующего отрывания образоваешейся пленки, в качестве подложки используют эмульсионный слой фотоматериала, перед операцией нанесения лака желатиновый эмульсионный слой фотоматериала раздубливают, в каче- стве пленкообразующего лака используют лак на основе перхлорвиниловой смолы, а отрывание высушенной пленки 10 лака производят при смачивании границы раздела пленки лака и желатинового эмульсионного слоя этиловым спиртом.

Перед нанесением лака фотоматериал (фотопластина) должна быть опре- 15 деленным образом подготовлена, чтобы обеспечить возможность удаления не только загрязнений> лежащих на поверхности, но .и загрязнений, внедренных в поверхность. Это достигается щ предварительным раздубливанием эмульсионного светочувствительного слоя при обработке в течение 10-15 мин в 2ь-ном растворе уксусной кислоты.

Высушенная пленка лака недостаточно р хорошо отделяется от поверхности эмульсионного слоя. Чтобы облегчить ее отделение, процесс проводят при постоянном смачивании этиловым спиртом границы раздела лаковой пленки и светочувствительного слоя.

Пример 1. Высокоразрешающие галогенидосеребряные желатиновые эмульсионные фотопластины типа "Kodak

HRP" из партии, прошедшей срок хране- З5 ния 3 года (гарантийный срок хранения

1 год) и забракованной из-за повышенной загрязненности поверхности фотопластин, выдерживают в 24-ном раство40 ре уксусной кислоты в течение 15 мин при комнатной температуре, споласкивают в этиловом спирте и покрывают пленкой стандартного лака ХСЛ, Гост

7313-55, вес.<:

Перхлорвиниловая смола 20

Смесь растворителей бутилацетат (12):ацетон

lf (26):толуол (62) До 100

Высушенную (не менее 1 ч при комнатной температуре) пленку лака удаляют путем отрывания с одного края при смачивании границы раздела пленка эмульсионный слой этиловым спиртом, Выход годных контрольных фотошаблонов интегральной схемы увеличен с 1 3 до 55

34,8>;.

Пример 2. Аналогичным образом лаком состава, вес. >:

Перхлорвиниловая смола 30

Трикрезилфосфат (смачиватель) 2

Трихлорэтилен (растворитель) До 100 обрабатывают галогенидосеребряные желатиновые эмульсионные фотопластины Nilleask, Agfa- ечаегй. При удалении (отрываний) пленки лака границу раздела смачивают этиловым спиртом. Выход годных фотошаблонов увеличен в 1,5-2,0 раза.

Повышение степени очистки позволяет значительно увеличить коэффициент использования фотопластин (так как в силу специфики технологии изготовления фотопластин около 90 всех механических загрязнений эмульсионного слоя находится на поверхности или частично внедрены в нее), который в случае изготовления прецизионных фотошаблонов не превышает 0,3 (исключительно из-за дефектности, вызываемой механическими загрязнениями) увеl .1ичить время жизни готовых фотошаб. лонов и обеспечить возможность их частичной реставрации, использовать при изготовлении фотошаблонов как фотопластин, забракованных по механическим загрязнениям, так и фотопластин,загрязнившихся в процессе сверхдопускаемого гарантией срока. Все вышесказанное приобретает особое значение в связи с дефицитом и высокой стоимостью специальныХ высокоразрешающих фотоматериалов для изготовления фотошаблонов. Предлагаемый способ очистки (и консервации) поверхности фотопластин и фотошаблонов может быть использован как при производстве и хранении фотопластин, так и при изготовлении и использовании фотошаблонов.

Способ очистки подложек от поверхностных загрязнений путем нанесения на поверхность подложки пленкообразующего лака, высушивания его и последующего отрывания образовавшейся пленки, отличающийся тем, что, с целью повышения выхода годных изделий при изготовлении фотошаблонов на галогенидсеребряных желатиновых фотоматериалах, в качестве подложки используют эмульсионный спой

954916

Составитель А. Круглов

Редактор И. Тыкей Техред М. Гергель Корректор С. Шекмар

Тираж 488 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Заказ 6428/46

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул,. Проектная, 4

5 фотоматериала, перед операцией нанесения лака желатиновый эмульсионный слой фотоматериала раздубливают, в качестве пленкообразующего лака ис" пользуют лак на основе перхлорвиниловой смолы, а отрывание высушенной пленки лака производят при смачивании границы раздела пленки лака и желатинового эмульсионного слоя этиловым спиртом.

Источники информации, 1О принятые во внимание при экспертизе

1. Александрова Ю. А. и др.

Использование проявления с обращением при изготовлении прецизи- онных фотошаблонов. Электронная о техника", 1971, сер. 14, вып. 1, с. 121 °

2. Технология тонких пленок. Под ред. Майселла Л. и Глэнга P. М., "Советское радио", 1977, с. 542 (прототип).